光学设计

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光学设计需要的知识点

光学设计需要的知识点

光学设计需要的知识点光学设计是一门综合性的学科,涉及到光学现象、光学元件的设计和制造等方面的知识。

在进行光学设计时,我们需要掌握以下几个主要的知识点:一、光学基础知识在进行光学设计之前,我们需要了解一些光学基础知识,包括光的本质、光的传播方式、光与物质相互作用的基本原理等。

这些知识将对光学设计的理解和应用起到基础性的支撑作用。

二、光学元件的特性光学元件是光学系统中的基本组成部分,因此我们需要了解各种光学元件的特性和工作原理。

比如,透镜的成像原理、棱镜的色散特性、镜面的反射规律等。

这些知识将帮助我们选择合适的光学元件,并进行光学系统的设计和优化。

三、光学系统的构建光学系统是由多个光学元件组成的,它们之间的位置、形状和参数的选择对于光学系统的性能影响很大。

因此,在光学设计中,我们需要了解光学系统的构建原理和常见的光学布局方式,例如正向布局、倒向布局、成像系统布局等。

同时,还需要熟悉光学系统中各个元件之间的关联性和调节方法。

四、光学设计软件的应用光学设计软件是进行光学设计的重要工具,它可以帮助我们进行光学系统的仿真和优化。

因此,我们需要掌握光学设计软件的基本操作和使用技巧,了解如何利用软件对光学系统进行建模、计算和分析。

五、光学制造和测试技术光学设计的最终目标是实际应用,因此我们还需要了解一些光学制造和测试技术。

比如,光学元件的加工工艺、光学表面的质量检测方法、光学系统的调试和测试等。

这些知识将帮助我们更好地将光学设计转化为实际的光学产品。

光学设计作为一个复杂而又有挑战性的领域,需要掌握的知识点众多。

除了上述提到的知识点外,还有很多相关的知识和技术,如非线性光学、光电子学、光学材料等。

只有不断学习和深入理解这些知识,我们才能在光学设计中取得良好的成果。

总结起来,光学设计需要我们掌握光学基础知识、了解光学元件的特性、掌握光学系统的构建方法、熟悉光学设计软件的应用以及了解光学制造和测试技术。

这些知识点的掌握将对我们进行光学设计和优化提供有力的支持,提高光学系统的性能和质量。

什么是光的光学仪器和光学设计

什么是光的光学仪器和光学设计

光学仪器是用于检测、测量和操作光的设备和工具,它们基于光的传播、反射、折射、干涉和衍射等现象来实现特定的功能。

光学设计则是通过优化光学系统的构成和参数,以实现特定的光学性能和功能。

本文将详细介绍光学仪器和光学设计的原理、方法和应用。

一、光学仪器的原理和分类:光学仪器是利用光的传播和相互作用来检测、测量和操作光的设备和工具。

它们基于光的特性和光学元件,如透镜、反射镜、光栅等,实现特定的功能。

常见的光学仪器包括以下几种:1. 显微镜:利用透镜和光学系统来放大和观察微小物体的设备。

它可以通过调整放大倍数和对焦距离来获得高分辨率的图像。

2. 望远镜:利用反射镜或透镜等光学元件来放大远处物体的设备。

它可以通过调整焦距和放大倍数来观察远处天体或景物。

3. 光谱仪:用于测量和分析光的波长和强度分布的设备。

它可以通过光栅、棱镜或干涉仪等光学元件对光进行分散、分光和检测。

4. 干涉仪:利用光的干涉原理来测量物体的形状、厚度或折射率等参数的设备。

常见的干涉仪包括白光干涉仪、迈克尔逊干涉仪和弗罗格干涉仪等。

5. 激光器:产生激光光束的设备。

它利用光的受激辐射和放大过程来产生一束高强度、单色和相干性很好的光。

二、光学设计的原理和方法:光学设计是通过优化光学系统的构成和参数,以实现特定的光学性能和功能。

它基于光的传播和相互作用,利用光学元件和光学系统的特性和参数,以满足特定的设计要求。

常见的光学设计方法包括以下几种:1. 几何光学设计:基于几何光学原理,通过光的传播和物体的几何形状来设计光学系统。

例如,通过选择适当的光学元件和调整其参数,以实现特定的光学成像、放大或聚焦等功能。

2. 光线追迹法:通过追踪光线的传播路径和相互作用,以预测和优化光学系统的性能。

它可以用于设计光学系统的光路、像差校正和光源布局等。

3. 波前传播法:通过模拟光的波前传播和相位变化,以预测和优化光学系统的成像质量和像差。

它可以用于设计光学系统的透镜曲率、光阑尺寸和光学元件的位置等。

光学设计全程实验报告(3篇)

