材料分析方法
材料分析方法有哪些
材料分析方法有哪些材料分析方法是指对各种材料进行结构、性能、成分等方面的分析和测试的方法。
在工程实践和科学研究中，材料分析是非常重要的一环，它可以帮助我们更好地了解材料的特性，为材料的设计、选择和应用提供参考依据。
下面将介绍一些常见的材料分析方法。
首先，光学显微镜是一种常见的材料分析工具，它可以通过对材料进行放大观察，来分析材料的晶体结构、表面形貌和断口形貌等信息。
光学显微镜适用于金属、陶瓷、塑料等材料的分析，是材料分析中的常用手段之一。
其次，扫描电子显微镜（SEM）是一种能够对材料进行高分辨率表面成像的分析工具。
通过SEM可以观察材料的表面形貌、微观结构和成分分布等信息，对于微观结构分析非常有用。
除了显微镜，X射线衍射（XRD）是一种常用的材料分析手段，它可以通过衍射图谱来确定材料的晶体结构和晶体学参数，从而揭示材料的结晶性质和晶体结构。
此外，热分析技术也是材料分析中的重要手段之一，包括热重分析（TGA）、差热分析（DSC）等。
这些方法可以用来研究材料的热稳定性、热分解行为、玻璃化转变温度等热性能参数，对于材料的热学性能分析非常有帮助。
另外，光谱分析技术也是材料分析中的重要内容，包括红外光谱、紫外可见光谱、拉曼光谱等。
这些光谱分析方法可以用来研究材料的分子结构、成分组成、化学键性质等信息，对于有机材料和高分子材料的分析非常有用。
最后，电子探针显微分析（EPMA）和能谱仪（EDS）也是常用的材料分析手段，它们可以用来确定材料的成分分布和微区成分分析，对于复杂材料的成分分析非常有帮助。
综上所述，材料分析方法包括光学显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射、热分析技术、光谱分析技术、电子探针显微分析和能谱仪等多种手段，这些方法可以帮助我们全面了解材料的结构、性能和成分，为材料的研究和应用提供重要支持。
在实际工作中，我们可以根据具体的分析需求选择合适的分析方法，以获得准确、全面的材料分析结果。
材料分析方法有哪些
材料分析方法有哪些材料分析是指通过对材料的成分、结构、性能等方面进行研究和分析，以揭示材料的内在特性和规律。
在材料科学领域，材料分析是非常重要的一环，它可以为材料的设计、制备和应用提供重要的参考和支持。
那么，材料分析方法有哪些呢？下面我们就来一一介绍。
首先，常见的材料分析方法包括光学显微镜分析、扫描电子显微镜分析、透射电子显微镜分析等。
光学显微镜分析是通过可见光对材料进行观察和分析，可以直观地观察材料的表面形貌和微观结构。
扫描电子显微镜分析则是利用电子束对材料进行扫描，得到高分辨率的表面形貌和成分分布信息。
透射电子显微镜分析则可以观察材料的内部结构和晶体形貌，对材料的微观结构进行深入分析。
其次，化学分析方法也是材料分析中的重要手段，包括原子吸收光谱分析、X射线荧光光谱分析、质谱分析等。
原子吸收光谱分析可以用于测定材料中的金属元素含量，具有较高的灵敏度和准确性。
X射线荧光光谱分析则可以测定材料中的元素含量和成分分布，对于非金属元素也有一定的分析能力。
质谱分析则可以通过分析材料中的分子离子来确定其化学成分和结构特征。
另外，热分析方法也是常用的材料分析手段，包括差示扫描量热法、热重分析法、热膨胀分析法等。
差示扫描量热法可以通过对样品和参比物进行热量差示扫描，得到材料的热性能参数和相变特征。
热重分析法则是通过对材料在不同温度下的质量变化进行分析，可以得到材料的热稳定性和热分解特性。
热膨胀分析法则可以测定材料在温度变化下的线膨胀系数，对材料的热膨胀性能进行评估。
最后，表面分析方法也是材料分析中的重要内容，包括X射线光电子能谱分析、原子力显微镜分析、电化学阻抗谱分析等。
X射线光电子能谱分析可以对材料表面的化学成分和化学状态进行表征，对表面改性和表面反应过程进行研究具有重要意义。
