浅析中国《集成电路布图设计保护条例》
第一编 第六章 集成电路布图设计的保护——集成电路布图设计保护法
（三）集成电路布图设计样品 1所提交的 件样品应当置于能保证其 所提交的4件样品应当置于能保证其 不受损坏的专有器具中， 不受损坏的专有器具中，并附具填写好的 国家知识产权局统一编制的表格。 国家知识产权局统一编制的表格。 2器具表面应当写明申请人的姓名、申 器具表面应当写明申请人的姓名、 请号和集成电路名称。 请号和集成电路名称。 3器具中的集成电路样品应当采用适当 的方式固定，不得有损坏， 的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥 器中至少存放10年 器中至少存放 年。 （四）国务院知识产权行政部门规定的其他 材料
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第三节 获得集成电路布图设计 专有权的登记程序
一、登记申请 按照条例第16条的规定 提出登记申请， 条的规定， 按照条例第 条的规定，提出登记申请， 应当提交以下文件： 应当提交以下文件： （一）集成电路布图设计申请表 （二）集成电路布图设计的复制件或者图 样 1复制件或者图样的纸件应当至少放大 到用该集成电路布图设计生产的集成电路 倍以上。 的20倍以上。申请人可以同时提供该复制 倍以上 件或者图样的电子版本。 件或者图样的电子版本。
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第四节 集成电路布图设计 专有权的内容及其限制
一、集成电路布图设计专有权的内容 1复制权。 复制权。 2商业利用权。 商业利用权。 二、集成电路布图设计专有权的限制 （一）合理使用行为 （二）权利用尽 （三）强制许可 （四）保护期限
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第五节 侵害集成电路布图设计 专有权的法律后果
知识产权法总论
总主编 王利明 李扬 著
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第六章 集成电路布图设计的 保护——集成电路布图设计保护法 保护 集成电路布图设计保护法
最新(完美版)集成电路
第十一章集成电路布图设计保护条例一、集成电路布图设计专有权的客体相关法条Ⅰ《集成电路布图设计保护条例》第二条本条例下列用语的含义：（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第五条本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
相关法条Ⅰ《集成电路布图设计保护条例》第四条受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
二、集成电路布图设计专有权的主体相关法条Ⅰ《集成电路布图设计保护条例》第三条中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
相关法条Ⅰ《集成电路布图设计保护条例》第九条【职务与非职务布图设计归属】布图设计专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。
由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。
集成电路布图设计保护条例实施细则(国家知识产权局局长令第11号,2001年10月1日起施行)
集成电路布图设计保护条例实施细则国家知识产权局局长令第11号根据《集成电路布图设计保护条例》，特制定《集成电路布图设计保护条例实施细则》，现予公布，自2001年10月1日起施行。
第一章总则第一条宗旨为了保护集成电路布图设计(以下简称布图设计)专有权，促进我国集成电路技术的进步与创新，根据《集成电路布图设计保护条例》(以下简称条例)，制定本实施细则(以下简称本细则)。
第二条登记机构条例所称的国务院知识产权行政部门是指国家知识产权局。
第三条办理手续需用的形式条例和本细则规定的各种文件，应当以书面形式或者以国家知识产权局规定的其他形式办理。
