激光原理、激光刻蚀设备及清边工艺调研
激光原理与技术实验报告.doc
激光原理与技术实验报告.doc概述激光技术是一种应用广泛、发展迅速的新技术，在工业、医学、通讯等领域都有着广泛的应用。
本实验旨在了解激光的基本原理，掌握激光器的构造和激光束的生成与测量方法，以及掌握激光的一些基本特性和应用。
实验原理激光是指具有高度纯度、单色性好、方向性和相干性极强的光，其产生和放大是通过受激辐射过程完成的。
具体来说，激光器的工作原理是通过激发介质内的原子或分子，使其受激辐射，在辅助的反射镜的作用下，从而在激光器中形成一束具有极强方向性和相干性的激光。
实验装置实验装置如图所示，主要由He-Ne激光器、反射镜组、光路组件和功率测量仪等组成。
其中，He-Ne激光器是实验的主体部分，可产生波长为632.8nm的激光。
反射镜组是用来控制和调整激光束传输方向、聚焦和扩展等方面的效果。
光路组件包括凸透镜、切向波片、偏振片等，主要用来调整、过滤和分析激光束的偏振状态、强度和相位，以及产生不同的波长和形状的激光束。
功率测量仪主要用来测量激光束的功率、光密度和曲率等参数。
实验步骤1. 准备工作：检查实验装置的连接和安全，确认激光幽灵系统处于正常工作状态，注意保护眼睛。
2. 初步调整：用反射镜组将激光束从He-Ne激光器中传输到实验台上的观测屏幕上，调整反射镜组的位置和角度，以便获得尽可能高的反射率和强度。
3. 改变激光束的偏振状态：加入偏振片，以控制激光束的偏振状态和方向，观察不同偏振状态的激光束在屏幕上的反映情况，了解激光束的偏振特性。
4. 产生不同波长的激光束：加入切向波片和凸透镜组件，改变激光束的相位和波长，观察不同波长激光束在观察屏幕上的差异，掌握不同波长激光束的产生和调制方法。
5. 测量激光束的功率和强度：用功率测量仪测量激光束的功率和光密度等参数，掌握不同位置和距离的激光束的功率和强度变化情况，应用激光干涉和相位空间法等技术分析和处理激光束。
激光加工的基本原理
激光加工的基本原理
激光加工是一种利用高能激光束对材料进行切割、刻蚀、焊接等加工的技术。
其基本原理是利用激光器产生的高能激光束，通过光束发射装置将其聚焦成高能密集的光点，然后将光点扫过待加工材料表面，使材料在激光束的作用下发生熔化、汽化、氧化或剥离等反应，从而实现对材料的精密加工。
激光加工的原理主要涉及以下几个方面：
1. 激光器：利用激光介质（如气体、固体或半导体等）在外界激励下产生激光。
2. 光束发射装置：将激光束聚焦成一束高能密集的光点，可通过透镜、反射镜等光学元件实现。
3. 材料与激光的相互作用：激光束照射到材料表面后，其能量将被吸收、反射或透射。
吸收能量最多的材料通常是适合激光加工的材料。
4. 加工过程：激光束在加工材料表面形成极小的热源，使材料局部加热，进而发生熔化、汽化、氧化或剥离等反应。
加工方法包括切割、刻蚀、焊接等。
激光加工的优势主要有以下几个方面：
1. 高精度：激光束聚焦成极小的光点，可实现对材料的精细加工，具有较高的加工精度和分辨率。
2. 高效率：激光加工速度快，加工效率高，适用于批量生产和大规模加工。
3. 无接触加工：激光加工过程中，材料和激光之间没有物理接触，可避免材料的污染和变形。
4. 宽材料适应性：激光加工可适用于多种材料，包括金属、塑
料、陶瓷等。
5. 灵活性：激光加工可实现对复杂形状的加工，可根据需要进行定制和个性化设计。
总之，激光加工通过高能激光束对材料进行加工，具有高精度、高效率、无接触、宽材料适应性和灵活性等优势，广泛应用于制造业、电子工业、医疗器械、航空航天等领域。
《飞秒激光刻蚀石英玻璃微加工技术研究》
《飞秒激光刻蚀石英玻璃微加工技术研究》一、引言随着微纳制造技术的飞速发展，飞秒激光刻蚀技术在石英玻璃微加工领域的应用日益广泛。
该技术以其高精度、高效率、低损伤等优点，在光学、光电子学、微机械等领域展现出了巨大的应用潜力。
本文将就飞秒激光刻蚀石英玻璃微加工技术的研究现状、原理、实验方法、结果以及展望等方面进行详细介绍。