光学设计全程实验报告(3篇)

第1篇一、实验目的1. 了解光学设计的基本原理和过程;2. 掌握光学设计软件(如ZEMAX)的基本操作和应用;3. 通过实验,提高对光学系统性能的评估和优化能力;4. 深入理解光学系统中的各类元件及其作用;5. 培养团队协作和实验操作能力。

二、实验器材1. 光学设计软件(ZEMAX);2. 相关光学元件(透镜、棱镜、光阑等);3. 光具座、读数显微镜等辅助仪器;4. 设计说明书和镜头文件。

三、实验内容1. 光学系统设计思路(1)系统结构框图:设计一个简单的光学系统,包括物镜、目镜、光阑等元件,使系统成正像。

(2)系统结构设计:根据系统结构框图,设计物镜、目镜、光阑等元件的几何参数,并确定系统的主要技术参数。

2. 镜头设计(1)物镜设计:根据设计要求,选择合适的物镜类型,确定物镜的焦距、孔径、放大率等参数。

(2)目镜设计:根据设计要求,选择合适的目镜类型,确定目镜的焦距、放大率等参数。

3. 系统优化(1)优化物镜和目镜的几何参数,提高成像质量。

(2)优化系统整体性能,如分辨率、对比度等。

4. 仿真分析(1)使用ZEMAX软件进行光学系统仿真,观察成像质量。

(2)分析仿真结果,对系统进行进一步优化。

5. 实验报告撰写(1)总结实验过程中遇到的问题及解决方法。

(2)对实验结果进行分析和讨论。

四、实验步骤1. 设计光学系统结构框图,确定系统的主要技术参数。

2. 在ZEMAX软件中建立光学系统模型,设置物镜、目镜、光阑等元件的几何参数。

3. 优化物镜和目镜的几何参数,提高成像质量。

4. 优化系统整体性能,如分辨率、对比度等。

5. 使用ZEMAX软件进行光学系统仿真,观察成像质量。

6. 分析仿真结果,对系统进行进一步优化。

7. 撰写实验报告,总结实验过程、结果及分析。

五、实验结果与分析1. 实验结果(1)物镜焦距:f1 = 100mm;(2)目镜焦距:f2 = 50mm;(3)放大率:M = 2;(4)分辨率:R = 0.1mm;(5)对比度:C = 0.8。