第四条代理机构中国单位或者个人在国内申请布图设计登记和办理其他与布图设计有关的事务的，可以委托专利代理机构办理。
在中国没有经常居所或者营业所的外国人、外国企业或者外国其他组织在中国申请布图设计登记和办理其他与布图设计有关的事务的，应当委托国家知识产权局指定的专利代理机构办理。
第五条申请文件和申请日的确定向国家知识产权局申请布图设计登记的，应当提交布图设计登记申请表和该布图设计的复制件或者图样；布图设计在申请日以前已投入商业利用的，还应当提交含有该布图设计的集成电路样品。
国家知识产权局收到前款所述布图设计申请文件之日为申请日。
如果申请文件是邮寄的，以寄出的邮戳日为申请日。
第六条文件的语言依照条例和本细则规定提交的各种文件应当使用中文。
国家有统一规定的科技术语的，应当采用规范词；外国人名、地名和科技术语没有统一中文译文的，应当注明原文。
依照条例和本细则规定提交的各种证件和证明文件是外文的，国家知识产权局认为必要时，可以要求当事人在指定期限内附送中文译文；期满未附送的，视为未提交该证件和证明文件。
第七条文件的递交和送达向国家知识产权局邮寄的各种文件，以寄出的邮戳日为递交日。
邮戳日不清晰的，除当事人能够提出证明外，以国家知识产权局收到文件之日为递交日。
国家知识产权局的各种文件，可以通过邮寄、直接送交或者其他方式送达当事人。
集成电路布图设计权的认定与保护
集成电路布图设计权的认定与保护引言：随着信息技术的快速发展，集成电路布图设计作为电子产品的核心要素之一，扮演着至关重要的角色。
在这个数字时代，集成电路布图设计的知识产权保护越来越引人关注。
本文将围绕集成电路布图设计权的认定与保护展开论述，旨在分析现有的法律制度，并提出改进建议。
第一章：集成电路布图设计权概述1.1 集成电路布图设计的定义与作用集成电路布图设计是指将各种电子器件、电子元器件以及他们的电气连线方式在半导体晶体管上进行设计布局，形成电路结构，以实现特定电子功能。
集成电路布图设计对信息技术产业具有重要作用，为电子产品提供功能支持，并影响产品的性能、功耗和成本。
1.2 集成电路布图设计权的价值及争议集成电路布图设计权的认定与保护涉及多方利益关系，一方面，布图设计的创造者享有对其作品的保护，另一方面，互联网等技术的迅猛发展给布图设计权的认定和保护带来了挑战。
在实际操作中，集成电路布图设计的认定与保护困难重重，亟待解决。
第二章：集成电路布图设计权的认定2.1 现有的认定标准目前，我国针对集成电路布图设计权的认定，参照了《集成电路布图设计保护条例》的规定，主要考虑以下几个因素：设计的创造性、独创性、审美性以及具有社会实用性等。
2.2 认定实践中的问题与挑战在实际认定过程中，由于技术难度、创新程度等因素的存在，仍然存在一些问题。
例如，如何确定布图设计的创造性？如何评估不同设计之间的相似程度？这些问题需要进行进一步研究和改进。
第三章：集成电路布图设计权的保护3.1 法律保护措施我国对集成电路布图设计权的保护主要依靠集成电路布图设计保护条例以及著作权法等相关法律的规定。
这些法律为布图设计者提供了法律保护措施，如著作权登记、侵权纠纷处理等。
3.2 技术保护手段除了法律保护外，技术手段也是集成电路布图设计保护的重要方面。
例如，通过技术手段对集成电路进行加密保护、防止复制等，降低未经授权的布图设计使用和侵权行为。
集成电路布图设计的登记和法律保护概要
集成电路布图设计的登记和法律保护所谓的知识产权是智力成果的创造者对其创造成果所享有的专有权。
一般分为两个领域:版权及与版权相关的权利和工业产权。
知识产权保护的对象除了常见的商标、专利等,还包括集成电路布图设计。
知识产权日益受到重视,她是国际图政治、经济、科技、文化交往中一个普遍受关注的问题。
特别是中国加入WTO后,TRIPS(关贸总协定知识产权协议的达成使国际知识产权保护提高到新水平知识产权的特点有时图性、地域性和独占性。
布图设计是知识产权的组成部分,她的保护是知识产权保护的组成部分。
集成电路是指通过一系列特定的加工工艺,将晶体管、二极管等有源器件和电阻、电容等无源器件,按照一定的电路互连,“集成”在一块半导体单晶片上,并封装在一个外壳内,执行特定电路或系统功能。