二、飞秒激光刻蚀技术原理飞秒激光刻蚀技术是一种利用飞秒激光器产生的高能量、高精度的激光脉冲对材料进行微纳加工的技术。
其原理是利用激光的超高能量和超快脉冲宽度，使石英玻璃材料在极短时间内发生非线性吸收、多光子电离等物理过程，从而达到局部快速熔化、汽化、烧蚀的效果，实现材料的高精度微加工。
三、石英玻璃微加工技术研究现状石英玻璃作为一种重要的光学材料，具有优良的物理化学性能和光学性能，广泛应用于光学仪器、光电子器件、传感器等领域。
然而，石英玻璃硬度高、脆性大，传统的机械加工方法难以实现高精度、低损伤的加工。
因此，飞秒激光刻蚀技术在石英玻璃微加工领域的应用成为了研究热点。
目前，国内外学者在飞秒激光刻蚀石英玻璃的加工工艺、加工质量、加工效率等方面进行了大量研究，取得了一系列重要成果。
四、实验方法与步骤1. 实验材料与设备：选用高纯度石英玻璃作为实验材料，采用飞秒激光器作为加工设备。
2. 实验设计：根据实际需求，设计合理的激光参数（如激光脉冲能量、频率、扫描速度等）和加工路径。
3. 实验步骤：将设计好的加工路径导入飞秒激光器控制系统，启动激光器进行加工。
通过观察和记录实验过程中的现象和数据，分析飞秒激光刻蚀石英玻璃的加工特性。
五、实验结果与分析1. 加工质量：飞秒激光刻蚀石英玻璃具有高精度、低损伤的特点，可实现微米级别的加工精度。
通过优化激光参数和加工路径，可以提高加工质量，降低表面粗糙度。
2. 加工效率：飞秒激光刻蚀技术具有高效率的优点，可以在短时间内完成复杂的微纳加工任务。
然而，过高的激光能量可能导致加工速度降低，需根据实际需求合理调整激光参数。
激光切割中的光刻蚀和刻蚀深度控制
激光切割中的光刻蚀和刻蚀深度控制激光切割是一种高精度、高效率的切割技术，广泛应用于各个领域。
在激光切割过程中，光刻蚀和刻蚀深度控制是重要的工艺参数，对于切割质量、效率和耗能等方面都有着重要影响。
一、光刻蚀光刻蚀是指在激光切割中，激光束经过光阴极瞬间劈裂成多束辐射线，形成切割区域内的光化学反应。
这一过程由于时间短暂而难以观测到，但其对切割效果和质量有着重要的影响。
光刻蚀的实现需要考虑多个因素，其中一个重要的因素是激光功率密度。
在激光功率密度大于一定值时，会出现局部蒸发和微爆炸的现象，从而将材料削除。
这些过程生成的高温和高压会刺激激光辐射和半导体材料中的多个粒子，形成新的反应，从而引发切割区域内的光化学反应。
光化学反应的结果是将原来的半导体材料转化为气态或液态的反应产物，减少了反弹和侧向燃烧的风险。
因此，在激光切割时，需要根据材料的特性、波长、聚焦效果等因素，合理控制激光功率密度，以实现精确的光刻蚀。
二、刻蚀深度控制刻蚀深度控制是激光切割中的另一个重要参数。
它关系到产品的尺寸精度、表面质量和切割速度等方面。
因此，实现精确的刻蚀深度控制是提高激光切割质量和效率的重要手段。
刻蚀深度控制的关键是在切割过程中保持激光束的稳定，即控制激光束的波长、功率、直径等参数，以确保刻蚀深度的精度和一致性。
切割材料的性质也会影响刻蚀深度的控制。
例如，在切割硅片时，由于硅片是半导体材料，会发生化学反应，放出大量的氧气，产生的高温和高压会对激光束的稳定造成不利影响，从而影响刻蚀深度的控制。
提高刻蚀深度控制的另一个关键在于切割速度的控制。
切割速度是指激光束在切割区域内的移动速度。
在切割过程中，提高切割速度可以降低刻蚀深度，并减少燃烧产物在切割区域内的残留。
然而，切割速度过快会导致材料局部温度过高，从而破坏激光束的稳定性，影响刻蚀深度的控制。
因此，在实际应用中，需要借助先进的激光切割技术和设备，精确控制切割速度和稳定性，以获得优秀的刻蚀深度控制结果。
玻璃内激光雕刻原理
玻璃内激光雕刻原理玻璃内激光雕刻是一种利用激光束进行材料刻蚀的技术，它在许多领域中都有广泛应用，如艺术品制作、珠宝雕刻、工艺品制作等。
本文将详细介绍玻璃内激光雕刻的原理及其工作过程。
一、激光原理激光是指具有高度相干性的、准直的、单色性强的光束。
它由激光器产生，其中常用的激光器有氩离子激光器、二氧化碳激光器等。
二、玻璃内激光雕刻是利用激光束对玻璃材料进行刻蚀，使其形成图案或文字。
