集成电路布图设计权
集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案
集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案锂电池保护芯片是近年来电池行业重要组成部分之一，其保护性能直接关系到锂电池的使用寿命和安全性。
因此，锂电池保护芯片的布图设计被视为一项重要的技术创新和行业贡献。
然而，随着市场的竞争日益激烈，一些企业未经授权就利用他人的锂电池保护芯片布图设计进行生产和销售，侵犯了布图设计的专有权。
为保护创新和公平竞争，法律对集成电路布图设计的专有权进行规定，下面将以锂电池保护芯片布图设计侵权案为例，探讨其专有权保护范围的确定。
首先，根据《著作权法》和《集成电路布图设计条例》的规定，布图设计的保护范围应包括布图设计本身以及对其应用的实际电路，在理论功能和实际应用上均受到法律保护。
对于锂电池保护芯片布图设计，其保护范围应包括以下几方面：一、布图设计本身的保护锂电池保护芯片布图设计包括了电路结构、线路连接、元器件排布等多个方面，是一种抽象的设计方案。
它具有一定的创造性和智力成果，因此应享有版权保护。
与此同时，根据《集成电路布图设计条例》的规定，布图设计的保护范围应包括以下几个方面：电路结构的拓扑形状、元器件的排列组合、电路阻抗的调节、电路可靠性的改进等。
这些元素合起来构成布图设计的本质特征，是其享有版权保护的主要内容。
在准确界定保护范围时，应结合具体案例进行分析。
比如，若一家企业复制了另一家企业的锂电池保护芯片布图设计，并进行了一定的变形和修改，但其实际应用电路与原设计无异，那么其行为仍应视为侵权。
因为这种侵权行为已经涉及到了布图设计的实际应用，而不仅仅是在设计图纸上的复制行为。
因此，对于锂电池保护芯片布图设计的专有权保护，应综合考虑其理论创新和实际应用，避免过于僵硬划分保护范围而影响正常的技术交流和创新。
二、对其应用的实际电路的保护锂电池保护芯片的布图设计是为实际电路服务的，因此其保护范围也包括电路的实际应用。
具体来说，就是指在产品制造过程中所需要的电路信息，如板子的尺寸、元器件的型号和参数、线路的走向等，这些都由锂电池保护芯片的布图设计提供。
集成电路属于知识产权的保护对象吗
集成电路属于知识产权的保护对象吗集成电路也是属于知识产权保护的范围内，对于集成电路的布图设计目前属于中国的专利范畴，对产品的形状和构造等都涉及到了专利的申请发明，对于创新都是可以申请发明专利的。
一、集成电路属于知识产权的保护对象吗集成电路布图设计在中国的知识产权领域目前属于专利范畴。
中国专利原来分三个种类：发明，实用新型，外观设计。
2001年10月1日起增加了“集成电路布图设计”。
大的原则是：关于产品的形状、图案、色彩或者其结合所作出的富有美感的新设计申请外观设计专利;产品的形状、构造或者其结合所提出的新技术方案，小改进申请实用新型专利，大创新申请发明专利，而涉及方法、成分、系统的新技术方案只能申请发明专利。
布图设计专有权通常由布图设计的创作人，即由完成布图设计的人享有。
如果由多人共同完成，我们国家的法律规定其专有权的归属由合作者约定;未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。
受委托创作的，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定;未作约定或者不明的，其专有权由受托人享有。
集成电路布图设计，根据《集成电路布图设计保护条例》第2条，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
集成电路布图设计专有权，根据《集成电路布图设计保护条例》第7条，是指布图设计权利人享有的下列专有权：(1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;(2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投人商业利用。