集成电路的原料是硅石片,经过人的创新设计和一系列创新的工艺技术加工制造,将人类的智慧与创造固化在硅芯片上,便构成知识创新的载体,成为集成电路芯片。
随着集成电路技术的发展,整机、电路与元器件之图的明确界限被突破,器件问题、电路问题和整机系统问题已经结合在一起,体现在一小块硅片上,这就形成了固体物理、器件工艺与电子学三者交叉的新技术学科——微电子学。
集成电路产业和微电子科技构成信息社会经济发展的基石。
集成电路的优点是集信息处理,存储,传输于一个小小的芯片中、低成本,高效率, 大批量生产,可靠性高, 耗能少。
“布图设计”是指集成电路中多个元件,其中至少有一个是有源元件,和其部分或全部集成电路互连的三维配置,或者是指为集成电路的制造而准备的这样的三维配置。
布图设计具有专有权和著作权,有工业实用性,并且对技术水平有一定要求,而专利法保护的客体是具有新颖性、创造性和实用性的新的技术方案。
美国率先制定国内法对集成电路布图设计予以保护。
其他发达国家如日本、欧洲等纷纷于1985年和1986等争相效仿。
迄今为止,共有 50多个国家和地区制定了保护集成电路布图设计的国内法。
集成电路布图设计权的保护期限
集成电路布图设计权的保护期限
为了保护布图设计创作人的权利和利益，各国制定了法律，从而产生了布图设计权。
但是布图设计权在保护时间上不能是无限的，否则将不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路的技术发展，因此对布图设计应予以一定的保护期限。
由于保护期限直接关系到集成电路开发商的利益，因而在保护期限上发达国家与发展中国家展开了激烈的争论。
最早保护布图设计的美国在《半导体芯片保护法》中规定保护期为10年。
发展中国家则认为保护期过长，经勿良苦的努力，终于在《华盛顿条约》中将保护期减少为8年，但由于发达国家的抵制，在TRIPS协议中又将保护期延长到10年。
我国《条例》第十二条规定:‘布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。
但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。
”
对于保护期限，陈家骏先生认为:“惟如科技工业之场合，其造成进步之原动力之一即在于互相观摩及利用他人之创作，从而激活自己脑力而创造出其他新技术，故如从人类文明福社之均沾及促进社会整体利益而言，科技产物之保护期实不宜太长，是以10年为妥。
”对布图设计权保护期限的规定既应考虑社会公共利益，又要照顾布图设计创作人及开
发商的利益，还要考虑发展中国家的利益，以及集成电路技术更新的速度。
只有找到这些因素的平衡点，才能恰当规定布图设计的保护期。
尤其是集成电路技术的更新速度越来越快，从长远的利益来看，10年的保护期似乎过长了些。
但当今世界是大国主宰的世界，既然TR 工PS已规定了10年的保护期，我们也只有与其保持一致。
浅谈集成电路布图设计的保护
浅谈集成电路布图设计的保护作者：孙佳佳单作鹏来源：《读写算》2013年第33期【摘要】因集成电路制造工艺的迅猛发展，集成电路规模已发展到超大规模，保护集成电路布图设计成为有关各界关注的问题。
本文主要介绍了集成电路布图设计的知识产权的特点，比较了它与其他知识产权的不同，并简单介绍了国际上几个主要的集成电路知识产权立法。
【关键词】集成电路布图设计知识产权引言：随着集成电路制造工艺的迅猛发展，集成电路规模已发展到超大规模。
由此带来的利益促使一些厂商通过各种方式获取他人技术，利用他人的技术成果牟取非法利益。
因此，保护集成电路布图设计成为有关各界关注的问题。
我国一直采取积极的态度对待集成电路知识产权保护问题，在一九八九年五月通过的世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》文本上签字，并于2001年制定了《集成电路布图设计保护条例》。
这一条例初步建立了我国集成电路布图设计的知识产权保护的理论体系，进一步完善了我国的知识产权法律制度。
一、集成电路布图设计的知识产权的特点布图设计作为人类智力劳动的成果，具有知识产权客体的许多共性特征，应当成为知识产权法保护的对象，其特点主要表现在以下方面：（一）无形性。
集成电路布图设计是指集成电路中各种元件的连接与排列，它本身是设计人员智慧的体现，是无形的。
