表面浮雕式光纤光栅的新光学特性
光纤光栅的特性分析

一、 实验要求对光纤光栅进行特性分析;分析,光栅长度、分层数、谱宽等参数对反射光谱的影响; 利用MATLAB 进行程序设计,通过软件仿真的形式实现二、 实验原理光纤光栅是利用光纤中的光敏性而制成的。
光敏性是指当外界入射的紫外光照射到纤芯中掺锗的光纤时,光纤的折射率将随光强而发生永久性改变。
人们利用这种效层内折射率看成不变利用00exp()0=0exp()i i LAYER i i jk n d Mjk n d ⎛⎫⎪-⎝⎭。
最后利用矩阵的叠成得到光纤光栅总的传输矩阵应可在几厘米之内写入折射率分布光栅,称为光纤光栅。
光纤光栅最显著的优点是插入损耗低,结构简单,便于与光纤耦合,而且它具有高波长选择性。
光纤光栅有很多种分析法,但目前技术都不太理想。
由于反射率是反映光纤光栅特性的一个重要参数。
这里利用分层的思想将光纤光栅分层处理,每一层看做折射率n 恒定不变,层与层之间折射率不同利用,n n n n i ji j INTERFACE i ji j n n M n n +-⎛⎫=⎪-+⎝⎭11122122M M M M ⎛⎫⎪⎝⎭。
光纤光栅的反射系数()()121111r E z M E z M -+==,反射率R=2r 。
根据不同的入射光波长有不同的反射率,最后绘出反射率与入射光波长的图谱。
以此实现对光纤光栅的特性分析。
三、 实验方案 我们取得是48.645*10^(-4)的光纤长度,15000的分层数,350个点。
1、程序:clear; nn=15000;a=48.636*10^(-4)/nn; di=a; i=1;for z=0:a:48.636*10^(-4)n(i)=1.452+0.75*10^(-3)*((sin(pi*z/(535*10^(-9))))^2); i=i+1; endwl=1.5541*10^(-6); t=1;for k0=1550*10^(-9):0.02*10^(-9):1557*10^(-9) M=[1 0;0 1];for i=1:1:nnM1=[n(i)+n(i+1),n(i)-n(i+1);n(i)-n(i+1),n(i)+n(i+1)]/(2*n(i));M2=[exp(j*((2*pi)/k0*n(i)*di)),0;0,exp(j*(-1)*(2*pi)/k0*n(i)*di)];M=M*M2*M1;endr=M(2,1)/M(1,1);R(t)=(abs(r))^2;t=t+1;endplot(R)2、结果截图:图一、按步进画图的结果图二、按波长画图的结果四、 数据分析通过对参数的修改我们可得到以下结论: 1.反射率与光栅长度的关系反射率是光纤光栅的一个重要参数2.14和2.15直接描述了反射率R 和光栅长度L 的关系。
第7章 光纤光栅

光纤光栅的应用实例:
• 半导体激光器:在输出部分加Bragg单模激光 • 光纤激光器:波长相同的Bragg可以形成腔镜,提供波长 选择反 馈。 • 光纤放大器:反射泵浦,增益平坦,增益锁定等功能 • 光纤滤波器:基本滤波器、干涉带通滤波器、F-P滤波器, 内耦合器Bragg光栅滤波器 • 波分复用/解复用器 • 色散补偿:啁啾光纤光栅色散补偿 • 光学信息补偿:作为相位调节器,光学Fourier变换器和 相位阵列天线 • 光纤传感器:波长编码,绝对测量,可检测应力、应变、 温度、压力、振动、磁场、电流等学院 11
光纤光敏性分析(2)
• 虽然Ge原子与Si原子同为四价元素,可以代替Si原子在石 英玻璃中四面体中的位置,但是Ge的掺入仍将对石英玻璃 的分子结构产生干扰并不可避免地形成缺陷中心 ——色心。
• 包层发生了什么?
合肥工业大学仪器科学与光电工程学院
12
光敏光纤
合肥工业大学仪器科学与光电工程学院 5
光纤光栅在传感领域的应用
光纤光栅用于智能结构(smart structure)和光纤传感器, 主要用于结构内部应变、压力、温度、振动、载荷疲劳、结 构损伤等参数的监测。光纤传感器优点: 1、抗干扰能力强:普通传输光纤不会影响光波的频率特性 (忽略非线性效应);光源强度的起伏、光纤微弯效应引起的
合肥工业大学仪器科学与光电工程学院 20
载氢增敏技术(1)
• 1、载氢增敏技术 1993年 AT &T Bell实验室的P. J. Lemaire发明了掺锗光纤 的载氢增敏技术。 掺锗3%光纤被放入气压为2.0-76MPa,温度为20-75℃ 的氢气中,形成载氢光纤。 载氢光纤在紫外光照射或加热时将引起氢气和掺锗石英光 纤之间产生化学反应,即H2分子在Si-O-Ge区发生变化, 形成与折射率有关的Ge-OH,Si-OH,Ge-H,Si-H等化学键和 缺氧锗缺陷中心,从而产生光致折射率变化,光敏性可提 高1-2个数量级,折射率变化提高两个数量级。还有载氘 光纤。
光学和光子学 微透镜阵列 第3部分:光学特性测试方法-最新国标