【管辖】对于集成电路布图设计专有权权属纠纷案件的管辖，应当区别权属争议发生的原因即合同关系还是侵权行为，分别根据《民事诉讼法》及其司法解释有关合同和侵权案件的管辖规则来确定案件管辖。
对于一般侵权纠纷案件的管辖，根据《民事诉讼法》第29条的规定，因侵权行为提起的诉讼，由侵权行为地或者被告住所地人民法院管辖;上述侵权行为地，根据最高人民法院《关于适用〈中华人民共和国民事诉讼法〉若干问题的意见》第28条的规定，包括侵权行为实施地和侵权结桌发生地。
集成电路布图设计权的保护期限
集成电路布图设计权的保护期限
为了保护布图设计创作人的权利和利益，各国制定了法律，从而产生了布图设计权。
但是布图设计权在保护时间上不能是无限的，否则将不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路的技术发展，因此对布图设计应予以一定的保护期限。
由于保护期限直接关系到集成电路开发商的利益，因而在保护期限上发达国家与发展中国家展开了激烈的争论。
最早保护布图设计的美国在《半导体芯片保护法》中规定保护期为10年。
发展中国家则认为保护期过长，经勿良苦的努力，终于在《华盛顿条约》中将保护期减少为8年，但由于发达国家的抵制，在TRIPS协议中又将保护期延长到10年。
我国《条例》第十二条规定:‘布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。
但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。
”
对于保护期限，陈家骏先生认为:“惟如科技工业之场合，其造成进步之原动力之一即在于互相观摩及利用他人之创作，从而激活自己脑力而创造出其他新技术，故如从人类文明福社之均沾及促进社会整体利益而言，科技产物之保护期实不宜太长，是以10年为妥。
”对布图设计权保护期限的规定既应考虑社会公共利益，又要照顾布图设计创作人及开
发商的利益，还要考虑发展中国家的利益，以及集成电路技术更新的速度。
只有找到这些因素的平衡点，才能恰当规定布图设计的保护期。
尤其是集成电路技术的更新速度越来越快，从长远的利益来看，10年的保护期似乎过长了些。
但当今世界是大国主宰的世界，既然TR 工PS已规定了10年的保护期，我们也只有与其保持一致。
集成电路布图设计权
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汇报人：
目录
集成电路布图设计 权的定义
集成电路布图设计 权的应用和发展
集成电路布图设计 权的申请和审批
集成电路布图设计 权的案例分析
集成电路布图设计 权的保护措施
集成电路布图设计 权的法律风险和防 范措施
集成电路布图设计权 的定义
行政责任：罚款、 没收等
维权途径和措施
行政保护：向国家 知识产权局申请集 成电路布图设计登 记
司法保护：通过民 事诉讼等方式维护 权益
自主保护：加强知 识产权管理，建立 专利预警机制
国际保护：加强国 际合作，共同打击 侵权行为
集成电路布图设计权 的应用和发展
在微电子领域的应用
集成电路布图设计权的应用 范围
审核流程：包括 初审、复审、终 审等环节，确保 申请材料的质量 和审批的公正性。
集成电路布图设计权 的保护措施
保护范围和期限
保护范围：集 成电路布图设
计专有权
保护期限：自 布图设计创作 完成起20年
侵权行为和责任
未经许可制造、 复制、发行或反 向工程
侵犯商业秘密
侵权责任：停止 侵权、赔偿损失 等
THANK YOU
汇报人：
案例地点：中国某地法院
案例处理过Leabharlann 和结果案例背景介绍案例结果分析
添加标题
添加标题
案例处理过程
添加标题
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案例总结与启示
