集成电路布图设计专有权
集成电路布图设计专有权撤销审查办法

集成电路布图设计专有权撤销审查办法(草案)(征求意见稿)第一条为了规范集成电路布图设计(以下简称布图设计)专有权撤销程序,根据《集成电路布图设计保护条例》(以下简称条例),制定本办法。
第二条国家知识产权局专利复审委员会(以下简称专利复审委员会)按照客观、公正、准确、及时的要求,依法审查集成电路布图设计专有权撤销案件。
第三条专利复审委员会发现已登记的布图设计存在不符合条例有关规定的情形的,应当依据本办法进行立案和审查。
任何单位或者个人认为已登记的布图设计不符合条例有关规定的,可以向专利复审委员会提出撤销意见,专利复审委员会依据条例的有关规定决定是否对该布图设计进行立案和审查。
第四条撤销布图设计专有权的理由包括:(一)获准登记的布图设计不属于条例第二条第一项规定的集成电路或者第二项规定的集成电路布图设计;(二)获准登记的布图设计的主体不符合条例第三条的规定;(三)获准登记的布图设计不具备条例第四条规定的独创性;(四)获准登记的布图设计属于条例第五条排除保护的内容;(五)获准登记的布图设计不符合条例第十二条规定的期限;(六)获准登记的布图设计属于条例第十七条规定的不予登记的情形。
第五条提出撤销意见时,撤销意见提出人应当以面交或者邮寄的形式向专利复审委员会提交撤销意见书,说明理由,必要时应当附具有关证据。
撤销意见提出人可以补充、变更撤销理由或者补充证据,但应当在撤销意见提出之日起一个月内提交,逾期提交的,专利复审委员会可以不予考虑。
第六条专利复审委员会决定对已登记的布图设计进行立案和审查的,应当向布图设计权利人发出立案通知书,要求布图设计权利人在收到该通知书之日起一个月内陈述意见,必要时附具有关证据。
有撤销意见提出人的,专利复审委员会还应当将是否立案的通知书送达撤销意见提出人。
专利复审委员会决定对布图设计进行立案和审查的,审查范围不受撤销意见提出人所提出的理由和证据的限制。
第七条专利复审委员会组成合议组对布图设计专有权撤销案件进行审查。
第一编 第六章 集成电路布图设计的保护——集成电路布图设计保护法

(三)集成电路布图设计样品 1所提交的 件样品应当置于能保证其 所提交的4件样品应当置于能保证其 不受损坏的专有器具中, 不受损坏的专有器具中,并附具填写好的 国家知识产权局统一编制的表格。 国家知识产权局统一编制的表格。 2器具表面应当写明申请人的姓名、申 器具表面应当写明申请人的姓名、 请号和集成电路名称。 请号和集成电路名称。 3器具中的集成电路样品应当采用适当 的方式固定,不得有损坏, 的方式固定,不得有损坏,并能够在干燥 器中至少存放10年 器中至少存放 年。 (四)国务院知识产权行政部门规定的其他 材料
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第三节 获得集成电路布图设计 专有权的登记程序
一、登记申请 按照条例第16条的规定 提出登记申请, 条的规定, 按照条例第 条的规定,提出登记申请, 应当提交以下文件: 应当提交以下文件: (一)集成电路布图设计申请表 (二)集成电路布图设计的复制件或者图 样 1复制件或者图样的纸件应当至少放大 到用该集成电路布图设计生产的集成电路 倍以上。 的20倍以上。申请人可以同时提供该复制 倍以上 件或者图样的电子版本。 件或者图样的电子版本。
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第四节 集成电路布图设计 专有权的内容及其限制
一、集成电路布图设计专有权的内容 1复制权。 复制权。 2商业利用权。 商业利用权。 二、集成电路布图设计专有权的限制 (一)合理使用行为 (二)权利用尽 (三)强制许可 (四)保护期限
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第五节 侵害集成电路布图设计 专有权的法律后果
知识产权法总论
总主编 王利明 李扬 著
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第六章 集成电路布图设计的 保护——集成电路布图设计保护法 保护 集成电路布图设计保护法
集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案

