基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析

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纳米级精度光刻机测距与定位技术

纳米级精度光刻机测距与定位技术

纳米级精度光刻机测距与定位技术
芯片制造需要纳米级精度的光刻机,而制造一台高精度的光刻机需要纳米级精度的测距与定位技术的支持。

这里要用到双频激光干涉仪。

而双频激光干涉仪一般只能用于光刻机的测距,不能直接用来定位。

这是因为双频激光干涉仪靠多普勒频移来测距的,所以只有在动镜移动的时候读出移动的距离。

实际加工中需要多次对晶圆进行镀膜和光刻,一但晶圆离开光刻机工作台就无法再用双频激光干涉仪再次定位,所以要对双频激光干部涉仪进行改进。

改进后的结构如图所示:
先由激光器发出单频激光经偏振分光镜分成两束光,一束经过直角棱镜返回偏振分光镜,另一束经过电光晶体铌酸锂进行频率调制后经直角棱镜返回偏振分光镜,两束不同频率的激光束在偏振分光镜汇合后产生一个脉冲信号,我们可以以铌酸锂晶体通电时间算起,到光电接收器接收脉冲信号结束,来记录激光在动镜之间通过的脉冲数,即可计算出激光通过的距离。

这是一种静态读数双频氦氖激光干涉仪,就是双频氦氖激光干涉仪的动镜在处于静止时就可以读数。

这样就可以给晶圆多次定位了。

要说明的是晶圆需要与动镜固定在一起,直到晶圆全部加工结束才能取下动镜。

防止晶圆与动镜的相对位置发生偏移。

好了,关于光刻机的测距与定位就讲到这里,谢谢大家。

数控机床定位精度与激光干涉仪测试曲线分析报告

数控机床定位精度与激光干涉仪测试曲线分析报告

定位精度与激光干涉仪线性分析报告一、数控机床定位精度常见误差曲线及分析1.负坡度图1中曲线向外运行和向内运行,两个测试均出现向下的坡度。

图1显示在整个轴线长度上,误差呈线性负增加。

这表示激光系统测量的距离短于机床位置反馈系统指示的距离。

图11.负坡度可能原因。

在激光干涉仪设置上,可能光束准直调整不正确,如果轴线短于lm,则可能是材料热膨胀补偿系数不正确,材料温度测量不正确或波长补偿不正确。

建议:(1)如果轴线行程很短,请检查激光的校准情况,检查电脑和测量头是否已连接并有反应;(2)、检查材料传感器是否正确定位以及输入的膨胀系数是否正确。

(3) 机床可能的误差源。

俯仰和扭摆造成阿贝(Abbé)偏置误差、机床的线性误差。

建议:检查在垂直轴上的平衡作用。

检查控制器补偿。

再检查机床的俯仰和丝杆同轴度。

丝杠可能在最近的一次维修或机床移动时被弄弯了,或者丝杠偏心旋转。

2.正坡度如图2显示在整个轴线长度上,误差呈线性正递增。

可能是以下几种问题:(1)激光干涉仪设置可能有问题。

如:材料热膨胀补偿系数不正确,材料温度测量不正确,波长补偿不正确。

(2)机床方面的问题。

检查机床的俯仰和扭摆误差、机床的线性误差。

(3)建议:检查EC10和传感器是否已连接并有反应,或者检查输入的手动环境数据是否正确。

检查材料传感器是否正确定位以及输入的膨胀系数是否正确。

检查并调节导轨塞铁松紧。

检查控制器补偿。

图23.周期性曲线图3显示整个轴线长度上的重复周期误差。

沿轴的俯仰保持不变,但幅度可能变化。

周期性曲线可能原因:(1)激光干涉仪设置上的问题。

该曲线的误差大小,不太可能与仪器操作有关,主要去分析机床本身的误差源。

(2)机床方面的问题。

丝杠或传动系统故障、编码器问题或故障、长型门式机床轨道的轴线直线度。

检查丝杠和导轨润滑。

(3)建议:采用小得多的采样点间隔,在一个俯仰周期上再测量一次,确认俯仰误差。

作为一项指导原则,如果你要检查的是机床某元件的周期性影响,可将采样间隔设为预期周期性俯仰的1/8。

基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析

基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析

基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析张文雅;宋健【摘要】介绍了双频激光干涉仪利用光的干涉和多普勒效应测距的原理以及距离的计算方法,并以此为基础介绍了双频激光干涉仪在投影光刻机工作台精确定位系统中的应用与工作原理,结合多年的投影光刻机维修经验分析了两例双频激光干涉仪及工作台系统的故障和解决步骤.【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2016(045)002【总页数】4页(P27-30)【关键词】投影光刻机;双频激光干涉仪;多普勒效应【作者】张文雅;宋健【作者单位】中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051;中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051【正文语种】中文【中图分类】TN305.7光刻技术起始于上世纪60年代,并遵循摩尔定律发展至今,光刻工艺的高低决定了在单位圆晶片上能够集成晶体管的数目,目前已经发展到28 nm甚至14 nm 制程,是人类所能达到的一种最高的加工技术。