光学设计的概念

光学设计的概念

光学设计的概念光学设计是指利用光学原理和技术进行光学元件、光学系统或者光学仪器的设计的过程。

它涉及到光学元件的形状、材料,以及光的传播和控制等方面的内容。

光学设计的目标是通过合理的设计和优化,使得光学元件或者系统能够实现特定的功能或者满足特定的要求。

光学设计的基本原理包括几何光学原理、物理光学原理和波动光学原理。

几何光学原理主要研究光的传播规律,例如折射、反射、光程差等。

物理光学原理则研究光的波动性质,例如干涉、衍射等。

而波动光学原理主要研究光的传播过程中的波动效应,例如像差、散焦等。

这些原理为光学设计提供了理论基础和计算方法。

在光学设计中,首先需要确定光学元件或者系统的功能和要求。

例如,如果设计一个光学透镜,首先需要确定其要实现的光学焦距、光学孔径和像差等性能要求。

对于系统而言,需要确定系统的成像质量、分辨率和光学效率等指标。

然后,根据已有的光学知识和技术,确定合适的光学原理和光学元件的组合方式,选择合适的材料和形状。

在进行光学设计时,通常需要使用光学设计软件。

这些软件提供了光学元件和光学系统的建模和仿真功能,可以进行参数优化和性能分析。

通过这些软件,可以快速而准确地进行光学设计和模拟,节省了时间和资源。

光学设计的一个重要任务是进行光学元件的优化。

在设计过程中,可以通过改变元件的形状、材料和表面性质等参数,来改善元件的性能。

例如,在设计光学透镜时,可以通过优化曲面形状、厚度分布和折射率分布等参数,来减小像差并提高光学质量。

通过多次迭代优化,可以找到最佳的设计方案。

光学设计的应用非常广泛。

在光学仪器上,例如显微镜、望远镜和相机等,都使用了复杂的光学系统进行成像。

在光学通信中,光学设计可以用于设计光纤、光开关和光封装等。

在光学传感和光学测量中,光学设计可以用于设计各种传感器和测量设备。

在光学制造中,光学设计可以用于优化加工工艺和提高光学元件的制造精度。

总之,光学设计是光学科学与工程的重要组成部分,通过充分利用光学原理和技术,能够实现对光学元件和系统的灵活和精确控制。

光学设计与光学工艺

光学设计与光学工艺

光学设计与光学工艺光学设计与光学工艺光学是物理学中一个非常重要的分支,光学技术广泛应用于工业、医疗、军事、航天等领域。

光学技术的应用与发展离不开光学设计和光学工艺。

一、光学设计光学设计是指通过对光学器件结构、材料等参数的调整和优化,以达到指定的光学性能要求的技术。

光学设计的目的是在光学器件中实现特定的光学功能。

光学设计中的基本概念:1. 光线光线是指在介质中传播的光的路径。

光线可以用来描述光的传播方向、位置和强度等参数。

光线的传播符合几何光学的规律。

2. 物理光学物理光学是研究光的波动性质和光与物质相互作用的学科。

物理光学的研究内容包括波动光学、色散、透镜、衍射、干涉等。

3. 几何光学几何光学是研究光的传播路径和能量转移的学科。

几何光学的研究内容包括光线、透镜、成像和光学仪器等。

光学设计中的基本步骤:1. 分析需求在光学设计之前,需要了解实际需求。

需求可分为几何和波动两个方面。

根据需求,选择合适的光学系统和光学元件。

2. 设计参数光学设计参数包括:光学组件类型、透镜结构、材料、曲率等。

光学设计参数是光学设计的基础。

3. 模拟和布局根据光学设计参数模拟光的行为并进行光路布局。

光路布局确定光的传播路径和构建光学器件,同时也用于分析和优化光学系统的性能。

4. 优化设计设计优化是指在满足系统要求的前提下,调整光学系统设计参数以实现更好的光学性能。

设计优化方法包括改变透镜曲率、调整透镜间距、改变透镜厚度等。

5. 检验和调整光学设计完成后,需要对系统进行检验和调整以验证光学性能。

检验和调整包括透镜表面质量检查、系统调整和性能测试等。

二、光学工艺光学工艺是指通过各种手段制造光学元件、搭建光学系统的生产和加工方法。

光学工艺中常用方法包括:光学加工、光学涂层和光学测试等。

1. 光学加工光学加工是指使用各种工具对光学元件进行加工和表面处理。

光学加工方法包括:研磨、抛光、切割和打磨等。

2. 光学涂层光学涂层是指在光学元件表面上制成一层镀膜,以改变光线通过元件的透射、反射和吸收等特性。

光学设计实验报告范文(3篇)

光学设计实验报告范文(3篇)

第1篇一、实验目的1. 理解光学系统设计的基本原理和方法。

2. 掌握光学设计软件的使用,如ZEMAX。

3. 学会光学系统参数的优化方法。

4. 通过实验,加深对光学系统设计理论和实践的理解。

二、实验器材1. ZEMAX软件2. 相关实验指导书3. 物镜镜头文件4. 目镜镜头文件5. 光学系统镜头文件三、实验原理光学系统设计是光学领域的一个重要分支,主要研究如何根据实际需求设计出满足特定要求的成像系统。

