板式PECVD更换红外加热管作业指导书
PECVD作业指导书
CENTROTHERM管式PECVD操作说明书按压START真空泵启动按钮，启动真空泵。
（图
图6.1.2
打开并检查气源。
打开压缩空气阀，N2阀，NH3阀，
6kg /cm2—7kg /cm2。
其他气体4 kg /cm2—10kg /cm2范围
开启SIH4阀（图4）
图（4）阀（图6）
图（6）开总电源。
用手扳住电柜外部的红色按钮，机器上指示灯
图（8）
VAT控制器灯亮，可确定总电源已开启（图8）。
启动CMI程序。
开总电源后计算机自动启动。
输入密码后自动进入Windows桌面。
用鼠标左键双击“CMI”图标，启动CMI。
进入CMI 画面，检查设备状态：
SLS=UP ，DOOR=CLOSED ，PLC=OK ，LIFT=READY ，TUBE=READY ，TGA FREE=YES
SET/ACT POSITION=0 ，PROCFLAG=OK（整体界面图9）
选择工艺程序，生产。
插片。
用小车承载石墨舟，在插片房中插满硅片。
向机器进车。
向机器推入装完片的石墨舟小车。
计算机
在“LOTS”里输入自己名字的拼音缩写，在舟号里输入舟的号码。
选择对应的工艺文件。
设备自动进行工艺生产。
(整体界面图10)
图（10）。
板式热交换器整修作业指导书
板式热交换器整修作业指导书编制：校对：审核：索引1.0目的2.0范围3.0参阅4.0定义5.0程序6.0发货规范板式热交换器的整修过程，描述整修过程的基本资料和原理，保证整修质量。
2.0 范围本程序适用于所有阿拉伐的板式热交换器和其他的板式热交换器的更换垫圈服务。
除非制定说明，探伤检查是标准的程序。
3.0 参阅ALT-QA-105/ISSUE3(INSTRUCTION MANUAL FOR PHE RECONDITION)4.0 定义PHE---板式热交换器NBR---丁晴橡胶EPDM---三元乙丙橡胶5.0 整修程序5.1 拆除垫圈。
方法：5.1.1 局部加热法范围：各类橡胶垫圈。
把热风枪放在热垫圈槽的背面，加热的同时慢慢移动热风枪，同时运用工具把热圈从板片上去下。
5.1.2 液氮冷却法。
范围：NBR,EPDM 等类型的树脂橡胶。
板片在液氮中浸泡约2分钟。
在从支架中搬运板片前先检查是否所有的垫圈已全部脱落。
5.1.3 氢氧化钠去除法。
范围：去除树脂橡胶的一种可选方法。
板片在氢氧化钠溶液中一段时间以确保垫圈脱落，具体时间根据情况不同而变化。
在从支架中搬运板片前线检查是否所有的垫圈已全部脱落。
用水冲洗板片以去除多余的氢氧化钠。
注意：铝或铜制的板片不适用于此法。
5.1.4 一般加热法。
（电炉加热）范围：去除树脂橡胶的一种可选方法。
把不超过60片的板片放进电炉，在100℃的温度下加热1小时。
用手去除垫圈，同时处理粘合剂。
5.2 板片清洗。
对于非常脏的板片，可以用高压水枪进行预清洗。
把板片放入支架中，根据下列的顺序放入不同的槽中，具体的时间根据板片的结垢程度而定。
浸泡在酸槽中。
浓度20%，温度为75℃，时间为4-10小时。
在浸泡前，先测量酸的浓度，用比重计测量，标准的比重值为1.25±0.02。
浸泡在水槽中大约2分钟。
浸泡在碱槽中。
浓度为20%，温度为60℃，时间为4-10小时。
浸泡在水槽中大约2分钟。
PECVD作业指导书
保密级别C文件种类作业指导书文件编号LW－PT3－015－A0编制部门工艺技术部编制/日期修订/日期审核/日期批准/日期PECVD作业指导书1..目的指导生产2 适用范围电池制造部PECVD工序OTB设备。
3 定义无4 职任、权限适用于PECVD工序OTB设备的车间作业人员5 工作流程图无6 正文6.1 操作目的在硅片表面沉积一层起减反射和钝化作用的氮化硅膜。
6.2 设备及工具OTB设备、载片盒、高温隔热手套、PVC手套、口罩、镊子、不锈钢桌架、椭偏仪6.3 材料与工艺气体HF清洗后合格的多晶硅片、硅烷、氨气、氩气、氮气、压缩空气。
6.4 车间洁净管理进入车间必须穿戴工作服，操作时戴洁净的手套、口罩。
并且保证每班清理现场及设备卫生，以保证车间的洁净度。