投影光刻机是光刻工艺应用最为广泛的光刻设备,其工作台的定位精度是光刻机分辨率提高的根本与保障。

利用双频激光干涉仪,可以对工作台进行纳米级的跟踪定位。

双频激光干涉仪首先由美国HP公司研制成功并获得专利权,以稳频的双频氦氖激光器作为光源,按照拍频原理工作。

1.1 波的干涉当两个频率相同、振动方向相同、位相相同或位相差恒定的波在空间某一点相遇时,一些地方振动始终加强,一些地方始终减弱或完全抵消,这个现象就是波的干涉。

两个振动频率不同的波,即使振动方向相同,合振动也是很复杂的,一般不会产生干涉。

但是当振动方向相同、频率差很小的两列波在同一方向上传播时,便可产生一种特殊的干涉。

波一的振动频率f1,ym为振幅,t为时间,波一的振动位移为:波二的振动频率为f2,波二的振动位移为:合振动位移为:利用三角公式,可以把上式化为:合振幅频率为:双频激光干涉仪就是利用两个频率相差很小的光波干涉来工作。

激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差分析

激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差分析

激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差分析摘要: 使用( renishaw ) 激光干涉仪对一台立式铣床的定位精度进行了测量。

在启用和关闭机床环境补偿系统的条件下, 得出了两组相差较大的实验数据。

通过对激光干涉仪在测量中的误差进行分析, 找出了定位精度变化的原因和相关数据的变化范围。

由于数控机床热变形的不稳定性和测量方法的多样性, 到现在为止, 国内还没有统一的检验通则用来评定机床的热误差大小。

目前, 用来评定机床性能的主要依据之一是机床轴线的定位精度和重复定位精度的大小。

能够用于检测数控机床几何误差的检测方法有很多:一维球列测量法、球柄仪测量法和激光干涉仪测量法等。

但在生产实践中, 考虑到检测设备对测量精度、稳定性以及通用性等要求, 国内外生产厂家都采用激光干涉仪测量法来评定数控机床的轴线定位精度大小。

在使用激光干涉仪进行线性定位误差测量时, 分光镜或反射镜之一保持静止, 另一个光学元件沿着线性轴线运动。

图1中, 分光镜静止不动, 反射镜沿着预定的方向运动。

误差分析激光干涉仪是一种高精度的计量仪器, 自身的精度很高, 但在使用时会受到环境、安装条件、机床温度和线膨胀系数不准确等诸多因素的影响, 从而降低了测量精度。

激光干涉仪在机床定位精度测量中的误差包括激光干涉仪的极限误差e1、安装误差e2 和温度误差e3 用激光干涉仪实现高精度定位主轴头和控制系统补偿的位置误差方面, 大型加工中心的定位精度要求为数百分之一毫米。

采用ML10激光干涉仪就能达到要求。

航空工程工业加工大型整体部件和大型轻合金模具都需要X轴和Y轴行程达数米的加工中心。

平面度、角度和位置精度测量ML10提供的测量范围完全能满足各种不同要求:可以测量导轨的垂直度和水平平直度,主轴头的定位精度,正交轴的角度和回转轴的定位精度。

激光干涉仪便可自动测量主轴头的位置偏差。

ML10是测量大型加工中心平直度与定位精度最好且精度最高的测量装置。

用激光干涉仪测量数控机床主轴误差新法从激光干涉仪检验的内容来看,从最初的单独测量机床各轴的位移精度,扩展到分别测量定位精度、直线度、平行度、垂直度等,再到现在使用分布体对角线测量法测量机床的三维整体性能。

步进投影光刻机及其常见故障分析

步进投影光刻机及其常见故障分析

步进投影光刻机及其常见故障分析摘要:本文主要针对步进投影光刻机及其常见故障展开深入研究,先阐述了投影光刻机的结构、曝光系统等等,然后就又提出了几点常见故障,并采取了相应的解决方法,如圆片传输故障、曝光光源故障、淹模板传输故障、圆片出台故障,通过以上方法,能够使其常见的故障更好地解决。