案例启示和意义
保护创新：集成电路布图设计权保护了技术创新和研发成果，鼓励了企业投入研发和创新。
法律维权：集成电路布图设计权的案例展示了法律在保护知识产权方面的重要作用，为权利人 维护自身权益提供了法律支持。
浅析中国《集成电路布图设计保护条例》
浅析中国《集成电路布图设计保护条例》国务院颁布的《集成电路布图设计保护条例》，立足自身的实际情况，借鉴美国、日本等国家和地区的先进立法，在立法中结合我国的实际情况，进行充分协调，这种做法在中国现行知识产权法中是十分可取的，这标志着我国集成电路布图设计专有权制度的初步建立。
这有利于保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。
标签：集成电路布图设计；法律保护；知识产权集成电路的出现是微电子技术革命的动力源与受动者，在技术领域和信息社会具有革命性的意义。
集成电路产业同时是关系到国民经济和社会发展具有战略先导性的行业，是信息产业发展的关键。
根据世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权公约》的规定，集成电路布图设计是指集成电路中多个原件，其至少由一个有源元件组成，或者全部集成电路互连的三维配置，以执行某种电子功能。
集成电路布图设计作为人类高科技成果，是知识产权的客体之一。
目前我国集成电路出现核心技术受制于人，缺乏自主创新能力的局面。
针对存在的这一系列问题，我国需借鉴其他国家立法及国际公约的先进经验，加强对该智力成果的法律保护，也为激励集成电路布图设计人自主创新提供强有力的保障。
一、主要国家的立法概况美国是集成电路的发源地，于1984年率先实施《半导体芯片保护法》，以单独立法的方式来保护集成电路布图设计。
该法对集成电路的掩膜层的专有权利中规定权利人有权进口或销售包含有该掩膜层的半导体芯片产品。
这种产品包含两层含义：一是含有布图设计图层的芯片，二是用前项制造出的产品。
美国这种立法模式影响到1989年缔结的《华盛顿条约》和1994年达成的《TRIPS协定》。
继美国出台的《半导体芯片保护法》之后，日本于1985年5月31日颁布了《半导体集成电路的线路布局法》，该法的立法体与内容同美国《半导体芯片保护法》极为相似，也将布图作为单独民事关系客体来保护。
受美国和日本立法的影响，欧共体于1986年12月16日颁布了《关于保护半导体芯片产品拓图委员会指令》，要求各成员国根据指令，通过授予专有权的形式来保护半导体产品的布图设计。
集成电路布图设计专有权的侵权判定
集成电路布图设计专有权的侵权判定集成电路布图设计是现代电子设计中不可或缺的一部分。
它可以实现在一个芯片上集成多个电路功能模块，从而提高电路的效率、可靠性和整体性能。
然而，由于其特殊性，集成电路布图设计也被视为一种知识产权，其专有权保护具有重要意义。
本文将探讨集成电路布图设计专有权的侵权判定问题。
一、集成电路布图设计的专有权1.1 集成电路布图设计的定义集成电路布图设计是指将电路的设计原理图转化为实际的电路版图的过程，包括元器件的布局、线路的连接和制造层次的确定，从而实现电路功能的实现。
1.2 集成电路布图设计的专有权集成电路布图设计依据我国《专利法》的规定，包括专利权和专有权两个方面，其中专有权也称为板块图设计权，属于著作权范畴。
专有权保护的是集成电路布图设计的图形表现，即设计师原创的布图图案。
1.3 集成电路布图设计的专有权保护标准根据我国《著作权法》相关规定，集成电路布图设计必须具备原创性、表达性和创作独立性的特征。
同时，由于集成电路布图设计具有实用性、技术性和创新性的特质，因此其保护标准要求相对较高，必须具有一定的独创性，且满足实际应用需求。
二、集成电路布图设计侵权2.1 集成电路布图设计侵权定义集成电路布图设计侵权是指没有获得设计权人同意，擅自使用、复制、出版、转载、展示、发行集成电路布图设计的行为。