6.5准备工作6.5.1 设备准备确认设备正常运行,工艺真空度要求、工艺温度、冷却水压力、特气压力及流量正常. 6.5.2 原材料准备检查RANA湿法刻蚀后的硅片,将合格硅片传送至DEPX加载位置，准备生产；不合格片不能投入.6.5.3 工装工具准备备齐用于工艺生产的载片盒、隔热手套、PVC手套、口罩、镊子、椭片仪等。
6.6 机械装片机械手自动传送至DEPX24006.6.1 自动装舟自动上片，机械手依次装满3×4的石英舟，然后，进入载入室进行抽真空等步骤。
6.6.2 LMS传送系统磁悬浮轨道的自动传送，使石英舟在整个真空环境下与底部导轨无接触的传输完成整个工艺过程。
手动取片盒：首先将一排的3个载片盒依次取出，然后放到指定位置或传送至下道工序印刷。
注意事项：取片盒时一定要轻，防止硅片掉出片盒，增加不必要的碎片，保持载片盒的竖直取放和移动。
将合格硅片随流程单一起转下工序，严禁不合格硅片转入下道工序。
将合格硅片与随工单一起转下工序。
常见不合格硅片有崩边、缺角、裂纹、碎片、变色、斑点、穿孔、颜色不均匀等。
6.7 操作控制6.7.1 绒面硅片经PECVD镀膜后减反射膜厚度目标平均值为88±2nm，表面折射率平均目标值应为 2.08±0.03。
管式PECVD操作指导书.docx
1.目的确保管式PECVD处于良好的运行状态。
2.使用范围适用于所有Centrotherm管式PECVD。
3.生产操作3.1开机3.1.1开总电源。
用手扳住电柜外部的红色按钮，旋转9()度。
从“OFF”位置拔向“ON”位置，机器上指示灯亮VAT控制器灯亮，可确定总电源已开启。
注意，当机器出现故障，按下急停键后，首先松开急停键，然后将开关逆时针转到Reset的位宜，然后再顺时针转到“ON”的位置。
机器上指示灯亮VAT控制器灯亮，可确定总电源已开启。
3. 1.2开真空泵。
(1) 合上真空泵电源，按卜jesct按钮，start按钮亮，然后按卜• start按钮，pre run按钮亮，此时真空泵启动，当真空泵运行到止常转速时，vacuum mode灯亮，此时真空泵完全启动。
3. 1.3检查外围条件。
N2的压力〉2. 5Kg/cm 2, SiH4的压力约为1. 5 Kg/cm 2, NH3的压力约为1. 5Kg/cm-, CDA 的压力为5〜7 Kg/ cm 2 o炉门处的冷却水流量计＞4SLM,设备炉体区顶部的冷却水流量计＞4SLM,主冷却器＞8SLM,设备尾部的冷却水 流量计＞4SLM,射频电源的总冷却水流虽计＞18SLM.3. 2界面操作（1） 启动CM 【程序。
开总电源后计算机自动启动。
输入密码“6065”后自动进入Windows 桌面。
用鼠标左键双击“CM1”图标，启动CM1。
（2） 进入CMI 画而，检查设备状态：SLS=UP （舟处于上位），DOOR 二CLOSED （门处于关紧状态），PIQOK , LIFT 二READY（机械壁必 须在零位）,TUBE 二READY （炉管处于准备好状态）SET/ACT POSITION 二0 （桨处于原点位），PROCFLAG 二0K （程序标志位0K 状态）3. 2. 1选择工艺程序，生产。
（1） 插片。
用小车承载石墨舟，在插片房屮插满硅片。
（2） 向机器进车。
热网加热器更换管子的施工方案及流程
热网加热器更换管子的施工方案及流程下载温馨提示：该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。
文档下载后可定制随意修改，请根据实际需要进行相应的调整和使用，谢谢!并且，本店铺为大家提供各种各样类型的实用资料，如教育随笔、日记赏析、句子摘抄、古诗大全、经典美文、话题作文、工作总结、词语解析、文案摘录、其他资料等等，如想了解不同资料格式和写法，敬请关注!Download tips: This document is carefully compiled by the editor. I hope that after you download them, they can help yousolve practical problems. The document can be customized and modified after downloading, please