原子力显微镜分析则可以对材料表面的形貌和结构进行高分辨率的观察和分析。
电化学阻抗谱分析则可以研究材料在电化学条件下的界面特性和电化学性能。
材料分析方法总结
材料分析方法总结材料分析是指对各种材料的成分、结构、性能等进行分析研究的方法。
在工程、科学研究和生产中，材料分析方法的选择和应用对于材料的质量控制、性能评价和新材料的开发具有重要意义。
本文将对常见的材料分析方法进行总结，以便读者对材料分析有一个全面的了解。
一、光学显微镜。
光学显微镜是一种常用的材料分析仪器，通过对材料进行放大观察，可以得到材料的表面形貌、组织结构等信息。
适用于金属、陶瓷、塑料等材料的观察和分析。
二、扫描电子显微镜（SEM）。
扫描电子显微镜是一种使用电子束来扫描样品表面并获取图像的仪器。
相比光学显微镜，SEM具有更高的放大倍数和更高的分辨率，适用于对材料表面微观形貌的分析。
三、X射线衍射（XRD）。
X射线衍射是一种通过照射材料表面并测量衍射图样来分析材料晶体结构的方法。
通过X射线衍射，可以确定材料的晶体结构、晶格常数等信息。
四、透射电子显微镜（TEM）。
透射电子显微镜是一种使用电子束穿透样品并形成透射电子图像的仪器。
TEM 可以观察材料的晶体结构、位错、界面等微观结构特征。
五、质谱分析。
质谱分析是一种通过对材料中的离子进行质量分析来确定材料成分的方法。
质谱分析可以对材料的元素组成、分子结构等进行准确的分析。
六、热分析。
热分析是一种通过对材料在控制温度条件下的热性能进行分析的方法，包括热重分析（TGA）、差示扫描量热法（DSC）等。
热分析可以得到材料的热分解特性、热稳定性等信息。
七、核磁共振（NMR）。
核磁共振是一种通过测量材料中核自旋的共振信号来分析材料成分和结构的方法。
NMR可以对材料的分子结构、化学环境等进行分析。
以上是常见的材料分析方法的简要总结，每种方法都有其适用的范围和特点。
在实际应用中，需要根据具体的分析目的和样品特点选择合适的分析方法，并结合多种方法进行综合分析，以确保获得准确、全面的分析结果。
希望本文对材料分析方法的选择和应用提供一定的参考和帮助。
材料分析方法总结
材料分析方法总结材料分析方法是指通过一系列科学技术手段对材料进行分析和测试，以获取材料的组成、结构、性能等信息的过程。
材料分析方法在材料科学领域具有重要意义，它为材料研究和工程应用提供了可靠的数据支持。
下面将对常见的材料分析方法进行总结和介绍。
一、光学显微镜。
光学显微镜是一种常用的材料分析仪器，它能够通过光学放大原理对材料进行观察和分析。
通过光学显微镜可以观察材料的表面形貌、结构特征和晶体形貌，对金相组织、晶体缺陷等进行分析。
光学显微镜操作简单，成本低，适用于金属、陶瓷、塑料等材料的分析。
二、扫描电子显微镜（SEM）。
扫描电子显微镜是一种高分辨率的显微镜，它通过电子束与样品相互作用，利用信号的不同来获取样品表面形貌、成分分布、晶体结构等信息。
SEM具有高放大倍数、高分辨率、能够对非导电材料进行分析等特点，适用于金属、陶瓷、复合材料等材料的表面形貌和微观结构分析。
三、X射线衍射（XRD）。
X射线衍射是一种利用X射线与材料相互作用来获取材料结构信息的方法。
通过X射线衍射可以确定材料的晶体结构、晶粒尺寸、晶格常数等信息，对于无机材料、金属材料、无机非金属材料的结构分析具有重要意义。
四、质谱分析。
质谱分析是一种通过对材料中各种元素进行分析和检测，以获取材料成分和含量信息的方法。
质谱分析具有高灵敏度、高分辨率、能够对微量元素进行分析的特点，适用于材料成分分析、材料表面成分分析等领域。
五、热分析。
热分析是一种通过对材料在控制温度条件下的物理、化学性质变化进行分析的方法。
常见的热分析方法包括热重分析（TG）、差热分析（DSC）、热膨胀分析（TMA）等，它们可以用于材料的热稳定性、热动力学参数、相变温度等方面的分析。