2.2 集成电路布图设计侵权形式集成电路布图设计侵权形式多种多样，主要包括以下几种：（1）盗用他人的集成电路布图设计；（2）擅自修改、复制、利用他人的集成电路布图设计；（3）未获得专有权人的授权，利用和复制其设计；（4）贩卖、出售盗版集成电路布图设计；（5）抄袭他人的集成电路布图设计等。
2.3 集成电路布图设计侵权的法律责任针对集成电路布图设计专有权侵权行为，我国法律规定了针对性的法律法规。
依据相关法律规定，集成电路布图设计专有权的侵权行为需要承担民事、行政和刑事责任，具体如下：（1）民事责任对于侵犯他人集成电路布图设计专有权的行为，受害人可以依据《著作权法》相关法律规定，向法院提起民事诉讼，要求停止侵权、撤销侵权行为、赔偿损失等。
第二十五章 集成电路布图设计权
第二十五章集成电路布图设计权第一节集成电路布图设计权概述一、集成电路布图设计1.集成电路是以蚀刻工艺技术将特定模型置于两层以上金属的绝缘物或半导体的涂层之上，并使其发挥电子电路技术功能的电子产品。
包括布图设计和工艺技术。
集成电路属于微电子技术的范畴，是现代电子信息的基础，它具有体积小、速度快、能耗低的特点，被广泛应用于各种电子产品。
2.集成电路布图设计是集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
二、集成电路布图设计权概述（一）保护模式1.集成电路布图设计具有智力资源密集、资金消耗大、复制成本低的特点，依照拍摄电路涂层所得到的照片掩膜即可便捷地完成复制工作，所以有必要立法保护。
2.集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但其并不取决于集成电路的外观，而决定于具有电子功能的每一元件的实际位置，故不属于专利法上的工业品外观设计；此外，布图设计技术发展迅速，产品更新很快，而专利审查耗时较长，不宜采用耗费时间较多的专利法保护。
3.集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计，是一种由电子元件及其连线所组成、执行着某种电子功能的电子产品，不表现任何思想，不以其“艺术性”作为法律保护的条件，这不同于著作权法上的图形作品或造型艺术作品；此外，著作权保护期长，如果将布图设计作为一般作品保护，不利于集成电路产业的发展。
4.由于专利法、著作权法对集成电路布图设计无法给予有效保护，世界各国转而单行立法，确认布图设计的专有权，即给予其他知识产权的保护。
（二）保护条件1.主体资格。
我国《条例》第3条规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
6种知识产权类型
6种知识产权类型知识产权是指由人类创造的智力成果所带来的权益，主要包括专利权、商标权、著作权、商业秘密、集成电路布图设计权和植物新品种权。
下面将分别介绍这六种知识产权类型。
1. 专利权专利权是指对发明的技术解决方案所享有的独占权。
通过申请专利，发明人可以在一定时间内独自享有该技术的生产、使用和销售权。
专利权的保护范围涵盖了技术领域的各个方面，包括产品、方法、工艺等。
专利权的保护有效期限一般为20年。
2. 商标权商标权是指对商标所享有的独占权。
商标是用于区分商品或服务来源的标识，可以是文字、图形、颜色、声音等形式。
商标权的保护范围包括了商标在特定商品或服务上的独占使用权，其他人未经授权不得使用相同或相似的商标。
商标权的保护期限可以无限期延续，只要商标持续使用并按时续展注册。
3. 著作权著作权是指对文学、艺术和科学作品所享有的独占权。
著作权的保护范围包括了文字、音乐、美术、摄影、电影、软件等各种表达形式。
著作权的保护期限一般为作者终身加70年，对于法人或组织创作的作品，保护期限为作品首次发表的年份加50年。
4. 商业秘密商业秘密是指企业经营活动中的商业信息，具有经济价值并经过合理保密措施保护的知识产权。
商业秘密可以包括技术方案、客户列表、销售策略、商业计划等。