adjust and use it according to actual needs, thank you!In addition, our shop provides you with various types of practical materials, such as educational essays, diary appreciation, sentence excerpts, ancient poems, classic articles, topic composition, work summary, word parsing, copy excerpts,other materials and so on, want to know different data formats and writing methods, please pay attention!热网加热器更换管子的施工方案及流程是一个比较复杂的工程，需要经过严谨的规划和具体步骤的执行。
PECVD作业指导书
PECVD作业指导书PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）被广泛应用于半导体、微电子和涂层行业，用于制备高品质的薄膜材料。
本文将介绍PECVD的基本原理，工作过程以及在不同领域的应用。
一、基本原理PECVD是一种基于化学气相沉积的薄膜制备技术，其核心原理是利用等离子体激活气体分子，在较低的温度下生成和沉积薄膜。
其主要步骤包括气体进样、气体激活、离子束加速和沉积薄膜。
通常，PECVD系统由真空室、进气系统、高频发生器和沉积室等部分组成。
二、工作过程1. 气体进样：待沉积的薄膜材料会以气体形式通过进气系统输入到PECVD系统中。
常用的气体包括硅烷、氨气、二甲基酮等。
2. 气体激活：高频发生器产生的高频电场作用下，原质子分解为阳极、阴极和自由电子，形成等离子体。
等离子体释放出的电子和原子之间发生碰撞，激活气体分子。
3. 离子束加速：在等离子体激活气体的作用下，离子在电场的作用下被加速，形成离子束。
离子束的能量和速度决定了薄膜生长的速度和质量。
4. 沉积薄膜：离子束撞击基片表面，使原子重新排列并沉积在基片上，形成薄膜。
具体沉积过程中，离子以电子作为中间体，通过吸附、解离和重组等反应形成化学键。
三、应用领域1. 半导体工业：PECVD被广泛应用于半导体器件的制造中。
例如，可以使用PECVD在晶圆上沉积硅氮氧化物作为绝缘层，或者沉积多晶硅用于构建晶体管等。
2. 微电子工业：PECVD可以在平板显示器、光伏电池和传感器等微电子器件的制造过程中发挥重要作用。
例如，PECVD可用于制备SiNx和SiOx薄膜用于光学薄膜和阻隔层。
3. 涂层工业：PECVD还被应用于不同类型的涂层，例如防反射涂层、耐磨涂层和阻隔膜等。
通过控制沉积参数，可以调节薄膜的光学、电学和机械性能，以满足不同的应用需求。
总之，PECVD作为一种重要的化学气相沉积技术，在半导体、微电子和涂层领域发挥着重要作用。
管式加热器更换施工方案
管式加热器更换施工方案1. 引言管式加热器是工业生产过程中常用的一种设备，用于对流体进行加热。
由于长期使用或其他原因，管式加热器可能需要进行更换。
本文档将介绍管式加热器更换的施工方案，包括前期准备、具体操作步骤以及注意事项。
2. 前期准备在进行管式加热器更换施工前，需要进行一些前期准备工作，以确保施工顺利进行。
以下是几个重要的前期准备事项：2.1 安全评估首先需要进行安全评估，确保施工过程中的安全性。
评估包括对现场环境的检查，以及估计操作过程中可能出现的风险和风险控制措施。
2.2 施工材料和设备准备根据具体更换的管式加热器类型和规格，准备所需的施工材料和设备。
一般包括新的管式加热器、管道连接件、工具等。
2.3 工作人员培训确保施工人员具备相应的技术知识和操作经验，可以熟练进行管式加热器更换施工。
如有需要，可进行培训和演练。
3. 操作步骤在进行管式加热器更换施工时，按照以下步骤进行操作：3.1 断开电源和介质流动首先，断开管式加热器所接的电源，并停止介质的流动。
确保安全操作。
3.2 排空和准备工作区域排空管式加热器内的介质，避免施工过程中的泄漏事故。