六、原子力显微镜（AFM）。
原子力显微镜是一种近场显微镜，它能够对材料表面进行原子尺度的表征和分析。
AFM具有高分辨率、三维表征、原子尺度的表面形貌分析等特点，适用于纳米材料、生物材料、薄膜材料等的表面形貌和性能分析。
材料分析方法
材料分析方法材料分析是指通过实验手段对材料的成分、结构和性质进行系统分析研究的方法。
根据分析样品的性质和需求，目前常用的材料分析方法主要有以下几种：1. 光谱分析方法：包括紫外可见光谱、红外光谱、拉曼光谱等。
紫外可见光谱主要用于分析材料的电子激发态和吸收特性，红外光谱用于分析材料的化学键的振动特性，拉曼光谱则分析物质的分子结构。
2. 热分析方法：主要是通过物质在加热过程中的热效应来测定样品的热稳定性、相变温度、热分解产物等。
常用的热分析方法有差热分析(DTA)、热重分析(TGA)、热量法、热导率法等。
3. 电子显微镜方法：包括扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)。
SEM主要用于观察样品表面形貌和微观结构，TEM则用于研究材料的结晶性和纳米尺度的结构。
4. 色谱分析方法：包括气相色谱(GC)、液相色谱(LC)、离子色谱(IC)等。
色谱分析是基于物质在固定相和流动相间的分配和迁移作用进行分析的方法。
主要用于分离和定性分析有机化合物、离子等。
5. 质谱分析方法：以质谱仪为工具，将样品中的物质离子化和碎裂，通过测量质谱图，分析出物质的分子量、分子结构、同位素等信息。
常用的质谱分析方法有质谱仪、液质联用等。
6. 磁学分析方法：主要用于研究材料的磁性质。
包括磁化强度的测定、磁滞曲线的测定、磁致伸缩效应的测定等。
常用的磁学分析方法有霍尔效应法、磁滞回线法等。
7. 表面分析方法：主要用于研究材料表面的成分、形貌和性质。
常用的表面分析方法有X射线光电子能谱(XPS)、扫描隧道电镜(STM)、原子力显微镜(AFM)等。
除以上常用的材料分析方法外，还有众多其他的分析方法，如电化学分析方法、微波消解法、核磁共振(NMR)等。
这些方法能够为我们从不同角度对材料进行分析和研究，有助于揭示材料的组成、结构和性能，并为材料的改进和开发提供科学依据。
材料分析方法
材料分析方法材料分析方法是指对各种材料进行分析和检测的方法和技术。
在工程技术、科学研究和质量监督等领域，材料分析方法的应用十分广泛。
材料分析方法的选择对于材料的质量控制、产品性能评价和问题分析具有重要意义。
本文将对常见的材料分析方法进行介绍，希望能够对相关领域的人士有所帮助。
一、光学显微镜。
光学显微镜是一种常见的材料分析工具，通过光学原理对材料进行观察和分析。
光学显微镜可以对材料的表面形貌、晶体结构和组织结构进行观察和分析，对于金属、陶瓷、塑料等材料的组织分析具有重要意义。
二、扫描电子显微镜。
扫描电子显微镜是一种高分辨率的显微镜，能够对材料的表面形貌进行高清观察，并且可以获取材料的微观结构信息。
扫描电子显微镜广泛应用于金属、半导体、纳米材料等领域的表面形貌和微观结构分析。
三、X射线衍射。
X射线衍射是一种常见的材料分析方法，通过照射材料表面，观察X射线的衍射图样来分析材料的晶体结构和晶格参数。
X射线衍射在材料科学、材料物理等领域具有重要应用价值。
四、质谱分析。
质谱分析是一种通过对材料中各种元素和化合物进行质谱检测，从而确定材料成分和结构的方法。
质谱分析在材料科学、化学分析等领域具有广泛的应用。
五、热分析。
热分析是一种通过对材料在不同温度下的物理和化学性质进行测试和分析的方法。
热分析包括热重分析、差示扫描量热分析等方法，可以用于分析材料的热稳定性、热分解过程等。
六、原子力显微镜。
原子力显微镜是一种通过探针对材料表面进行扫描，从而获取材料表面形貌和力学性质的显微镜。