商业秘密的保护范围主要是防止他人通过非法手段获取和使用商业秘密，对于泄露商业秘密的行为可以追究法律责任。
5. 集成电路布图设计权集成电路布图设计权是指对集成电路的布图设计所享有的独占权。
集成电路是半导体芯片上的电子元件和电气连接的布图设计，包括了电路的拓扑结构和布线等。
集成电路布图设计权的保护范围主要是禁止他人未经授权复制、制造、销售和进口该布图设计。
6. 植物新品种权植物新品种权是指对新发现或新培育的植物品种所享有的独占权。
植物新品种是指经过人工培育或选择繁殖而形成的植物群体，具有一定的稳定性、一致性和独特性。
植物新品种权的保护范围主要是禁止他人未经授权生产、销售和使用该植物新品种。
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集成电路布图设计权一九四七年二月二十三日，在美国的贝尔实验室，巴丁、布拉顿和肖克莱发明了世界上第一只晶体管。
在当时，谁也不曾料到，这小小晶体管的发明竟然拉开了二十世纪后半叶新技术革命的序幕。
五十年代，人们发明了平面工艺，很快制出了集成电路。
在此后三十多年的时间里，集成电路以令人瞠目的速度迅猛发展，集成规模由小规模发展到中规模，继而又发展为大‘规模、超大规模。
今天，人们已可在一块平方毫米的硅片上集成亿个元件（64MDRAM的集成度）。
技术的进步大大地拓宽了集成电路的应用领域；发挥着巨大的作用，因此，世界各国都投入了大量人力、物力研究和开发集成电路技术。
与此同时，也有一些厂商以各种方式获取他人的技术，利用他人的技术成果牟取暴利。
正是在这样一种情形下，集成电路酌法律保护问题开始受到有关各界以及发的关注，为此，一些工业发达国家相继颁布关保护集成电路保护的法律，保护集成电成为世界的共识。
我国对集成电路知识产，保护一直采取积极的态度，为集成电路同护制度作出了重要的贡献，并已在一九八九年五月通过的世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》文本上签字。
集成电路的知识产权保护问题已摆在了我们面前，有必要文进行认真的研究。
一、集成电路布图设计的概念集成电路的布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件的配置方式的图形。
集成电路的设计过程通常分为两个部分：版图设计和工艺。
所谓版图设计是将电子线路中的各个元器件及其相互连线转化为一层或多层的平面图形，将这些多层图形按一定的顺序逐次排列构成三维图形结构；这种图形结构即为布图设计。
制造集成电路就是把这种图形结构通过特定的工艺方法，“固化”在硅片之中，使之实现一定的电子功能。
所以，集成电路是根据要实现的功能而设计的。
不同的功能对应不同的布图设计。
从这个意义上说，对布图设计的保护也就实现了对集成电路的保护。
集成电路作为一种工业产品，应当受到专利法的保护。
但是，人们在实践中发现，由于集成电路本身的特性，大部分集成电路产品不能达到专利法所要求的创造性高度，所以得不到专利法的保护。
于是，在一九七九年，美国众议院议员爱德华（Edward）首次提出了以著作权法来保护集成电路的议案。
但由于依照著们法将禁止以任何方式复制他人作品，这样实施反向工程也将成为非法，因此，这一议案在当时被议会否决。
尽管如此，它对后来集成电路保护的立法仍然有着重要意义，因为它提出了以保护布图设计的方式来保护集成电路的思想；在这基础上，美国于1984年颁布了《半导体芯。
片保护法》；世界知识产权组织曾多次召集专家会议和政府间外交会议研究集成电路保护问题，逐渐形成了以保护布图设计方式实现对集成电路保护的一致观点，终于在一九八九年缔结了《关于保护集成电路知识产权条约》。
在此期间，其他一些国家颁布的集成电路保护法都采用了这一方式。
虽然世界各国的立法均通过保护布图设计来保护集成电路，但关于布图设计的名称却各不相同。