同时，清理工作区域，确保施工场地整洁，有足够的操作空间。
3.3 拆卸旧的管式加热器拆卸管式加热器时，先拆卸与管道的连接件，然后依次拆卸固定在支架上的管式加热器。
注意轻拿轻放，避免损坏其他设备和管道。
3.4 安装新的管式加热器根据施工图纸和管道布置，安装新的管式加热器。
确保连接稳固，防止漏气和漏液现象。
3.5 连接管道和电路连接新的管式加热器和管道，使用合适的连接件确保密封性。
同时，连接加热器所需的电源电路，确保加热器正常工作。
3.6 检查和测试施工完成后，进行管道和加热器的检查和测试。
检查管道连接是否正常、电路是否畅通，测试加热器的工作状态。
3.7 清理工作区域清理施工过程中的残留物和垃圾，保持工作区域整洁。
4. 注意事项在进行管式加热器更换施工时，需要注意以下事项：•严格遵守安全操作规程，佩戴必要的个人防护设备。
PECVD作业指导书08
目的:制定设备保养的具体要求、执行步骤和标准设备\工具:吸尘器，tools，眼罩环境\安全要求: 见文末1.控制方案:2.控制标准: 3处理方案: 操作规程:一.Plasma SourceQuartz tube: 石英管，inner conductor: 内置铜导管，high density plasma area: 高密度等离子体区域，coaxial outerconductor: 同轴外导体，magnet system: 外加磁场系统，thin film deposition plasma: 薄膜敷层等离子体，depositionshield: 敷层防护槽，gas supply: 气体供应，substrates: 载片Deposition Shield 沉积敷层护槽Front Deposition Shield 前部沉积敷层护板●Cooling Water Supply (Inlet)冷却水入口❍Cooling Water Supply (Outlet) 冷却水出口⏹Gas Supply (NH3) 氨气供应口☐Gas Supply (SiH4) 硅烷供应口☐Gas Supply (SiH4) 硅烷供应口❑SiH4 Gas Shower 硅烷输出口❒Cooling Water System 冷却水系统♦Magnet System 磁性系统线性等离子体源的基本构造Removing the Quartz Tubes 拆卸石英管当设备运行工艺一段时间后，由于工艺腔内部会产生1到2簿膜层，然而这些簿膜层将会直接影响到敷层的效率，因此我们在用石英管30-40小时后更换，装卸步骤如下：(1)首先停止工艺，关闭泵，vent三个腔体，打开所有的盖子；(2)拆除微波产生器外部的盖子；(3)拔出每一侧与微波产生器相连的铜制天线；(4)向上轻提将侧部的敷层护板拆除；检修频次：40小时或工艺需要工艺要求更换(5)用设备提供的半月形工具先嵌人卡口互锁插头的孔中然后在向顺时针旋转；(6)将卡口互锁插头拔出；(7)最后将石英管及其配件沿竖直方向托出；(8)用吸尘器将它的源头和法栏处的微粒杂质吸出；2．Removing the Deposition Shields 拆卸敷层防护槽有时候当等离子体源经过长时间的工作后，也由于沉积过多并附着在敷层防护槽上，在这种情况下对防护槽的清洁也是非常重要的，因此我们需要将防护槽卸下来通常通过喷沙处理和超声波清洗并与酒精结合处理；特殊的T型工具（左）和维护操作过程开关比较（右）拆卸敷层防护槽的步骤：(1)先用真空吸尘器将槽内的敷层颗粒及杂质除去；(2)再用设备的T型工具固定住防护槽的一字栓后顺时针旋转90度；(3)沿竖直方向拔出防护槽；(4)清洁防护槽及其备件；(5)再次之后可用酒精将剩余的杂质祛除；检修频次：季度是否变形，完好度的判断更换，清洁，如果要更换敷层防护槽子可根据的拆除敷层防护槽的操作顺序相反进行操3 Cleaning the Plasma Source 清洁等离子体源作设备中的等离子体源也要定期的进行维护和清洁。
PECVD标准作业指导书
PECVD标准作业指导书1. 目的该标准作业指导书旨在指导操作人员正确进行PECVD（等离子增强化学气相沉积）工艺，确保设备的安全和产品的质量。
2. 适用范围本标准作业指导书适用于所有使用PECVD工艺的设备和产品。