关键词:步进投影;光刻机;常见故障;分析引言:在半导体器件制造中,离不开投影光刻工艺,而为了使其投影光刻工艺技术顺利完成,最重要的设备之一就是步进投影光刻机。

对投影光刻机进行分析,主要是由美国研制出来,并投入使用,此光刻机其特点为有着较高的性价比,而且具有一定的兼容性。

随着设备制造厂商的不断发展,投影光刻机已经朝着紫外光刻和侵没式光刻机的方向发展。

而在半导体工艺设备中,对于投影光刻机设备来说,其具有一定的复杂性和紧密性,而且所涉及到的学科知识也比较多。

一、投影光刻机的结构(一)圆片传输系统在圆片传输系统中,主要有两个单元,这两个单元分别为传输单元和预对准单元。

对于圆片传输单元进行分析,所组成的机构有很多,分别为片盒升降机构、取片机械手、下片机构等等。

对于圆片对准单元进行分析,所组成的结构也比较多,分别为标记传感器、圆片定中机构和圆片旋转机构等等。

在此系统中,其主要的功能对于曝光的圆片来说能够起着重要的作用,主要就是在预对准系统下,将所曝光圆片的标记进行找到,并对此中心进行定位,当完成找平工作之后,在工作台中,将其圆片放置在此工作台中,切忌要放在的位置必须要曝光。

(二)曝光系统对于投影光刻机进行分析,最重要的结构就是曝光系统,在曝光系统中,可以将此系统进行细分,在细分的过程中,可分为的系统比较多,如照明系统、对准系统和圆片工作台等等。

其中在照明系统中,组成部分比较多,有灯室、控制模块、干涉滤光片、聚光镜等等。

对于照明系统来说,其功能为能够将其光源提供给曝光,其中对提供的光源在波长和强度上,具有一定的特定性,在能量方面,比较均匀。

激光干涉仪的原理和应用

激光干涉仪的原理和应用

激光干涉仪的原理和应用1. 引言激光干涉仪是一种利用激光的干涉现象测量物体形状、表面粗糙度等参数的高精度仪器。

本文将介绍激光干涉仪的原理和应用,并深入探讨其工作原理和常见的应用领域。

2. 原理激光干涉仪的原理基于激光的干涉现象。

当两束光波相遇时,若其光程差为整数倍的波长,两束光波会发生干涉。

激光干涉仪利用这个原理,通过测量干涉条纹的位置和形态来进行各种参数的测量。

3. 工作原理激光干涉仪的工作原理可以分为两个步骤:光路干涉和信号处理。

3.1 光路干涉激光干涉仪的光路干涉部分包含分束器、反射镜和待测物体。

激光通过分束器被分为两束光,一束经过反射镜反射后再次汇聚,另一束直接照射到待测物体上。

两束光再次汇聚形成干涉条纹,这些条纹可以用来测量待测物体的形状和表面特性。

3.2 信号处理激光干涉仪的信号处理部分主要包括光电探测器和信号分析处理装置。

光电探测器负责将干涉条纹转换为电信号,信号分析处理装置则对这些电信号进行处理和分析,提取出有用的信息。

4. 应用激光干涉仪具有高精度、非接触、快速测量等特点,在各个领域都有着广泛的应用。

4.1 表面形状测量激光干涉仪可以通过测量干涉条纹的位置和形态来获取物体的表面形状信息。

例如,在机械制造中,可以利用激光干涉仪来检测零件的平整度、平行度等参数;在地质勘探中,可以用激光干涉仪来测量地表起伏、地壳变形等。

4.2 表面粗糙度测量激光干涉仪还可以用于表面粗糙度的测量。

通过测量干涉条纹的密度和间距,可以确定物体表面的粗糙度。

这在材料科学、电子工程等领域都有着重要的应用。

4.3 精密测量激光干涉仪的高精度使得其在精密测量领域有着广泛应用。

例如,在光学制造过程中,可以利用激光干涉仪来测量光学元件的表面形状,保证其质量和精度;在纳米技术中,激光干涉仪可以用于测量微小尺寸的构造。

4.4 光学与激光实验研究在光学与激光实验研究中,激光干涉仪也扮演着重要角色。

利用激光干涉仪,可以研究光的干涉、衍射等现象,对光学原理进行深入理解。

激光干涉仪如何校准数控机床

激光干涉仪如何校准数控机床

激光干涉仪是一种以波长作为标准对被测长度进行测量的仪器。

激光干涉仪是20世纪60年代末期问世的一种新型的测量设备,由美国HP公司研制成功并于1970年投入市场,随即受到了相关行业特别是机床制造业的重视,其主要在:线形、角度、垂直度、直线度、平面度等方面上应用。