具体原理如下：1. 吸收和传导：激光束照射到玻璃表面时，玻璃会吸收激光的能量，并将其传导到内部。
2. 焦散：由于玻璃是透明材料，激光束在传导过程中会发生焦散，即激光束会逐渐扩散。
3. 能量沉积：当激光束传导到玻璃内部时，能量会逐渐集中，形成高强度的能量密度。
4. 热效应：高强度的能量密度会导致玻璃材料局部升温，达到其熔点以上。
5. 蒸发和熔融：由于升温，玻璃材料会发生蒸发和熔融现象，形成刻蚀效果。
三、玻璃内激光雕刻工作过程玻璃内激光雕刻的工作过程通常包括以下几个步骤：1. 参数设定：确定激光器的功率、频率以及加工速度等参数，以适应不同的玻璃材料和要雕刻的图案。
2. 材料准备：将待加工的玻璃板或玻璃制品安放在适当的位置，并进行固定。
3. 定位标记：在玻璃表面进行定位标记，以确保激光束能够准确照射到需要雕刻的位置。
4. 激光雕刻：启动激光器，将激光束照射到玻璃表面，沿着预定的路径进行准确的雕刻。
5. 清洁与检测：完成雕刻后，清洁玻璃表面，去除灰尘和废料，并进行质量检测。
6. 精加工与润色：根据需要进行精加工和润色处理，使雕刻效果更加细致和美观。
四、应用领域玻璃内激光雕刻技术在许多领域中有着广泛的应用，以下是一些常见的应用领域：1. 装饰艺术：激光雕刻可以通过对玻璃内部的刻蚀，营造出精美的花纹和图案，用于装饰各类艺术品。
2. 珠宝雕刻：通过激光雕刻技术，可以将精美的图案、文字等雕刻在宝石或玻璃珠宝上，增加其艺术价值。
3. 工艺制品：玻璃内激光雕刻技术可以用于制作工艺品，如玻璃摆件、香炉、杯具等，赋予其独特的艺术魅力。
激光蚀刻技术
激光蚀刻技术
激光蚀刻技术是一种利用激光束对材料或器件表面进行加工的技
术。通过调节激光功率密度，控制激光束的位置和运动轨迹，实现对
材料表面进行蚀刻、切割或钻孔等加工操作。激光蚀刻技术具有精度
高、速度快、加工质量好等优点，被广泛应用于电子、半导体、光学、
模具制造等领域。激光蚀刻设备有CO2激光器、半导体激光器、光纤
激光器等不同类型，可根据不同的加工需求进行选择。
激光调研报告
激光调研报告调研报告：激光技术应用领域调研一、激光技术概述激光（laser）是由聚集的光子在特定的介质中产生的高强度光束，具有高度单色性、高度相干性和高度直线性。
激光技术是一种应用广泛的先进技术，已经在许多领域得到了广泛应用。
二、激光技术应用领域调研结果1.医疗领域激光技术在医疗领域有着广泛的应用。
激光手术已经成为一种常见的治疗方法，例如激光近视手术、激光去痣、激光祛痘等。
此外，激光也被用于体外或体内手术导航、癌症治疗等。
2.工业制造领域激光技术在工业制造中有着重要的应用。
激光切割、激光焊接、激光打标等技术已经取代了传统的机械切割、焊接和打标方式，具有更高的精度和效率。
3.通信领域激光在光纤通信中起到了重要的作用。
激光光源被广泛应用于光纤通信系统中，用于信号的传输和接收，提高了通信速度和容量。
4.科学研究领域激光技术在科学研究领域有着重要的地位。
激光被用于光谱分析、激光干涉、激光共振等研究中，为研究人员提供了强大的工具。
5.军事和安全领域激光技术在军事和安全领域也有广泛应用。
激光传感器、激光雷达等设备被用于目标识别、制导和侦查等方面，提高了军事作战和安全防护的效果。
6.其他领域此外，激光技术还被应用于激光显示、激光雷射阅读器、激光打印等领域，给这些领域带来了革命性的改变。
三、激光技术发展趋势激光技术的发展趋势主要包括：1.激光技术的高效率和高功率化，提高了激光的输出功率和稳定性，满足了日益增长的应用需求。
2.激光技术的微型化和集成化，激光器件越来越小型化，成本越来越低，使得激光技术更容易应用到各个领域。
3.激光技术与其他技术的融合，例如激光与光纤、激光与人工智能等的结合，扩大了激光技术的应用范围。
4.激光技术在绿色和环保方面的改进，例如研发更节能和环保的激光器件。
四、结论激光技术是一种应用广泛的先进技术，已经在许多领域得到了广泛应用。