只有当这种设计固化到磁介质或掩膜上，才具有客观的表现形式，能够被人们感知、复制，从而得到法律的保护。
（二）创造性集成电路布图设计具有创造性，是设计人自己创作的，有自己的独特之处。
当今，要使每次的集成电路布图设计都达到显著的进步是不可能的，新的集成电路产品仅表现为集成度的提高。
所以，已颁布集成电路保护法的国家，均不直接采纳专利法中的创造性和新颖性的标准，而是降低要求，以适应实际情况。
（三）可复制性集成电路布图设计具有可复制性。
对于集成电路成品，复制者只需打开芯片的外壳，利用高分辨率照相机，拍下顶层金属联接，再腐蚀掉这层金属，拍下下面那层半导体材料，即可获得该层的掩膜图。
试论我国集成电路布图设计的知识产权保护(上)
试论我国集成电路布图设计的知识产权保护（上）[摘要]：集成电路布图设计的知识产权保护是近年来各国法律界都比较关心的问题，我国已于2001年制定了《集成电路部图设计保护条例》。
本文分析了集成电路布图设计的概念及特点，论述了其作为特殊的知识产权客体而受到专门保护的必要性，并阐述了我国集成电路布图设计保护的理论体系，对其中的一些问题提出了自己的一些看法。
当今世界，计算机的发展已成为领导工业现代化进程的潮头军，自1946年世界第一台电子计算机诞生以来，短短的五十多年间，计算机作为一种现代化的高级工具以惊人的速度迅速地渗透到了社会生活的各个领域，引起了全球的技术革命。
计算机技术的飞速发展离不开另一门产业的发展，即集成电路产业。
因为集成电路的出现才使计算机摆脱了电子管、晶体管等原材料构件的束缚，逐步走向小型化，轻型化，高智能化，迅速走向了社会，走入了家庭。
集成电路产业的飞速发展，产生了许多新的法律问题，由于传统知识产权法的局限性以及集成电路及其布图设计本身存在着的特殊性，集成电路布图设计的法律保护问题也引起了法学界的极大关注。
各国也纷纷就集成电路布图设计进行立法，以保护此种特殊性质的知识产权不受侵害。
我国早在1991年国务院就已将《半导体集成电路布图设计保护条例》列入了立法计划，经过10年的酝酿，我国的《集成电路布图设计保护条例》终于于2001年3月28日由国务院第36次会议通过，并于2001年10月1日起施行。
这是目前我国保护集成电路布图设计知识产权的一部重要法规。
虽然它是一部行政法规，但经过试行一段时间到条件成熟后，将之上升为法律的形式是必然的趋势。
我国采用专门立法的形式保护集成电路布图设计既尊重了国际知识产权保护的原则，又便于与国际法律接轨，而且这部条例既保护了集成电路布图设计专有权人的权益，又考虑到了国家和公众的利益，使技术进步不受到人为的限制。
这一条例初步建立了我国集成电路布图设计的知识产权保护的理论体系，进一步完善了我国的知识产权法律制度。
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浅析中国《集成电路布图设计保护条例》国务院颁布的《集成电路布图设计保护条例》，立足自身的实际情况，借鉴美国、日本等国家和地区的先进立法，在立法中结合我国的实际情况，进行充分协调，这种做法在中国现行知识产权法中是十分可取的，这标志着我国集成电路布图设计专有权制度的初步建立。
这有利于保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。
标签：集成电路布图设计；法律保护；知识产权集成电路的出现是微电子技术革命的动力源与受动者，在技术领域和信息社会具有革命性的意义。
集成电路产业同时是关系到国民经济和社会发展具有战略先导性的行业，是信息产业发展的关键。
根据世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权公约》的规定，集成电路布图设计是指集成电路中多个原件，其至少由一个有源元件组成，或者全部集成电路互连的三维配置，以执行某种电子功能。
集成电路布图设计作为人类高科技成果，是知识产权的客体之一。
目前我国集成电路出现核心技术受制于人，缺乏自主创新能力的局面。
针对存在的这一系列问题，我国需借鉴其他国家立法及国际公约的先进经验，加强对该智力成果的法律保护，也为激励集成电路布图设计人自主创新提供强有力的保障。