随着激光干涉仪测量技术的不断提高,测量软件的不断开发其测量范围越来越广泛,特别是在测量数控机床位置精度方面用途最为广泛,本文以某国产激光干涉仪为例详细讲述如何对数控机床进行线性测量。

◆数控机床检测的必要性首先,新机床出厂前都要进行定位精度和重复定位精度以及反向间隙的检测,现在大多使用激光干涉仪进行.其次,机床使用一段时间后,由于丝杠的磨损和其它原因,精度会逐渐丧失,这时需要使用激光干涉仪进行精度的再校准.最后,激光干涉仪还可以进行其它项目的检测,例如直线度,垂直度,角度等。

◆激光干涉仪工作原理一个角锥反射镜紧紧固定在分光镜上,形成固定长度参考光束。

另一个角锥反射镜相对于分光镜移动,形成变化长度测量光束。

从激光头射出的激光光束(1)具有单一频率,标称波长为0.633µm,长期波长稳定性(真空中)优于0.05ppm。

当此光束到达偏振分光镜时,被分成两束光—反射光束(2)和透射光束(3)。

这两束光被传送到各自的角锥反射镜中,然后反射回分光镜中,在嵌于激光头中的探测器中形成干涉光束。

如果两光程差不变化,探测器将在相长干涉和相消干涉的两端之间的某个位置观察到一个稳定的信号。

如果两光程差发生变化,每次光路变化时探测器都能观察到相长干涉和相消干涉两端之间的信号变化。

这些变化(条纹)被数出来,用于计算两光程差的变化。

测量的长度等于条纹数乘以激光波长的一半。

应当注意到,激光波长将取决于光束经过的空气的折射率。

由于空气折射率会随着气温、压力和相对湿度的变化而变化,用于计算测量值的波长值可能需要对这些环境参数的变化进行补偿。

在实践中,对于技术指标中的测量精度,只有线性位移(定位精度)测量需要进行此类补偿,在这种情况下两束光的光程差变化可能非常大。

投影光刻机TTL对准原理与故障分析

投影光刻机TTL对准原理与故障分析

投影光刻机TTL对准原理与故障分析张文雅;宋健【摘要】This article expounds the w orking principle of ASM L stepperTTL align system and its com prised m odules,introduces the align system process program ,and sum m arizes the norm al faults of the alignsystem ,and m ethods of analysis and problem solving.%论述了A SM L 公司某型投影光刻机TTL 对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维修经验总结了对准系统的常见故障,并给出了分析以及解决方法。

【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2016(000)004【总页数】4页(P29-32)【关键词】氦氖激光器;同轴对准;投影光刻机【作者】张文雅;宋健【作者单位】中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051;中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051【正文语种】中文【中图分类】TN305.7光刻工艺是大规模集成电路生产的关键工艺,直接决定了半导体芯片的特征尺寸。

投影光刻机作为半导体工艺中应用最为普遍的光刻设备,具有结构复杂,设计精密,生产效率高等特点。

为了成功的在硅片上形成图案,必须把硅片上的图形正确地与投影掩模板上的图形对准,也就是确定硅片上图形位置、方向和变形的过程。

要实现这个目的就要通过掩模板与硅片之间的坐标变换,利用这些数据与投影掩模图形建立起正确关系,使得每个连续的图形与先前曝光层匹配对准。

对准系统就是保证芯片套刻精度的核心,深刻理解对准系统的原理对我们用好投影光刻机以及故障的排除都有很大的指导作用。

本文以ASML公司的某型1:4镜头倍率的步进投影光刻机为例进行阐述与分析。

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收 稿 日期 :2016—01.21
(总第252期)⑨
先 进 光 刻 技 术 与 设 备
电 子 工 业 毫 用 设 备

频 原 理 工 作 。 1 双 频 激 光 干 涉 仪 测 距 原 理
卜 .
厂:. 、/ —一 ( )
(6)
其 中 , 为 光 源 与 观 测 者 的 相 对 速 度 ,c为 光
中图分 类 号 :TN305.7
文献 标 识 码 :A
文章 编 号 :1004—4507(2016)02/03—0027—0
The Principle of Stepper W afer Stage Positioning Based on the Dual-frequency Laser Interferom eter and Fault Diagnosis
并 以此 为基 础 介 绍 了双 频 激 光 干 涉仪 在 投 影 光 刻 机 工作 台精 确 定位 系统 中的 应 用 与 工作 原 理 .
结合 多年 的 投 影 光刻 机 维修 经验 分析 了 两例 双频 激 光干 涉仪 及 工 作 台系统 的故 障和 解 决 步骤 。
关 键 词 :投 影 光刻 机 ;双 频 激 光干 涉仪 ;多 普勒 效 应
y=[2 c。s 2耵( 。s( 卜(4)
合 振 幅频 率 为 :