随着技术的不断发展，激光技术将在医疗、工业制造、通信等领域继续发挥重要作用，并呈现出高效率、微型化、集成化和与其他技术融合的发展趋势，同时也需要进一步关注绿色环保方面的改进。
光刻刻蚀实验实验报告书(3篇)
第1篇一、实验目的1. 理解光刻和刻蚀在半导体制造中的基本原理和作用。
2. 掌握光刻胶的涂覆、曝光、显影和刻蚀的实验步骤。
3. 学习通过光刻和刻蚀技术制作特定图案。
二、实验原理光刻是半导体制造中的关键步骤，它利用光致抗蚀剂（光刻胶）的感光特性，在硅片等衬底上形成图案。
刻蚀则是将光刻胶上的图案转移到衬底上，通过化学或物理方法去除不需要的衬底材料。
三、实验材料与仪器1. 材料：硅片、光刻胶、显影液、刻蚀液等。
2. 仪器：光刻机、显影机、刻蚀机、显微镜、电子天平等。
四、实验步骤1. 光刻胶涂覆将硅片清洗干净，然后均匀涂覆一层光刻胶。
涂覆后，将硅片放入烘箱中烘烤，使光刻胶干燥。
2. 曝光将涂覆好光刻胶的硅片放入光刻机中，通过紫外光照射，使光刻胶发生光化学反应，形成所需的图案。
3. 显影将曝光后的硅片放入显影液中，显影液中的溶剂会溶解未曝光的光刻胶，而曝光区域的光刻胶则保持不变。
通过控制显影时间，可以得到清晰、均匀的图案。
4. 刻蚀将显影后的硅片放入刻蚀机中，刻蚀液会溶解硅片上不需要的材料，从而实现图案的转移。
五、实验结果与分析1. 光刻胶涂覆光刻胶涂覆均匀，无明显气泡和划痕。
2. 曝光曝光后的硅片在紫外光照射下，光刻胶发生光化学反应，形成所需的图案。
3. 显影显影后的硅片图案清晰，无明显缺陷。
4. 刻蚀刻蚀后的硅片图案完整，无明显损伤。
六、实验讨论1. 光刻胶涂覆的质量对实验结果有较大影响，涂覆不均匀或存在气泡、划痕等缺陷会影响图案的质量。
2. 曝光时间和强度对光刻胶的光化学反应有较大影响，需要根据具体的光刻胶和实验条件进行调整。
3. 显影时间对图案的清晰度有较大影响，显影时间过短或过长都会导致图案模糊。
4. 刻蚀液的选择和刻蚀时间对刻蚀效果有较大影响，需要根据具体材料进行调整。
七、实验结论通过本次实验，我们成功掌握了光刻和刻蚀的基本原理和实验步骤，制作出了清晰、均匀的图案。
实验结果表明，光刻和刻蚀技术在半导体制造中具有重要作用，为后续的半导体器件制造奠定了基础。
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让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
TCO、 Si和背电极分别对应1064nm TCO、a-Si和背电极分别对应1064nm 和背电极分别对应 红外激光和532nm绿激光。 532nm绿激光 红外激光和532nm绿激光。1064nm红 红 外激光器最大功率20W 532nm红外激 20W， 外激光器最大功率20W，532 红外激 光器最大功率7W 7W； 光器最大功率7W； 采用四束分光技术，激光间距可调， 每束激光可独立开关
国内主要设备厂家： 国内主要设备厂家： 武汉凌云 武汉华工 武汉帝尔 台湾杰蓁科技 台湾盟立自动化 台湾盟立自动化
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
国外主要设备厂家： 国外主要设备厂家： Jenoptik (德国 德国) 德国 Coherent (美国) 美 UITECH (日本 日本) 日本 LPKF soalrQuipment (德国 德国) 德国
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
激光刻蚀设备简介： 激光刻蚀设备简介：
送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
输出输送线 激光设备 输入输送线
x轴方向
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