一、主要国家的立法概况美国是集成电路的发源地，于1984年率先实施《半导体芯片保护法》，以单独立法的方式来保护集成电路布图设计。
该法对集成电路的掩膜层的专有权利中规定权利人有权进口或销售包含有该掩膜层的半导体芯片产品。
这种产品包含两层含义：一是含有布图设计图层的芯片，二是用前项制造出的产品。
美国这种立法模式影响到1989年缔结的《华盛顿条约》和1994年达成的《TRIPS协定》。
继美国出台的《半导体芯片保护法》之后，日本于1985年5月31日颁布了《半导体集成电路的线路布局法》，该法的立法体与内容同美国《半导体芯片保护法》极为相似，也将布图作为单独民事关系客体来保护。
受美国和日本立法的影响，欧共体于1986年12月16日颁布了《关于保护半导体芯片产品拓图委员会指令》，要求各成员国根据指令，通过授予专有权的形式来保护半导体产品的布图设计。
随即，英国、德国、荷兰、法国、西班牙等国也相继以专门立法的形式出台了保护布图设计的法律。
二、我国集成电路布图设计权的法律保护1984年我国颁布了专利法。
1985年我国加入了《保护工业产权巴黎公约》,中国知识产权保护水平上了一个新台阶。
1987年颁布的《技术合同法》使得技术成果在流通领域中的关系有了调整的依据。
1990颁布了《著作权法》，1999年颁布了新的《合同法》，这些法律条文的颁布使我国初步具备了保护集成电路布图设计权的基本条件。
集成电路的布图设计实质上是一种图形设计,如果根据该设计生产出的集成电路产品符合专利法所规定的条件,就可取得专利权。
但由于大多数的集成电路的布图设计缺乏专利保护所具备的新颖性和创造性要求，因此很难得到专利法的有效保护。
集成电路的布图设计具有独创性特征，故而在我国也受到著作权法保护。
但集成电路的布图设计不属于作品，同时，对集成电路布图设计的复制与著作权法中复制作品的含义不同。
另外，著作权法的保护期限过长，不利于集成电路布图设计的长期发展。
因此，希望通过著作权法有效保护集成电路布图设计也是不现实的。
集成电路布图设计的终极目的是使生产者能生产出能在市场上流通的电子产品，一旦电子产品进入市场，那么集成电路布图设计作为附着于其中的一部分就可以受到商标法的保护，但商标法保护的重点是品牌而非实物，所以商标法对集成电路布图设计的保护力度也是有限的。
集成电路布图设计作为一种重要的技术，可以通过技术合同来获得合同法的保护。
要想得到合同法的有效保护，设计者必须作为技术合同的一方与另一方签订合同，然而这种保护仅在集成电路设计者与确定的合同相对人之间存在法律保护，实际上有些设计并不能满足这一条件，因而就失去了这种保障。
综上所述，这几种法律无法对集成电路布图设计形成有效的保护，因此需要一种针对性强的法规来弥补这一系列缺失。
在这种情况下，我国于2001年10月1日施行的《集成电路布图设计保护条例》，立法目的是为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。
该《条例》规定了主体、权利取得方式、权利内容、保护期限及权利限制五个部分的内容，以下对其中部分内容作简要介绍。
1.主体部分为达到鼓励集成电路技术创新的立法目的，《条例》贯彻了著作权法上的保护作者权利的原则，规定布图设计专有权通常由布图设计的创作人享有；多人共同完成的，根据民法中的共有原理，由参加创作者共同享有。
对委托人与受托人之间布图设计专有权的归属，则兼采尊重意思自治与保护创作人利益的方法，即双方有约定的从约定，没有约定或约定不明的，专有权由受托人享有。
由于集成电路产业迅猛发展，制造工艺日益复杂，依靠单个创作做出具有世界领先水平的布图设计较为困难，大多数国家和地区的立法参照专利法上职务发明模式，规定由布图设计完成人所属的法人享有专有权，但我国《条例》对此未作明文规定。
2.客体部分《条例》限定了受保护的布图设计的条件，即独创性。
专利法规定的独创性要求受保护的技术发明具有突出的实质性特点和显著的技术进步，但布图设计往往达不到这种创造性承担，所以《条例》将独创性界定為“是创作者自己的智力成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计”。
我国台湾地区1995年8月公布的“集成电路布局保护法”第16条也有类似表述：“本法保护之电路布局权，应具备所列各款要件：一、由于创作人之智能努力而非抄袭之设计。