在实验中,我们将使用ZEMAX软件进行光学系统设计,包括物镜、目镜和光学系统的设计。

四、实验步骤1. 设计物镜(1)打开ZEMAX软件,创建一个新的光学设计项目。

(2)选择物镜类型,如球面镜、抛物面镜等。

(3)设置物镜的几何参数,如半径、厚度等。

(4)优化物镜参数,以满足成像要求。

2. 设计目镜(1)在ZEMAX软件中,创建一个新的光学设计项目。

(2)选择目镜类型,如球面镜、复合透镜等。

(3)设置目镜的几何参数,如半径、厚度等。

(4)优化目镜参数,以满足成像要求。

3. 设计光学系统(1)将物镜和目镜的镜头文件导入ZEMAX软件。

(2)设置光学系统的其他参数,如视场大小、放大率等。

(3)优化光学系统参数,以满足成像要求。

五、实验结果与分析1. 物镜设计结果通过优化,物镜的焦距为100mm,半视场角为10°,成像质量达到衍射极限。

2. 目镜设计结果通过优化,目镜的焦距为50mm,半视场角为10°,成像质量达到衍射极限。

3. 光学系统设计结果通过优化,光学系统的焦距为150mm,半视场角为20°,成像质量达到衍射极限。

六、实验总结1. 通过本次实验,我们掌握了光学系统设计的基本原理和方法。

2. 学会了使用ZEMAX软件进行光学系统设计。

3. 加深了对光学系统设计理论和实践的理解。

4. 提高了我们的动手能力和团队协作能力。

5. 为今后从事光学系统设计工作打下了基础。

注:本实验报告仅为示例,具体实验内容和结果可能因实际情况而有所不同。

光学设计岗位职责

光学设计岗位职责

光学设计岗位职责光学设计是光学行业中的一项技术工作,主要负责光学元件和光学系统的设计与优化。

光学设计岗位的职责包括以下几个方面:1.光学元件设计:光学设计师需要根据产品要求,设计各种光学元件,如透镜、棱镜、光栅等。

在设计过程中,需要考虑元件的曲率、折射率、形状等参数,以及光学特性,如焦距、光学畸变、透过率等。

设计师需要利用光学软件进行光学元件的建模和优化,以满足产品需要。

2.光学系统设计:光学设计师还需要设计光学系统,如光学显微镜、望远镜、摄像头等。

在进行系统设计时,需要考虑光路设计、光学元件的组合和位置等因素,以实现所需的成像效果。

设计师还需进行系统的整体损耗和性能的优化,以提高系统的成像质量。

3.光学模拟与分析:光学设计师需要利用光学软件进行光学模拟与分析,以评估光学元件和系统的性能。

通过模拟,可以预测光学系统的成像效果、光学畸变等问题,并进行优化。

此外,还可以通过模拟分析光学元件对光学系统性能的影响,确定元件的设计参数。

4.光学制造与测试支持:光学设计师需要与光学制造和测试团队密切合作,提供设计图纸和技术支持。

设计师需要了解光学制造的工艺和要求,以确保设计的可制造性,并根据制造过程中的限制进行相应的优化。

设计师还需要参与光学元件和系统的测试,验证设计的性能和指标,确保产品的质量。

5.技术研究与创新:光学设计师需要关注最新的光学技术发展和创新成果,与同行进行交流与讨论,以保持技术的更新和提高设计的水平。

设计师还需要进行相关技术的研究,探索新的设计方法和算法,以提高设计效率和成像质量。

6.解决问题与项目管理:光学设计师需要解决设计中遇到的各种问题,如成像质量不达标、光学畸变等。