原子力显微镜在纳米材料、生物材料等领域具有重要应用。
七、拉曼光谱。
拉曼光谱是一种通过激光照射样品，观察样品散射的光谱，从而分析材料的分子结构和晶格振动信息的方法。
拉曼光谱在材料科学、化学分析等领域有广泛的应用。
总结：材料分析方法的选择应根据具体的分析目的和要求来确定，不同的材料分析方法具有不同的特点和适用范围。
在实际应用中，可以根据具体情况选择合适的材料分析方法，从而获取准确的分析结果。
材料分析方法总结
材料分析方法总结材料是现代工业中不可缺少的一环，而材料的质量也直接影响着产品的性能和品质。
为了保证材料的质量，科学家们在不断探索新的材料分析方法。
本文将对几种常用的材料分析方法进行总结。
1. X射线衍射法X射线衍射法是一种广泛应用于材料分析的非破坏性测试方法。
它通过将X射线投射到材料上，并记录反射和散射的X射线来分析材料的晶体结构和化学成分。
这种方法适用于分析晶体，陶瓷、金属、粉末、涂料等材料的结构。
2. 扫描电子显微镜(SEM)扫描电子显微镜(SEM)是一种通过扫描专用电子束来实现高分辨率成像的仪器。
它主要用于表面形貌和微观结构的分析。
这种方法适用于分析金属、陶瓷、高分子材料、纳米颗粒等材料。
3. 原子力显微镜(AFM)原子力显微镜(AFM)是一种利用扫描探针进行表面成像的技术。
探针末端的尖端可以感知为表面提供足够的分辨率和精度。
这种方法适用于对纳米颗粒、表面形貌、物性、焊点和电性进行研究。
AFM在纳米领域的研究中应用广泛。
4. 操作模态分析(OMA)操作模态分析(OMA)是一种实验模态分析技术，通过对振动信号的处理和分析来实现材料的动态特性分析。
这种方法适用于设计振动器件、安装大型机器及其分析结构和疲劳寿命。
在固体、液体、气体中的物理情况下可以应用到OMA分析中。
5. 热重分析(TGA)热重分析(TGA)是一种非常有用的方法，可以在微观和宏观水平上实现对材料特性的分析。
它利用热重量差法分析在升温和等温条件下，材料的重量以及重量变化和热学性质。
这种方法适用于材料的分解、氧化和变化温度的测定。
同时还可以提供实际应用中需要的材料密度、表面面积、孔隙度及扰动过程参数等信息。
在工程领域中，材料分析是非常重要的一环，实现高质量，健康和可持续的生产会更加有挑战和漫长。
因此，科学家们一直在不断寻找新的材料分析方法，并不断完善现有的方法。
综合以上几种方法的优缺点，选择合适的方法来分析材料，可以有效提高材料质量，减少生产成本，提升产品品质。
材料分析方法总结
材料分析方法总结材料分析方法是指一套用于对材料进行结构、成分、性能等方面的分析与测试的手段和技术。
材料分析方法的选择和应用能够帮助科研人员、工程师等从不同的角度了解材料的实际情况，进一步改进材料的性能，提高材料的应用价值。
本文将从几个主要的材料分析方法进行总结。
1.光学分析方法光学分析方法是利用光学原理对材料进行观测、测量和分析的方法。
常见的光学分析方法包括光学显微镜观察、扫描电子显微镜(SEM)观察、透射电子显微镜(TEM)观察等。
这些方法可以用来观察材料的表面形貌、内部结构、晶体缺陷等，对材料的性能和结构进行分析。
2.物理分析方法物理分析方法是通过对物理性质的测量与测试来分析材料的方法。
常见的物理分析方法包括热分析、电学测试、磁学测试等。
热分析方法可以通过对材料在不同温度下的热行为进行测试，了解材料的热稳定性、热膨胀性等；电学测试可以通过测量材料的导电、绝缘性能等来了解材料的电学特性；磁学测试可以测量材料的磁性，包括磁化率、磁导率等。
这些方法可以用来分析材料的物理性质以及材料与外界的相互作用。
3.化学分析方法化学分析方法是通过对材料进行化学性质的测量与测试来分析材料的方法。
常见的化学分析方法包括光谱分析、质谱分析、电化学分析等。