美国在它的《半导体芯片保护法，）中称之为“掩模作品”（maskwork）；在日本的《半导体集成电路布局法》中称之为“线路布局”（cir—cuitlayout）；而欧共体及其成员国在其立法中称布图设计为“形貌结构”（topography）；世界知识产权组织在《关于集成电路知识产权条约》中将其定名为布图设计。
笔者以为，在这所有的名称中以“布图设计”一词为最佳。
“掩模作品”一词取意于集成电路生产中的掩模。
“掩模作品”一词已有过时落后之嫌，而“线路布局”一词又难免与电子线路中印刷线路版的布线、设计混淆。
“形貌结构”一词原意为地貌、地形，并非电子学术语。
相比之下，还是世界知识产权组织采用的“布图设计”一词较为妥当。
它不仅避免了其他名词的缺陷，同时这一名词本身已在产业界及有关学术界广泛使用。
《中国大百科全书》中亦有“布图设计”的专门词条‘二、布图设计的特征布图设计有着与其他客体相同的共性，同时也存在着自己所特有的个性。
下面将分别加以论述。
1.集成电路布图设计具有无形性无形性是各种知识产权客体的基本特性，，因此也是布图设计作为知识产权客体的必要条件。
布图设计是集成电路中所有元器件的配置方式，这种“配置方式”本身是抽象的、无形的，它没有具体的形体，是以一种信息状态存在于世的，不象其他有形物体占据一定空间。
布图设计本身是无形的，但是当它附着在一定的载体上时，就可以为人所感知。
前面提到布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形，这种图形是可见的。
同样，在掩模版上布图设计也是以图形方式存在的。
计算机辅助设计技术的发展，使得布图设计可以数据代码的方式存储在磁盘或磁带中。
在计算机控制的离子注入机或者电子束曝光装置中，布图设计也是以一系列的代码方式存在。
人们可通过一定方式感知这些代码信息。
布图设计是无形的，但是其载体，如掩模版、磁带或磁盘等等却可以是有形的。
2.布图设计具有可复制性通常，我们说著作权客体具有可复制性，布图设计同样也具有著作权客体的这一特征。
当载体为掩模版时，布图设计以图形方式存在。
这时，只需对全套掩模版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。
当布图设计以磁盘或磁带为载体时，同样可以用通常的磁带或磁盘拷贝方法复制布图设计。
当布图设计被“固化”到已制成的集成电路产品之中时，复制过程相对复杂一些。
复制者首先需要去除集成电路的外封装；再去掉芯片表面的钝化层；然后采用不同的腐蚀液逐层剥蚀芯片，并随时拍下各层图形的照片，经过一定处理后便可获得这种集成电路的全部布图设计。
这种从集成电路成品着手，利用特殊技术手段了解集成电路功能、设计特点，获得其布图设计的方法被称为“反向工程”。
在集成电路产业中，这种反向工程被世界各国的厂商广泛采用。
集成电路作为现代信息工业的基础产品，已渗透到电子工业的各个领域，其通用性或兼容性对技术的发展有着非常重要的意义。
因此，而反向工程为生产厂商了解其他厂商的产品状况提供了可能。
如果实施反向工程不是单纯地为复制他人布图设计以便仿制他人产品，而是通过反向工程方法了解他人品功能、参数等特性，以便设计出与之兼容的其他电路产品，或者在别人设计的基础上加以改进，制造出更先进的集成电路，都应当认为是合理的。
著作权法中有合理使用的规定，但这种反向工程的特许还不完全等同于合理使用。
比如，合理使用一般只限于复制原作的一部分，而这里的反向工程则可能复制全套布图设计。
改编权是著作权的权能之一，他人未经著作权人同意而擅自修改其作品的行为是侵权行为，但这里对原布图设计的改进则不应视为侵权。
综之，无论何种载体，布图设计是具有可复制性的。
3.布图设计的表观形式具有非任意性著作权客体的表现形式一般是没有限制的。
同一思想，作者可随意采取各种形式来表达，因此著作权法对其表现形式的保护并不会导致对思想的垄断。
布图设计虽然在集成电路芯片中或掩模版上以图形的方式存在，具备著作权客体的外在特性，但是其表现形式因受诸多客观因素的限制，却是有限的或者非任意的。