设计师需有较强的问题分析和解决能力,能够找到问题的根本原因和解决方案。

此外,对于大型项目,设计师还需要进行项目管理,包括项目进度的把控、团队协作与沟通等,以保证项目的顺利进行。

总之,光学设计岗位的职责涵盖了光学元件和系统的设计与优化、模拟与分析、制造与测试支持、技术研究与创新,以及问题解决与项目管理等方面。

(完整版)光学设计zemax

(完整版)光学设计zemax
➢ Tighten 2x 将现有各项Operands 的Min 及Max 值缩 小一倍
➢ Sort by Surface 将现有各项Operands 以 Surface number 排序(递增)
➢ Sort by Type 将现有各项Operands 以其类型排序 (递增)
➢ Save 将现有的Tolerance Data 存入一个文件
差) ➢TSTX,TSTY(光学零件表面允许倾斜偏心公
差)
2014.9
光学系统设计
公差操作数(续)
➢TIRR(球差的一半与象散的一半表示的表 面不规则度,单位是光圈单位)
➢TIND(d光折射率允许偏差) ➢TABB(阿贝常数允许偏差)
2014.9
光学系统设计
➢上述设定完成之后,即可进行公差分析 ➢Tools---Tolerancing
2014.9
光学系统设计
➢每个镜片加工公司都有自己的样板库,如 “changchun.tpd”是长春理工某附属工厂 (可见光镜片)、“beijing.tpd”是北京蓝斯 泰克光电(红外镜片)的样板库等。
➢将这些tpd文件拷入“C:\ZEMAX\Testplat”目 录即可进行相应的比对
2014.9
2014.9
光学系统设计
2014.9
光学系统设计
➢Fast Tolerance Mode:
• 此项仅对近轴后焦偏差视为补偿器 (Compensator) 时有效。即在 Tolerances Data Editor 中存在一行有关后焦的补 偿器设定。在Default Tolerance 中选中 Use Focus Comp 就可以生成此补偿器的设定。 此模式比一般模式(没有选中此项)的运算模 式快50 倍。
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现代光学设计作业一、掌握采用常用评价指标评价光学系统成像质量的方法,对几何像差和垂轴像差进行分类和总结。

常用指标评价光学系统成像质量的方法:1.1 用于在光学系统实际制造完成后对其进行实际测量:分辨力检测和星点检测星点检测:实际上每一个发光点物基元通过光学系统后,由于衍射和像差以及其他工艺瑕疵的影响,绝对地点对应点的成像是不存在的,因此卷记的结果是对原物强度分布起了平滑的作用,从而造成点物基元经系统成像后的失真,因此,采用点物基元描述成像的过程,其实是一个卷积成像过程,通过考察光学系统对一个点物基元的成像质量就可以了解和评价光学系统对任意物分布的成像质量,这就是星点检验的思想。

分辨力检测:所谓分辨力就是光学系统成像时所能分辨的最小间隔,它是衡量图像细节表现力的技术参数。

测量分辨力所获得的有关被测系统像质的信息量虽然不及星点检验多,发现像差和误差的灵敏度也不如星点检验高;但分辨力能确定的数值作为评价被测系统的像质综合性指标,并且不需要多少经验就能获得正确的分辨力值。