PC主控制系统，人机界面友好； 主控制系统，人机界面友好； 主控制系统 配备警示灯、蜂鸣器、急停、 配备警示灯、蜂鸣器、急停、激光 安全锁等安全警示、开关；电源： 安全锁等安全警示、开关；电源： 三相380+/-38VAC，12kW，50/60Hz； 三相 ， ， ； 压缩空气压力5kg/cm2以上 压缩空气压力
Making the IMPOSSIBLE possible
激光产生的基本原理
自发辐射
处于高能级的粒子很不稳定， 处于高能级的粒子很不稳定， 会迅速跃迁到低能级E1 E1上 会迅速跃迁到低能级E1上，同时 发射出一个光子。 发射出一个光子。每一个粒子的 跃迁都是自发地、孤立地， 跃迁都是自发地、孤立地，彼此 毫无联系。 毫无联系。
基片运动直线电机
激光头运动直线电机
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
双CCD(Charge Coupled Device)图像智能定位系统： P1刻蚀时，以玻璃长边之一为定位基准； P2刻蚀时，以P1第一条线为定位基准； P3刻蚀时，以P2第一条线为定位基准； 双CCD定位系统与双气爪微调系统配合， 保证三层膜相邻三条线的平行度
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
激光产生的基本原理
粒子二能级分布图
组成物质的微粒处于不同的 组成物质的微粒处于不同的 微粒 能级之上。 能级之上。绝大多数的粒子都 处于低能级E1 E1， 处于低能级E1，而处于高能级 E2的粒子数非常少 的粒子数非常少。 E2的粒子数非常少。
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
激光加工原理 激光加工原理: 激光加工原理:
具有较高能量密度的激光束照射在被加工材 料表面，材料表面吸收激光能量，温度上升， 料表面，材料表面吸收激光能量，温度上升，产 生熔融、烧蚀、蒸发从而达到去除表层的目的。 生熔融、烧蚀、蒸发从而达到去除表层的目的。
直线电机和直线导轨控制激 光头做 方向运动 基片做 方 方向运动， 光头做X方向运动，基片做Y方 向运动；采用多个PVC滚球式 向运动；采用多个 滚球式 万向顶针支撑基片 采用检测级大理石作为主体 基座， 基座，确保整机刚性和消除工 作台对激光头的震动干涉； 作台对激光头的震动干涉；高 精度滑轨确保激光头运动中直 线度为±10µm/1400mm 线度为
有进片台和出片台组成， 配备一系列带滚轮的旋转轴， 步进电机驱动传送轴，带动旋 转轴和滚轮同步转动，基片在 滚轮上水平传输 若采用膜面向下的刻蚀方 式，则在送料系统设有基片反 转装置
让不可能成为可能
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送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
激 光 产 生
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
激光器的组成
工作物质 激励装置 光学谐振腔
工作物质——被激励后能发生粒子数反转的活性物质 被激励后能发生粒子数反转的活性物质 工作物质 被激励后能发生粒子数反转的活性 固体工作物质： 固体工作物质： 掺钕钇铝石榴石 （Nd：YAG）； ： ）； 红宝石； 红宝石； 钕玻璃； 钕玻璃； 气体工作物质： 气体工作物质： 分子气体； CO2分子气体； He-Ne原子气体； 原子气体； 原子气体 氩离子气体 半导体工作物质： 半导体工作物质： 砷化镓
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二、激光刻蚀设备
让不可能成为可能
Making the IMPOSSIBLE possible
激光刻蚀的目的： 激光刻蚀的目的：
P1（前电极层）: 前电极单元的分割 （前电极层） P2（半导体层）: 电池层的分割，底、背电极的连接 （半导体层） 电池层的分割， P3（背电极层）: 背电极分割，电池单元串联的集成 （背电极层） 背电极分割，
激光光路