集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案锂电池保护芯片是近年来电池行业重要组成部分之一,其保护性能直接关系到锂电池的使用寿命和安全性。
因此,锂电池保护芯片的布图设计被视为一项重要的技术创新和行业贡献。
然而,随着市场的竞争日益激烈,一些企业未经授权就利用他人的锂电池保护芯片布图设计进行生产和销售,侵犯了布图设计的专有权。
为保护创新和公平竞争,法律对集成电路布图设计的专有权进行规定,下面将以锂电池保护芯片布图设计侵权案为例,探讨其专有权保护范围的确定。
首先,根据《著作权法》和《集成电路布图设计条例》的规定,布图设计的保护范围应包括布图设计本身以及对其应用的实际电路,在理论功能和实际应用上均受到法律保护。
对于锂电池保护芯片布图设计,其保护范围应包括以下几方面:一、布图设计本身的保护锂电池保护芯片布图设计包括了电路结构、线路连接、元器件排布等多个方面,是一种抽象的设计方案。
它具有一定的创造性和智力成果,因此应享有版权保护。
与此同时,根据《集成电路布图设计条例》的规定,布图设计的保护范围应包括以下几个方面:电路结构的拓扑形状、元器件的排列组合、电路阻抗的调节、电路可靠性的改进等。
这些元素合起来构成布图设计的本质特征,是其享有版权保护的主要内容。
在准确界定保护范围时,应结合具体案例进行分析。
比如,若一家企业复制了另一家企业的锂电池保护芯片布图设计,并进行了一定的变形和修改,但其实际应用电路与原设计无异,那么其行为仍应视为侵权。
因为这种侵权行为已经涉及到了布图设计的实际应用,而不仅仅是在设计图纸上的复制行为。
因此,对于锂电池保护芯片布图设计的专有权保护,应综合考虑其理论创新和实际应用,避免过于僵硬划分保护范围而影响正常的技术交流和创新。
二、对其应用的实际电路的保护锂电池保护芯片的布图设计是为实际电路服务的,因此其保护范围也包括电路的实际应用。
具体来说,就是指在产品制造过程中所需要的电路信息,如板子的尺寸、元器件的型号和参数、线路的走向等,这些都由锂电池保护芯片的布图设计提供。
集成电路布图设计保护条例实施细则(国家知识产权局局长令第11号,2001年10月1日起施行)

集成电路布图设计保护条例实施细则国家知识产权局局长令第11号根据《集成电路布图设计保护条例》,特制定《集成电路布图设计保护条例实施细则》,现予公布,自2001年10月1日起施行。
第一章总则第一条宗旨为了保护集成电路布图设计(以下简称布图设计)专有权,促进我国集成电路技术的进步与创新,根据《集成电路布图设计保护条例》(以下简称条例),制定本实施细则(以下简称本细则)。
第二条登记机构条例所称的国务院知识产权行政部门是指国家知识产权局。
第三条办理手续需用的形式条例和本细则规定的各种文件,应当以书面形式或者以国家知识产权局规定的其他形式办理。
第四条代理机构中国单位或者个人在国内申请布图设计登记和办理其他与布图设计有关的事务的,可以委托专利代理机构办理。
在中国没有经常居所或者营业所的外国人、外国企业或者外国其他组织在中国申请布图设计登记和办理其他与布图设计有关的事务的,应当委托国家知识产权局指定的专利代理机构办理。
第五条申请文件和申请日的确定向国家知识产权局申请布图设计登记的,应当提交布图设计登记申请表和该布图设计的复制件或者图样;布图设计在申请日以前已投入商业利用的,还应当提交含有该布图设计的集成电路样品。
国家知识产权局收到前款所述布图设计申请文件之日为申请日。
如果申请文件是邮寄的,以寄出的邮戳日为申请日。
第六条文件的语言依照条例和本细则规定提交的各种文件应当使用中文。
国家有统一规定的科技术语的,应当采用规范词;外国人名、地名和科技术语没有统一中文译文的,应当注明原文。
依照条例和本细则规定提交的各种证件和证明文件是外文的,国家知识产权局认为必要时,可以要求当事人在指定期限内附送中文译文;期满未附送的,视为未提交该证件和证明文件。
第七条文件的递交和送达向国家知识产权局邮寄的各种文件,以寄出的邮戳日为递交日。
邮戳日不清晰的,除当事人能够提出证明外,以国家知识产权局收到文件之日为递交日。
国家知识产权局的各种文件,可以通过邮寄、直接送交或者其他方式送达当事人。
集成电路知识产权