1.2 用于设计阶段的像质评价指标主要有几何像差、垂轴像差、波象差、光学传递函数、点阵图、点扩散函数、包围圆能量等。

任何一个实际光学系统的实际成像总与理想成像存在差异,实际成像不可能绝对地清晰和没有变形,这种成像差异就是所谓的像差。

下面对几何像差和垂轴像差进行分类和总结。

1.2.1 几何像差主要分为两种:轴上点像差和轴外点像差。

(1)轴上点的像差又分为:轴上点的球差和轴上点的色差。

轴上点的球差:由物点A 发出与光轴夹角相等为在同一锥面上的光线对经系统以后,其出射光线同样位在一个锥面上,锥面顶点就是这些光线的聚焦点,而且必然位在光轴上。

光线与光轴的夹角不同聚焦点的位置发生改变。

也就是物点A 发出的光不再聚焦于同一点,我们称其为球差。

用不同孔径光线对理想像点'0A 的距离''''''0 1.000.8500.7A A A A A A ........表示。

计算公式为:'''L L l δ=-轴上点的色差:由于光学系统中介质对不同波长光线折射率不同,因此它们的理想像点位置不同。

计算公式为 '''''FC OF OC F C l A A l l ∆==-。

(2)轴外点的像差轴外像点的单色像差:轴外物点发出的通过系统的所有光线在像空间的聚焦情况比轴上点复杂的多。

为简化问题,同时又能够定量地描述这些光线的弥散程度,我们从整个入射光束中取两个互相垂直的平面光束,用这两个平面光束的结构近似地代表整个光束的结构。

这两个平面一个称为子午面(由物点和光轴构成的平面)另一个称为弧矢面(过主光线与子午面垂直的平面)。

用来描述这两个平面光束结构的几何参数分别称为子午像差和弧矢像差。

a、子午像差取主光线两侧具有相同孔径高的两条成对的光线,称为子午光线对。

用子午光线对的交点离理想像平面的轴向距离表示此光线对与理想像平面的偏离程度,称为子午场曲。

用光线对交点离开主光线的垂直距离表示此光线对交点偏离主光线的程度,称为子午慧差。

当光线对称地逐渐向主光线靠近,宽度趋于零时,它们的交点趋近于一点,这一点应该位于主光线上,它离开理想像平面的距离称为细光束子午场曲。

不同宽度子午光线对的子午场曲和细光束子午场曲之差,代表了细光束和宽光束交点前后位置的差,可称为轴外子午球差。

b、弧矢像差与子午光线对的情形相对应,我们用弧矢光线对的交点离理想像平面的轴向距离表示此光线对与理想像平面的偏离程度,称为弧矢场曲。

光线对交点离开主光线的垂直距离表示此光线对交点偏离主光线的程度,称为弧矢慧差。

当光线对称地逐渐向主光线靠近,宽度趋于零时,它们的交点趋近于一点,这一点应该位于主光线上,它离开理想像平面的距离称为细光束弧矢场曲。

不同宽度弧矢光线对的弧矢场曲和细光束弧矢场曲之差,代表了细光束和宽光束交点前后位置的差,可称为轴外弧矢球差。

c、正弦差SC΄对某些较小视场的光学系统来说,由于像高本身较小,慧差的实际数值更小,因此一般改用慧差与像高的比值来代表系统的慧差,用符号SC'示:'''SC = lim(K/y)S对于小孔径成像的光学系统,它的子午像差δL΄T、K΄T弧矢像差和δL΄S、K΄S 不起作用。

它在理想像平面上的成像质量由细光束子午和弧矢场曲x΄t、x΄s决定。

x΄t和x΄s之差反映了主光线周围的细光束偏离同心光束的程度,称为“像散”,用符号x΄ts表示:x΄ts=x΄t-x΄s像散等于零说明该细光束为一同心光束。

d、轴外像点的畸变成像光束的主光线和理想像面交点的高度之差作为光束的实际像高。

它和理想像高之差δy΄z ,称为畸变,z z 0y'=y'-y'δ 它用来衡量成像变形。

1.2.2 垂轴像差前面介绍的各种几何像差是用代表成像光束结构的独立几何参数来表示像点的成像质量,是单项独立几何像差。

这种方式表示像差的优点是便于了解解光束的结构,分析它们和光学系统结构的关系,以便进一步校正像差。

它们的缺点是数据繁多,不易获得系统综合成像质量的概念。

垂轴几何像差直接用不同孔径子午、弧矢光线在理想像面上的交点和主光线在理想像面上的交点间的距离来表示。

直接给出了光束在像平面上的弥散情况,反应了像点的大小,更直观的显示了系统的成像质量对弧矢光束来说,由于系统对称于子午面,因此对称于子午面的弧矢光线通过光学系统时永远与子午面对称。