加工位置 垂直向上镜头 垂直向上准直光束 垂直向上全反镜 扩束镜 反射率 100% 反射率 50% 反射率 33% 反射率 25% 激光器
让不可能成为可能
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送料系统 加工系统 定位系统 激光系统 除尘系统 控制系统
在刻蚀区一侧采用吹气设备把 刻蚀产生的尘埃吹离刻蚀区域， 刻蚀产生的尘埃吹离刻蚀区域， 在相反的一侧采用吸气设备吸收 气体及尘埃
让不可能成为可能
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激光的产生条件
粒子数反转(内因) 粒子数反转(内因) 外界激励（外因） 外界激励（外因） 激光振荡（放大） 激光振荡（放大）
要实现粒子数反转， 要实现粒子数反转，就需要给粒子体系增加一种外界的作 促使大量低能级上的粒子反转到高能级上， 用，促使大量低能级上的粒子反转到高能级上，这种过程被叫 做激励，或称为泵浦。从能量角度看， 做激励，或称为泵浦。从能量角度看，激励过程就是外界提供 能量给粒子体系的过程。 能量给粒子体系的过程。
受激辐射
处于高能级的粒子在一定频率光 子的激发下，跃迁到低能级E1 E1， 子的激发下，跃迁到低能级E1，同 时放出一个与外来光子完全相同的 光子（受激发前后共有2个光子）。 光子（受激发前后共有2个光子）。
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激光产生的基本原理
1
激光原理、 激光原理、激光刻蚀 设备及激光清边工艺调研
祝童
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一、激光原理
让不可能成为可能
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激光原理 激光产生的基本原理 激光的产生条件及过程 激光器的组成 激光加工原理
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国内外主要硅基薄膜电池激光刻蚀设备厂家： 国内外主要硅基薄膜电池激光刻蚀设备厂家： 国内主要设备厂家： 国内主要设备厂家： 深圳大族 武汉楚天 珠海粤茂 苏州德龙 武汉三工
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激光器的组成
工作物质 激励装置 光学谐振腔
光学谐振腔——能使光子在其中重复振荡并多次被放大的一 能使光子在其中重复振荡并多次被放大的一 光学谐振腔 种由硬质玻璃制成的谐振腔 光学谐振腔的作用： 光学谐振腔的作用： 维持激光振荡； 维持激光振荡； 保证激光的单色性、方向性以及高亮度。 保证激光的单色性、方向性以及高亮度。
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激光的产生条件
粒子数反转（内因） 粒子数反转（内因） 外界激励（外因） 外界激励（外因） 激光振荡（放大） 激光振荡（放大）
一般情况下， 一般情况下，处于低能级的粒子数目远远超过处于高能级 的粒子数目。要想得到受激辐射， 的粒子数目。要想得到受激辐射，就必须先使粒子激发到高 能级去。使高能级上具有较多粒子数分布的状态称为“ 能级去。使高能级上具有较多粒子数分布的状态称为“粒子 数反转” 数反转”。 可以形成粒子数反转的发光物质就称为活性物质， 可以形成粒子数反转的发光物质就称为活性物质，也称为 激光的工作物质。 激光的工作物质。
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激光的产生过程
工作物质
全反射镜 激励能源
部分反射镜
激光的产生过程可归纳为： 激光的产生过程可归纳为： 粒 工 外界激励 子 作 数 物 反 质 转 偶 然 的 自 发 辐 射
其 它 光 粒 子 子 放 光学谐振腔 的 大 受 及 激 振 辐 荡 射