集成电路知识产权集成电路知识产权是指与集成电路相关的各种知识产权,包括专利、商标、著作权等。
在现代社会中,集成电路已经广泛应用于各个领域,如计算机、通信、汽车、医疗等。
因此,保护集成电路知识产权显得尤为重要。
一、专利专利是指对发明者的创造性发明进行保护的一种法律制度。
在集成电路领域中,专利可以保护厂商对其自主研发的芯片技术和设计进行保护。
特别是对于新型芯片设计和制造工艺的发明,通过申请专利可以有效地防止他人的侵权行为。
二、商标商标是指用于区分商品或服务来源的标志。
在集成电路领域中,商标可以用来区分不同厂商所生产的芯片产品。
因此,在注册商标时需要注意选择与芯片相关的名称和图案,并且确保其独特性,以避免与其他厂商混淆。
三、著作权著作权是指对文学、艺术和科学作品享有的法律保护。
在集成电路领域中,著作权可以保护芯片的软件程序和设计图纸等。
因此,厂商需要对其自主研发的软件程序和设计图纸进行著作权登记,以防止他人的侵权行为。
四、集成电路布图设计专有权集成电路布图设计专有权是指对集成电路布图设计所享有的法律保护。
在集成电路领域中,布图设计是芯片制造过程中不可或缺的一部分。
因此,对于芯片布图设计的保护显得尤为重要。
通过申请集成电路布图设计专有权可以有效地保护厂商对其自主研发的芯片布图进行保护。
综上所述,保护集成电路知识产权是现代社会中非常重要的一部分。
通过申请专利、商标、著作权和集成电路布图设计专有权等各种知识产权,可以有效地防止他人对厂商自主研发的芯片技术和设计进行侵犯。
同时,也可以促进芯片行业的健康发展。
集成电路布图设计权

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汇报人:
目录
集成电路布图设计 权的定义
集成电路布图设计 权的应用和发展
集成电路布图设计 权的申请和审批
集成电路布图设计 权的案例分析
集成电路布图设计 权的保护措施
集成电路布图设计 权的法律风险和防 范措施
集成电路布图设计权 的定义
行政责任:罚款、 没收等
维权途径和措施
行政保护:向国家 知识产权局申请集 成电路布图设计登 记
司法保护:通过民 事诉讼等方式维护 权益
自主保护:加强知 识产权管理,建立 专利预警机制
国际保护:加强国 际合作,共同打击 侵权行为
集成电路布图设计权 的应用和发展
在微电子领域的应用
集成电路布图设计权的应用 范围
审核流程:包括 初审、复审、终 审等环节,确保 申请材料的质量 和审批的公正性。
集成电路布图设计权 的保护措施
保护范围和期限
保护范围:集 成电路布图设
计专有权
保护期限:自 布图设计创作 完成起20年
侵权行为和责任
未经许可制造、 复制、发行或反 向工程
侵犯商业秘密
侵权责任:停止 侵权、赔偿损失 等
THANK YOU
汇报人:
案例地点:中国某地法院
案例处理过Leabharlann 和结果案例背景介绍案例结果分析
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案例处理过程
添加标题
添加标题
案例总结与启示
案例启示和意义
保护创新:集成电路布图设计权保护了技术创新和研发成果,鼓励了企业投入研发和创新。
法律维权:集成电路布图设计权的案例展示了法律在保护知识产权方面的重要作用,为权利人 维护自身权益提供了法律支持。
集成电路布图设计专有权的侵权判定