光谱分析可以通过测量材料对光的吸收、发射等来推断其成分，可以用来分析材料的种类、含量等；质谱分析可以通过测量材料中的分子或原子的质谱图谱来分析其化学成分；电化学分析可以通过测量材料在电场或电流的作用下的化学反应来分析其化学性质。
这些方法可以用来分析材料的成分、结构和化学性质等。
4.结构分析方法结构分析方法是通过对材料的晶体结构、分子结构等进行表征和分析来了解材料的性质和性能。
常见的结构分析方法包括X射线衍射分析、核磁共振分析、电子衍射分析等。
X射线衍射分析可以通过测量材料对X射线的散射来推断其晶体结构；核磁共振分析可以通过测量材料中原子核的共振频率来了解其分子结构。
这些方法可以用来研究材料的晶体结构、分子结构、晶格缺陷等。
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第一章X射线物理学基础1.连续X射线:从某一短波限λSWL开始，直至波长等于无穷大λ∞的一系列波长。
(这种谱用于X射线衍射分析的劳埃法）2.特征X射线:具有一定波长的特强X射线,叠加于连续X射线谱上。
（这种谱用于X射线衍射分析的德拜法）3.特征X射线的产生机理: X射线管中高速电子流轰击阳极,若管电压超过某一临界值，电子的动能足以将阳极中原子的____内层电子_____轰击出来。
这种被激发的原子，在电子跃迁时会辐射光子。
它们是一组能量一定的射线,构成___特征X射线__。
这种谱适用于X射线衍射分析的____德拜____法。
4.波长与强度成反比。
5.当U/Uk=（3—5）Uk时，I特/I连获得最大值.（降低连续X射线,提高特征X射线的方法）6.荧光辐射:由入射X射线所激发出来的特征X射线.入射能量束的粒子与和物质原子中电子相互作用碰撞，当粒子能量足够大就能激出的内层电子,同时原子外层向内层空位跃迁，辐射出一定的特征荧光射线，被称为荧光辐射。
7.光电效应：当入射光子的能量等于或略大于吸收体原子某壳层电子的结合能时，此光子就很容易被电子吸收，获得能量的电子从内层溢出，成为自由电子，即光电子,原子则处于相应的激发态，这种原子被入射光子电离的现象即光电效应。
（应用于重元素的成分分析）8.俄歇效应：原子中一个K层电子被入射光子击出后，L层一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量不以辐射X光子的方式放出，而是另一个L层电子获得能量跃出吸收体，这样的一个K层空位被两个L层空位代替的过程称俄歇效应。
(应用于表层轻元素的成分分析)9.相干散射:X射线与物质原子内层电子相撞，入射光子的能量全部转给相撞电子,在X射线电场作用下,产生强迫振动，电子成为新电磁波源，向四周辐射与入射光子等波长的电磁波。
10.非相干散射：入射线与束缚较弱的外层电子或自由电子作用，电子获一部分动能成为反冲电子，入射线失去部分能量，改变了波长，沿与入射方向成一定角度的方向辐射。
11.晶面间距计算22、下面是某立方晶系物质的几个晶面，试将它们的面间距从大到小按次序重新排列：(12-3)，(100）,（200），（—311），（121)，（111），（—210）,(220），（130），（030）,（2—21），（110）。
答：由立方晶系晶面间距公式可知晶面指数平方和越小，晶面间距越大,它们的面间距从大到小按次序是：(100）、(110）、（111)、(200)、（-210）、（121)、（220）、(2-11)=（030）、（130）、（-311）、（12—3）。
第二章X射线衍射方向1。
布拉格方程及其物理含义：(1）2dsinθ=nλ（2）当一束单色且平行的X射线照射到晶体时，同一晶面上的原子的散射线在晶面反射方向上是同相位的，因而可以叠加；不同晶面的反射线若要加强，必要的条件是相邻晶面反射线的波程差为波长的整数倍。
2.反射级数：n称为反射级数。