另一侧的弧矢光线很容易根据对称的关系确定。

为了用垂轴像差表示色差,可以将不同颜色光线的垂轴像差用同一基准像面和同一基准主光线作为基准点计算垂轴像差。

一般采用不尊敬波长光线的理想像面和主光线作为基准计算各色光线的垂轴像差。

为了了解整个像面的成像质量,同样需要计算轴上点和若干不同像高轴外点的垂轴像差,对轴上点来说,子午和弧矢垂轴像差是完全相同的。

二、学习光学自动设计和两种常用自动设计程序的原理,掌握阻尼最小二乘法自动设计程序的使用方法,或掌握ZEMAX 软件中的自动设计程序使用方法。

2.1 光学自动设计在光学自动设计中,一般把对系统的全部要求,根据它们和结构参数的关系不同重新划分成两大类。

第一类是不随系统结构参数改变的常数。

在计算和校正光学系统像差的过程中这些参数永远保持不变,它们是和自变量(结构参数)无关的常量。

第二类是随结构参数改变的参数。

它们包括代表系统成像质量的各种几何像差或波像差,同时也包括某些近轴光学特性参数。

2.2 阻尼最小二乘法阻尼最小二乘法就是将最小二乘法的概念同时用于像差函数K f 和独立变量i x ,使像差和校正量步长同时保持最小。

为了控制校正步长,在评价函数Φ上加入一个阻尼项21()Ni i i P q X =⨯∑。

为此,我们建立一个新的评价函数ψ:2211()()MNKi i Ki x f P q X ==ψ=++∑∑式中P 、p 都是阻尼因子是()x ψ取极值。

令偏导数()0ix X ψ=∂,得到阻尼法方程,用矩阵表示:200T T A f A AX P QX ++= 则阻尼最小二乘解:210()T T X A A P Q A f -=-+2.3 自适应法光学自动设计程序适应法光光学自动设计适用于m<n 的情形。

此时的方程组具有无穷多解,需要从中选取一组最优解。

我们选用向量模最小的那一组解。

从数学角度讲,就相当于在把像差线性方程组作为约束的条件下求函数()Tx x x Φ∆=∆∆的极小值。

即:求min ()min()Tx x x Φ∆=∆∆,满足 A x F ∆=∆。

可以利用拉格朗日数乘法求解。

构造函数 ()()T L x A x F λ=Φ∆+∆-∆ 有 200T Lx A xLA x F λλ∂=∆+=∂∂=∆-∆=∂,可以解得 1121022()T T T T x A AA F A AA λλλ-∆=---∆==-,再将λ带入x ∆可得 1()T T x A AA F -∆=∆。

用这种方法求解像差线性方程组的方法为适应法。

当m=n 时,像差线性方程组有唯一解,系数矩阵A 满足 111()()T T AA A A ---=和111()T T x A A A F A F ---∆=∆=∆。

适应法像差自动校正程序满足以下特点:第一,参加矫正的像差个数m 必须小于或等于n ;第二,参加校正的像差不能相关。

三、熟练掌握ZEMAX软件包的像差计算、自动设计、传函计算等程序的使用方法。

利用zemax进行自动光学设计的一般操作步骤如下:1.建立光学系统模型在建立光学系统模型之前,首先要确定是选择序列或非序列模式,然后再进行系统特性参数的输入和初始结构的输入。

(1)系统特性参数的输入:系统特性参数输入主要是对孔径、视场和波长进行设定。

(2)初始结构参数的输入:初始结构的输入主要是指对面型、表面结构参数、半径、厚度、玻璃和半口径。

2.进行像质评价系统建立以后可以利用zemax对其性能进行评价。

像质分析主要包括扇形图、点列图、光学传递函数、点扩散函数和波面图等像质评价和照度计算,成像分析等功能,如二维系统机构图、点列图和包围园能量。

3.优化使用zemax自动优化时,主要有如下步骤:设置评价函数和优化操作数;设置优化变量;进行优化。

4.公差分析Zemax公差分析可以模拟在加工、装配过程中由于光学系统结构或其他参数的改变引起的系统性能变化,从而为实际的生产指导。

利用zemax进行公差分析需分两步:公差数据设置和执行公差分析。

Zemax采用三种计算模式进行公差分析:灵敏度分析、反向灵敏度分析和蒙特卡洛分析。

四、利用ZEMAX软件设计如下光学系统:⑴望远镜物镜设计要求:焦距为200,半视场角为4˚,相对孔径为1:5优化前,根据查找到的数据手册的数据,设计镜头参数及各项指标如下图:设计优化函数,将EFFL设计为200,然后进行优化,优化后结果如下:⑵目镜设计与⑴中的望远镜物镜进行配合,要求:视放大率为6倍,目镜出瞳距离为20设计思路:采取反向光路设计方法。

由已知可计算得到的相关系统参数如下:'' 6.67D D D Γ=⇒= '''200/633.33w m m f f f Γ=-⇒== ''tan 22.8tan w w w Γ=⇒=采用对称式目镜,查光学设计手册,以下数据离要求的数据比较接近,先用这些数据设计镜头参数,然后进行优化。

在ZEMAX中设计镜头参数如下:设置优化函数进行优化后,所得得结果如下:⑶照相物镜设计要求:焦距为50,半视场角为25˚,相对孔径为1:3设计思路:查光学设计手册找到参数相近的结构,按要求进行优化。

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