集成电路布图设计专有权的侵权判定集成电路布图设计是现代电子设计中不可或缺的一部分。
它可以实现在一个芯片上集成多个电路功能模块,从而提高电路的效率、可靠性和整体性能。
然而,由于其特殊性,集成电路布图设计也被视为一种知识产权,其专有权保护具有重要意义。
本文将探讨集成电路布图设计专有权的侵权判定问题。
一、集成电路布图设计的专有权1.1 集成电路布图设计的定义集成电路布图设计是指将电路的设计原理图转化为实际的电路版图的过程,包括元器件的布局、线路的连接和制造层次的确定,从而实现电路功能的实现。
1.2 集成电路布图设计的专有权集成电路布图设计依据我国《专利法》的规定,包括专利权和专有权两个方面,其中专有权也称为板块图设计权,属于著作权范畴。
专有权保护的是集成电路布图设计的图形表现,即设计师原创的布图图案。
1.3 集成电路布图设计的专有权保护标准根据我国《著作权法》相关规定,集成电路布图设计必须具备原创性、表达性和创作独立性的特征。
同时,由于集成电路布图设计具有实用性、技术性和创新性的特质,因此其保护标准要求相对较高,必须具有一定的独创性,且满足实际应用需求。
二、集成电路布图设计侵权2.1 集成电路布图设计侵权定义集成电路布图设计侵权是指没有获得设计权人同意,擅自使用、复制、出版、转载、展示、发行集成电路布图设计的行为。
2.2 集成电路布图设计侵权形式集成电路布图设计侵权形式多种多样,主要包括以下几种:(1)盗用他人的集成电路布图设计;(2)擅自修改、复制、利用他人的集成电路布图设计;(3)未获得专有权人的授权,利用和复制其设计;(4)贩卖、出售盗版集成电路布图设计;(5)抄袭他人的集成电路布图设计等。
2.3 集成电路布图设计侵权的法律责任针对集成电路布图设计专有权侵权行为,我国法律规定了针对性的法律法规。
依据相关法律规定,集成电路布图设计专有权的侵权行为需要承担民事、行政和刑事责任,具体如下:(1)民事责任对于侵犯他人集成电路布图设计专有权的行为,受害人可以依据《著作权法》相关法律规定,向法院提起民事诉讼,要求停止侵权、撤销侵权行为、赔偿损失等。
第二十五章 集成电路布图设计权

第二十五章集成电路布图设计权第一节集成电路布图设计权概述一、集成电路布图设计1.集成电路是以蚀刻工艺技术将特定模型置于两层以上金属的绝缘物或半导体的涂层之上,并使其发挥电子电路技术功能的电子产品。
包括布图设计和工艺技术。
集成电路属于微电子技术的范畴,是现代电子信息的基础,它具有体积小、速度快、能耗低的特点,被广泛应用于各种电子产品。
2.集成电路布图设计是集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
二、集成电路布图设计权概述(一)保护模式1.集成电路布图设计具有智力资源密集、资金消耗大、复制成本低的特点,依照拍摄电路涂层所得到的照片掩膜即可便捷地完成复制工作,所以有必要立法保护。
2.集成电路布图设计实质上是一种图形设计,但其并不取决于集成电路的外观,而决定于具有电子功能的每一元件的实际位置,故不属于专利法上的工业品外观设计;此外,布图设计技术发展迅速,产品更新很快,而专利审查耗时较长,不宜采用耗费时间较多的专利法保护。
3.集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计,是一种由电子元件及其连线所组成、执行着某种电子功能的电子产品,不表现任何思想,不以其“艺术性”作为法律保护的条件,这不同于著作权法上的图形作品或造型艺术作品;此外,著作权保护期长,如果将布图设计作为一般作品保护,不利于集成电路产业的发展。
4.由于专利法、著作权法对集成电路布图设计无法给予有效保护,世界各国转而单行立法,确认布图设计的专有权,即给予其他知识产权的保护。
(二)保护条件1.主体资格。
我国《条例》第3条规定,中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权;外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权;外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
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集成电路布图设计转悠权
服务介绍
布图设计专有权,是指通过申请注册后,依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。
集成电路布图设计申请阶段需提交的材料:
一、集成电路布图设计登记申请表。
二、集成电路布图设计的复制件或者图样。
三、集成电路布图设计未投入商业利用的,提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。
集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。
四、国家知识产权局规定的其他材料。
流程介绍
一、申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;
二、初审;
三、登记并公告;
四、对驳回申请的复审;
五、登记的撤销。