二、在创作是就集成电路产业即电路布局设计者而言非属平凡、普通或习知者。
以组合平凡、普通或习知之组件或连续线路所设计之电路布局，应仅就其整体组合符合前项要件者保护之。
”布图设计仅是集成电路制造的一个中间产品，要保护专有权人的利益，就必须从保护其复制权与商业利用权入手。
布图设计专有权人经济利益的实现主要依靠布图设计的权利人对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制。
《条例》第2条对复制进行了界定，即重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。
布图设计权的另一重要内容是商业使用权，商业使用权的主要权项集中于进口权、销售权及发行权。
除复制和商业利用以外，对于未经权利人许可而进行的其他行为，《华盛顿条约》还允许缔约方将其确定为违法。
TRIPS第36条规定的商业利用范围，除布图设计、含布图设计的集成电路之外，还将范围扩大到含有上述集成电路的物品，其范围最广。
《条例》的第2条也采用了TRIPS的三层保护模式，对含有布图设计的集成电路的物品也予以保护。
三、布图设计权与公共利益的平衡根据《条例》第24条的规定，布图设计、含有布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品，由布图设计权利人或经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计权利人的许可，并可以不向其支付报酬。
作为促进公共政策目标实现，维护公共利益的手段，法律规定了布图设计权人的权利，也划定了例外情形作为该权利的边界。
1.反向工程所谓反向工程，是指利用特殊技术手段，从集成电路成品着手了解他人集成电路产品的功能设计特点，获得布图设计。
运用反向工程对布图设计进行复制，不构成侵权，但该行为须具备以下条件：一是其目的在于对他人的布图设计进行分析、评价、用于教学或在他人的布图设计运用的基础上创作新的布图设计，单单出于商业目的不能对他人的布图设计运用反向工程；二是利用反向工程所创作出的新的布图设计必须符合原创性的要求；三是对于所复制他人的布图设计不能进行商业利用。
作为一项重要的技术手段，反向工程的采用促进了日本集成电路产业的发展，甚至使其在一段较长的时间里超过了美国。
对反向工程的合理性与合理范围的界定在国内存在不同看法。
反向工程能很好地促进集成电路的发展，在合理限度内实施反向工程应不视为侵权。
较明显的是，这种非商业性行为的例外与版权法中的合理使用制度非常相似。
2.合理使用各国关于布图设计保护的法律一般都规定，为个人学习目的或为教学研究所进行的复制或利用他人受法律保护的布图设计的行为，不视为侵权。
对于布图设计人的专有权来说，合理使用是一种例外，它允许第三方在特定环境下使用版权材料。
3.权利用尽布图设计权利人或经其授权的人将布图设计或含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路的产品投放市场后，对该布图设计有关的商业利用行为，不再享有控制权，即进口、销售或以其他方式来使用该布图设计的行为无效征得布图设计权利人或其授权人的许可。
就此而言，该原则限制了布图设计人在产品销售后对布图设计的控制权，购买者可以行使自由处分行为。
我国《集成电路布图设计保护条例》还规定了一种特殊的权利限制制度，对自己独立创作的与他人相同的布图设计，即使其未通过登记取得专有权，但由于其付出了创造性的劳动，仍然应该予以肯定，以此来保护独立创作人的利益。
结语国务院颁布的《集成电路布图设计保护条例》，能立足自身的实际情况，借鉴美国、日本等国家和地区的先进立法，在立法中结合我国的实际情况，充分进行协调，这在中国现行知识产权法中是十分可取的，这标志着我国集成电路布图设计专有权制度的初步建立。
但随着集成电路产业的发展，许多新的法律问题不断涌现，有必要不断完善建立一套相对完整的法律保护体系，提升该法的位阶效力，加强具有自主知识产权集成电路产品的开发与保护。
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