首先，布图设计图形的形状及其大小受着集成电路参数要求的限制。
如果要求集成电路具有较高的击穿电压，设计人在完成布图设计时就必须将晶体管的基区图形设计为圆形，以克服结面曲率半径较小处电场过于集中的影响。
对于用于功率放大的集成电路，其功放管图形的面积必须较大，使之得以承受大电流的冲击。
其次，布图设计还受着生产工艺水平的限制。
为了提高集成电路的集成度或者追求高频特性，常常需将集成电路中各元件的面积减小。
这样，布图设计的线条宽度也相对较细。
目前国。
外已达到亚微米的数量级。
但如果将线条设计得太细，以致工艺难度太大将会大大地降低集成电路成品率和可靠性，这是极不经济的；同样地，如果一味，地追求功率参数，将芯片面积增大，也会降低集成电路的成品率。
此外，布图设计还受着一些物理定律以及材料类及其特性等多种因素的限制。
比如，晶体管可能因为基区自偏压效应而导致发射极间的电位不等。
为克服基区自偏压效应，则需在加上均压图形。
虽然从理论上讲，突破这些限制条件的图形也可以受到著作权的保护，但由于布图设计的价值仅仅体现在工业生产中，所以对那些完全没有实用价值的、由设计人自由挥洒出来的所谓“布图设计”实施保护是没有任何意义的。
这些图形不是真正意义上的布图设计，称其为一种“抽象作品”或许更为恰当。
布图设计在表现形式的有限性方面，与工业产权客体相似。
三、布图设计权的特性从上面的分析可知，集成电路布图设计有其自身的特征，并同时兼备著作权客体和工业产权客体的特性。
在立法保护布图设计、规定创作人的布图设计权时，应当考虑这一特点。
首先，布图设计权应具备知识产权的共同特性，即专有性；时间性和地域性。
布图设计具有无形性，同一布图设计可能同时为多数人占有或使用。
为保障布图设计创作人的利益，布图设计权应当是一项专有权利。
另一方面，布图设计的价值毕竟是通过其工业应用才得以实现。
仅就一特定的布图设计而言，使用它的人越多，为社会创造的价值就越大。
如果布图设计权在时间上是无限的，则不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路技术的发展。
所以布图设计权应有一定时间期限。
当然，对时间期限的具体规定应当既考虑公共利益，又照顾到创作人的个人权益。
只有找到二者的平衡点，才是利益分配的最佳状态。
地域性作为知识产权的共性之一，同样为布图设计权所具备，在世界知识产权组织的《关于集成电路的知识产权条约》第三条；第四条和第五条的内容都涉地域问题，这实际上肯定了布图设计权的地域性。
其次，布图设计权还具有其独特的个性。
下面将其分别与著作权和工业产权相对照，从而分析其特点。
1.布图设计权的产生方式与著作权不同，只有在履行一定的法律程序后才能产生。
集成电路作为一种工业产品，一旦投放市场将被应用于各个领域，性能优良的集成电路可能会因其商业价值引来一些不法厂商的仿冒。
另一方面，由于集成电路布图设计受到诸多因素的限制，其表现形式是有限的，这就可能存在不同人完全独立地设计出具有相同实质性特点的布图设计的情况。
这就是说，布图设计具有一定的客观自然属性，其人身性远不及普通著作权客体那样强。
所以法律在规定布图设计权的产生时，必须对权利产生方式作出专门规定，否则便无法确认布图设计在原创人和仿冒人之间，以及不同的独立原创人之间的权利归属。
2.布图设计权中的复制权，与著作权中的复制权相比，受到更多的限制。
翻开各国集成电路技术的发展史，反向工程在技术的发展中有着不可取代的作用。
如果照搬著作权法中关于复制权地规定，实施反向工程将被认为是侵权行为。
为了电子工业和集成电路技术的发展，应当对复制权加以一定的限制，允许在一定条件下或合理范围内实施反向工程，美国《半导体芯片保护法》第906条第一款中规定，“仅为了教学、分析或评价掩模作品中的概念或技术，或掩模作品中所采用的电路、逻辑流和图及元件的布局而复制该掩模作品者”；或进行上述的“分析或评价，以便将这些工作的结果用于为销售而制造的具有原创性的掩模作品之中者”均不构成侵犯掩模作品专有权。