3. 安全要求- 在操作PECVD设备时，必须穿戴适当的个人防护装备，包括但不限于安全眼镜、防护手套和工作服。
- 在操作前，需要对设备进行全面的安全检查，确保设备正常运作并且没有安全隐患。
- 禁止在操作时使用不符合要求的物品，以免引起危险或质量问题。
4. 操作步骤- 开机前检查：检查PECVD设备的各个部件是否完好，确保真空泵、气体流控制系统、加热系统等均正常运转。
- 处理前准备：将待处理的衬底清洗干净并放置在PECVD反应腔中。
- 气体处理：根据工艺要求设置气体流量和流程，确保设备内气体的稳定和纯度。
- 处理参数设置：根据要求设置反应腔的温度、压力、沉积时间等参数。
- 处理结束：待沉积结束后，关闭气体供给和真空泵，将处理后的产品取出并进行必要的后续工艺。
5. 质量控制- 在进行PECVD处理前需要进行质量控制样品的测试，确保设备的稳定性和处理的产品质量符合要求。
- 在处理过程中需要定期检测设备的气体流量、温度、压力等参数，发现异常情况及时进行调整。
- 处理结束后，需要对产品进行外观和性能检测，确保产品质量符合要求。
6. 后续处理- 处理结束后，需要将设备做必要的清洁和维护，确保下次操作的安全和质量。
- 如有异常情况发生，需要及时记录并向相关部门汇报，以便进行故障排除和改进。
7. 相关记录- 操作人员应当及时记录每次PECVD处理的工艺参数、产品质量、设备状态、异常情况等，以供后续追溯和分析。
8. 责任分工- 设备操作人员负责具体的操作过程和设备维护，同时要确保操作安全和产品质量。
- 监督员负责监督操作过程，确保操作符合标准作业指导书的要求，并且做好相应记录和报告。
9. 总结本标准作业指导书介绍了PECVD操作的基本要求和步骤，并指导了在操作过程中应注意的安全和质量控制问题。
PECVD作业指导书
（图 18） 2. 擦片时鉴别不合格品及时处理（如图 19） 1， 硅片表面膜层出现较大的色斑 2， 硅片表面膜层出现较多的水纹 3， 硅片表面膜层出现两侧颜色明显不同 4， 有氮化硅粉尘脱落造成的表面膜层色差 以上不合格品作两种归类处理 1.为一类，作去膜从新制绒正常工艺 2.为一类，作去膜—>单扩：过酸 反扩 正常工艺 双扩：重镀 正常工艺 不合格品
6. 内容
1. PECVD：微波间接等离子增强化学气相沉积。 2. 等离子体：由于物质分子热运动加剧，相互间的碰撞就会使气体分子产生电离，这样物质就会变成自由运 动并由相互作用的正离子、电子和中性粒子组成的混合物。
7. 记录
无
8. 支持性文件
无 9.
附录
浙
江
晶
科
能
源
有
限
公
页
司
号：2/7
受控
文件名：PECVD 作业指导书 文件号： 版本号： 操作前准备工作：
调节真空吸笔阀门
（图15） 2. 下片时员工将真空吸笔的笔头轻轻放于片子边缘（一般是片子的右下角为佳）然后轻轻从石墨板上将片 子吸起，放到工作台上即可（如图 16） 员工用真空吸 笔进行下片
（图 16）
浙
江
晶
科
能
源
有
限
公
页
司
号：6/7
受控
文件名：PECVD 作业指导书 文件号： 版本号：
修订状态： 发布日期：
浙
江
晶
科
能
源
有
限
公
页
司
号：5/7
受控
文件名：PECVD 作业指导书 文件号： 版本号：
员工拿工具进行拨正
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目的：制定设备保养的具体要求、执行步骤和标准
1.操作说明：
1.1关闭传动速度，关闭工艺，关闭工艺腔加热器，关闭红外加热器空开（26Q2）
1.2 进料腔充氮气，打开进料腔盖板降温 1.3 松开坏的加热管紧固螺丝和导线连接螺丝
1.4 取出加热管
1.5根据以上操作反向操作就是安装新的特气管道的过程
2．注意事项：
2.1 安装过程中，三相铜牌处打火的导线一定要清除
2.2 新装的加热管的连接导线不能过长，避免与腔体碰擦导致短路
2.3 三相加热管的数量要相等或者相近，保持三相电流平衡 2.4 加热管与铜排的连接螺丝要紧固，以免打火
2.5 全部安装完毕后，要拿CDA 对加热管的三相铜牌吹扫，避免安装过程有螺丝，垫片等金属导体掉在铜牌上而导致短路。