由相邻两个平行晶面反射出的X射线束，其波程差用波长去量度所得的整份数在数值上就等于n。
3.干涉面指数：晶面（hkl）的n级反射面(nh nk nl），用符号(HKL）表示，称为反射面或干涉面。
干涉面的指数称为干涉面指数.波程差:相邻两个（hkl）发射线为nλ；相邻两个（HKL)发射线为λ。
4.空间点阵:晶体中呈周期性排列,且几何、物理环境相同的基本组元(原子、离子、分子）抽象为一几何点（阵点)，由此构成的几何图形。
5。
倒易点阵：在晶体点阵的基础上按一定对应关系建立起来的空间几何图形，是晶体点阵的另一种表达形式。
6。
倒易点阵与正点阵之间关系如何？倒易点阵与晶体的电子衍射斑点之间有何对应关系？答：倒易点阵是与正点阵相对应的量纲为长度倒数的一个三维空间（倒易空间)点阵,关系：1）倒易矢量ghkl 垂直于正点阵中对应的(hkl ）晶面，或平行于它的法向Nhkl.2)倒易点阵中的一个点代表正点阵中的一组晶面.3）倒易矢量的长度等于正点阵中的相应晶面间距的倒数，即ghkl=1/dhkl 。
4）对正交点阵有a*//a ，b*//b ，c ＊//c,a*=1/a ，b ＊=1/b,c*=1/c .5）只有在立方点阵中，晶面法向和同指数的晶向市重合的，即倒易矢量ghkl 是与相应指数的晶向［hkl ］平行。
通过倒易点阵可以把晶体的电子衍射斑点直接解释成晶体相应晶面的衍射结果，可以认为电子衍射斑点就是就是与晶体相对应的倒易点阵中某一截面上阵点排列的像。
7.劳埃法、周转法、德拜法衍射方法的比较。
答：劳埃法 特点：单晶体固定,采用连续X 射线.用途：分析晶体的对称性和进行晶体定向。
周转晶体法 特点：入射X 射线的波长不变;单晶晶体绕选定取向旋转。
用途:研究晶体结构。
德拜（粉末）法 特点:入射X 射线的波长不变；多晶体、粉末。
用途：物相分析。
8.爱瓦尔德图解-—布拉格方程几何表达式答:以倒易点阵O*为末点，作入射方向平行线,线段长度为λ/1，始点为正点阵O ，以O 为球心，O*O 线段长为半径作一参考球，凡是与参考球面相交的倒易点，其代表的正点阵晶面满足布拉格方程,衍射方向为O 至倒易点的位向.图中λθλθsin 21,sin 21==HKL d g第三章 X 射线衍射强度1。
X 衍射峰的位置、强度和峰型的影响因素位置：晶面间距、晶胞参数强度:结构因数、洛伦兹因数、多重性因数、吸收因素、温度因数以及元素的相对含量(晶胞的种类，晶胞原子种类及他们的相对位置，物相含量多少）峰型：晶粒大小、晶格畸变、缺陷2.原子散射因数和结构因子物理含义及影响因素.答：原子散射因数（1）物理含义:表示某一个原子在某一方向上散射波的振幅是一个电子在相同条件下的散射波振幅的f倍，它反映了原子将X射线向某一个方向上的散射能力。
（2）影响因素：原子中电子分布密度以及散射波的波长和方向。
结构因子(1)物理含义:它表征了单胞的衍射强度，反映了单胞中原子种类、原子数目及原子位置对（HKL）晶面衍射方向上衍射强度的影响。
(2)影响因素:结构因子只与原子的种类及在单胞中的位置有关，而不受单胞的形状和大小的影响。
第四章多晶体分析方法1。
为保证探测器能接收到各衍射面的衍射线，X射线衍射仪的测角仪衍射几何构造要满足布拉格方程、试样与探测器连动的角速比为1：2。
衍射仪常用测量方法有连续扫描和步进扫描。
2。
探测器种类：正比计数管、闪烁计数管。
3.X射线衍射仪的滤波方式：滤波片（吸收）、弯晶单色器（衍射)。
第五章物相分析及点阵参数精确测定1..物相定量分析的原理是什么?试用K值法进行物相定量分析的过程。
答：基本原理：待测相的衍射面的衍射线强度随该相百分含量的增加而提高，通过测定某衍射线强度，可得到待测相的含量。
K 值法:1) 配制待测相A 与标相S 含量1:1的试样， 进行衍射分析，分别各选待测相与标相一衍射面衍射线,测其强度IA'、IS',则K=IA'/ IS ’。