(5)
双 频 激 光 干涉 仪 就 是 利 用 两 个 频 率 相 差 很 小 的光 波干 涉 来 工作 。
1.1 波 的 干 涉 当两 个 频 率 相 同 、振 动 方 向相 同 、位 相 相 同或
位 相 差 恒 定 的波 在 空 间 某 一 点 相 遇 时 ,一 些 地 方
速 。 利 用 二 项 式 展 开 ,当 比值 很 小 而 略 去 高 次

项 时 ,就 得 出 :
振 动 始 终 加 强 ,一 些地 方始 终减 弱 或 完全 抵 消 ,这
ZHANG W enya,SONG Jian
(The 1 3 Research Institute of CECT,Shijiazhuang 05005 1,China)
Abstract: This paper describes the principle of the dual—frequency laser interferom eter measuring distances using the principle and the calculation methods of the light interference and Doppler efect. and thus based introduces the application and working principle of the dual—f requency laser interferom eter in the stepper w afer stage positioning,and sum m arizes two faults and the corresponding solution. K eywords:Stepper;dual—frequency Laser interferom eter;D oppler efect
囝 蔓 墓 耋
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基于双频激 光干涉仪 的投影光刻机 工作 台定 位原 理 与 故 障分 析
张 文 雅 .宋 健
(中 国 电子 科 技 集 团公 司第 十 三 研 究所 ,石 家 庄 050051)
摘 要 :介 绍 了双 频 激 光 干 涉仪 利 用 光 的 干 涉 和 多普 勒 效应 测距 的原 理 以及 距 离的计 算 方 法 。
个 现 象 就 是 波 的干 涉 。两 个 振 动 频 率 不 同的 波 ,即
使振 动 方 向相 同 ,合 振 动 也 是很 复杂 的 ,一 般 不 会
产 生 干 涉 。但 是 当振 动 方 向相 同 、频 率 差 很 小 的两
列 波 在 同 一方 向上 传 播 时 ,便 可 产 生 一 种特 殊 的
为广 泛 的光 刻 设 备 ,其 工 作 台 的 定 位 精 度 是 光 刻 机 分 辨 率 提 高 的根 本 与 保 障 。利 用 双 频 激 光 干 涉 仪 ,可 以对 工 作 台进 行 纳 米 级 的 跟 踪 定位 。双 频 激 光 干 涉 仪 首 先 由美 国 HP公 司 研 制 成 功 并 获 得 专 利 权 ,以稳 频 的双 频 氦 氖 激 光 器 作 为 光 源 ,按 照 拍
干 涉 。波 一 的振 动 频 率 ,ym为 振 幅 ,t为 时 间 ,波
一 的振 动 位 移 为 :
y1=y ̄cos 2盯 t
(1)
波 二 的振 动 频 率 为 , 波 二 的振 动 位 移 为 : .
Af=(厂一门 - _f
(7)
在 双 频 激 光 干 涉 仪 中 ,工 作 台长 条镜 的 移 动 速 度 是 ,由于 激 光 射 入 长 条 镜 又 返 回 ,相 当于 接 收 器 相 对 光 源 移 动 速 度 是 2 ,故 :
光 刻 技 术 起 始 于 上 世 纪 60年 代 ,并 遵 循 摩 尔 定 律 发 展 至 今 ,光 刻 工 艺 的 高 低 决 定 了在 单位 圆 晶 片 上 能 够 集 成 晶体 管 的 数 目, 目前 已经 发 展 到 28 nnl甚 至 14 nnl制 程 , 是 人 类 所 能 达 到 的一 种 最 高 的 加 工 技 术 。投 影 光 刻 机 是 光 刻 工 艺应 用 最
△产 厂 C
(8)
沤 就 是 由 工 作 台 长 条 镜 移 动 向 产 生 光 频 率 的 变 化 ,称 为 多 普 勒 频 差 。如 果长 条 镜 在 t时 间 内移
动 了距 离 L,由:
y2=ymCOS 21T t 合振 动 位 移 为 :
(2)
Y=yl+y2:ymcos 21T f COS 2 t (3) 利 用 三 角 公 式 ,可 以把 上 式 化 为 :
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