2)在待测样中加入S 相， 算出S 相含量WS ， 进行衍射分析,分别测取待测相与标相的上述同一衍射线的强度IA 、IS,则根据：IA/ IS=KWA(1－WS ）/WS 求出WA.2.。
物相定性分析的原理是什么？ 对食盐进行化学分析和物相定性分析,所得结果有何不同？答:对食盐进行化学分析得到食盐的化学组分信息，即包含的化学元素种类及含量；而物相分析则获得相结构信息,及各成分的存在晶系、晶格参数等.3。
点阵常数精确测定的目的：固溶体类别的确定、固相溶解度曲线的测定、宏观应力的量度、化学热处理层的分析、过饱和固溶体分解过程的研究。
（固溶、应力、相变、膨胀）4。
点阵常数误差来源及校正误差的方法误差：相机的半径误差、底片的伸缩误差、试样的偏心误差以及试样的吸收误差等。
校正方法：图解外推法;最小二乘法；标准样校正法外推函数：f(θ） =()θθθθ22cos sin cos 21+（尼尔逊函数）5.结晶度的测定：答：（1)对衍射图进行分峰（2）合理扣除背底，进行衍射强度修正（3)假设非晶峰及各结晶峰的峰型函数,通过多次拟合,将各个重叠峰分开（4）测定各个峰的积分强度c I 、a I ，然后根据aC C C KI I I X +=算出结晶度6.固溶度测定步骤①选择若干条高角衍射线()i HKL ,测出其i θ②根据衍射面()i HKL 、晶面间距公式求i a③建立关系i i a --θ2cos ，用外推法求出精确的点阵常数 ④根据费伽公式%100⨯--=AB A x a a a a x 求出固溶度x a 7.衍射峰特点与晶粒大小间关系符合谢乐公式：B=K λ/tcos θ，B 是衍射峰的半高宽，t 是晶块大小，晶粒越小，衍射峰越宽。
答：步骤如下:（1）获得纳米多晶材料的衍射谱.(2)选定某衍射面,对其进行步进式扫描，并对该衍射峰K α1、K α2分离，测定K α1半高宽B 。
（3)用实验法或近似函数法对K α1剥离仪器宽化B1。
（4)用近似函数法求出晶格畸变宽化B2，从B 中扣除B1和B2，即得到晶粒细化宽化，将其带入谢乐公式求出晶粒大小t 。
第八章 电子光学基础1.景深：不影响分辨率条件下,电磁透镜物平面允许的轴向偏差。
2。
焦长：不影响透镜分辨率条件下，像平面可沿轴向平移距离.3.电磁透镜的景深大、焦长长是由于小孔径角成像的结果.4。
分辨率：是指成像物体上能分辨出来的两物点的最小间距。
第九章 透射电子显微镜1。
透射电镜主要由几大系统构成?各系统之间的关系如何？（同位、成像、衍射)答：透射电镜主要由供电系统、电子光学系统、真空系统构成。
电子显微镜工作时，整个电子通道都是必须置于真空系统之内的；电子光学系统是透射电镜的核心,包括照明系统，成像系统和观察系统；电源与控制系统对整个透射电镜提供能源,并控制操作过程。
2. 同位分析。
使中间镜物平面与物镜 像平面 重合时,在观察屏上当中间镜物平面与物镜 背焦面 重合时， 在观察屏上得到的是反映试样 晶体结构的衍射 花样。
3.影响透射电镜分辨率的因素主要有：衍射效应和电镜的像差。
4.成像系统及其特点第十章 电子衍射1。
异类点阵结构因子计算：异类原子 如简单立方的CuZn ，因两元素为相邻元素, Zn cu f f 与 接近当H+K+L=奇数时 0)(22≈-=Zn Cu HKL f f F当 H+K+L=偶数时 22)(Zn Cu HKL f f F +=2.说明单晶、多晶及非晶的电子衍射花样的特征及其形成原理。
(A 及D 简答题22及B41）单晶的衍射花样是由排列十分整齐的许多斑点所组成，每个衍射斑点代表一个晶面（hkl），参与衍射的晶面(hkl)平行于入射方向[uvw］；多晶的衍射花样是一系列不同半径的同心圆环，每个圆环代表一个晶带；非晶只有一个漫散射中心透射亮斑。