光学和光子学微透镜阵列第 3 部分:光学特性测试方法1 范围本文件规定了微透镜的光学特性(波前像差以外的)的测试设备、测试程序、测量结果处理等内容。
本文件适用于在表面浮雕结构微透镜和梯度折射率微透镜。
2 规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。
其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 41869.1 光学和光子学微透镜阵列第1部分:术语GB/T 2831 光学零件的面形偏差3 术语定义GB/T 41869.1 中给出的术语和定义适用于本文件。
4 基板测试基底的光学质量对微透镜定义的焦点位置的质量有贡献,应按照ISO 10110 - 5进行量化。
5 测试方法5.1 测试原理通过光学手段对被测微透镜表面进行定位。
通过测量定位焦点位置所需的轴向位移来确定有效后(前)焦距。
微透镜的测试原理类似于大透镜的测试。
然而,在许多情况下,微小透镜的测量存在实际问题,难以使用标准设备。
一般来说,可以采用两种光学技术。
一种是基于显微术,另一种是基于干涉术。
第一种技术是利用显微镜通过聚焦来定位微透镜的顶点。
有效后(前)焦距是通过测量显微镜在远场源图像上重新聚焦所需的位移来推导的,如图1所示。
显微镜中的聚焦辅助装置,如分视场聚焦光栅,使微透镜的无特征顶点在用反射光观察时更容易定位。
对于焦距测量,远场点光源可以是光纤的发射尖端或照明的测试光栅。
测试可采用白光或单色光照明。
第二种波前测量技术使用波前传感来定位测试表面或曲率中心。
定位测试可借助以下设备之一进行:a)斐索干涉仪b)泰曼-格林干涉仪c)横向剪切干涉仪;d)沙克-哈特曼设备。
GB/T 41869.2-2022和 ISO/TR 14999-1 中对此作了更全面的描述。
干涉法的一个优点是对于强像差透镜,通过干涉图可以很容易地推断出焦距随孔径半径的变化。
光纤光栅

可应用在WDM的各个环节
发射机 复用 色散斜率补偿器 光纤激光器 波长复用
光放 光信号监控 有源泵浦控制 泵浦反射器 增益平坦滤波器 动态增益均衡器 动态增益控制 分布式拉曼泵浦
……
光放 动态色散补偿 PMD监控及补偿 解复用 固定分插 可调分插 接收机
色散补偿中的应用
波长色散的起因有两个:
FBG光纤光栅的应用
输入谱 I I
传输谱
反射谱 I
应变引起 波长移动
典型应用就是滤波,还可利用应变实现可调谐滤波; 还可以利用其敏感度制备光纤传感器;
FBG光纤光栅传感器
光纤光栅是将通信用的光 纤的一部分利用掺锗光纤非 线性吸收效应的紫外全息曝 光法而制成的一种称为Bragg
Grating的纤芯折射率周期性
光纤光栅在光纤传感中的应用
反射波长和应变、温度、压力物理量成线性关系: 土木工程:如桥梁、大坝、岸堤、大型钢结构等的健康安全 监控; 航天工业:如飞机上压力、温度、振动、燃料液位等指标的 监测; 船舶航运业:如船舶的损伤评估及早期报警; 电力工业:由于光纤光栅传感器根本不受电磁场的影响,所 以特别适合于电力系统中的温度监控; 石油化学工业:光纤光栅本质安全,特别适合于石化厂、油 田中的温度、液位等的监控; 遥测核磁共振机中实地温度,可进行心脏有效率的测量等; 核工业:监视废料站的情况,监测反应堆建筑的情况等;
相位掩模法
光栅周期与相位掩模板 周期有如下关系:
p d
2 g pm
h
s
2(n pm 1)
h
-1 相位掩模写入光纤光栅
n pm
+1
啁啾光纤光栅写入方法
啁啾光纤光栅的写入,可以采用啁啾相 位掩模板,中心波长和啁啾量任意设计, 但制作困难,价格昂贵;
光纤光学8-光纤光栅

Ⅱ类光栅:温度稳定性好(800℃)、脉冲激光
极高UV曝光量,瞬间局部温度达上千度、物理破坏引 起折射率变化(融化石英基质,物理性损伤)、折射 率变化⊿n可达10-2
三、光纤光栅的制作技术
内部写入法
干涉写入法
逐点写入法
1、内部写入法
光纤中沿相反方向传播的两列相干光波可表示为
E f A sin(kz wt ) Eb A sin(kz wt )
B 布拉格波数; B 2 B B 布拉格波长;
与布拉格光栅周期关系 B 2n0
n
NL
小,我们暂不考虑。
1 n2 E 2
2
表征非线性折射率变化,由于其值很
根据耦合模理论,应包括向前和向后传播的光, 因而光纤中的光场是正向传播的模式和反向传播的模 式的线性叠加,各个模式的系数是随着传输距离的变 换发生变化的。
4、 相位掩膜技术
相位掩模是采用电子束平板印刷术或全息曝光 蚀刻于硅基片表面的一维周期性透射相位光栅,其 实质是一种特殊设计的光学衍射元件。
相位掩模的高级衍射波强度较弱,通常只考虑0 级和±1级衍射波,在正入射情况下±1衍射波的强度 相等。衍射角满足光栅 sin m sin i m (n )
光纤光栅的分类:I型、IIA型和II型
Ⅰ类光栅:温度稳定性较差(300℃)、脉冲或连续 较低掺杂浓度、较低UV曝光量、局部缺陷引起折射 率变化、折射率变化⊿n~ 10-5—10-3 ⅡA类光栅:温度稳定性较好(500℃)、脉冲或连续 掺杂浓度较高(eg >25mol% GeO2)、 较高UV曝光 量( > 500J/cm2),、结构重构引起折射率变化、 折射率变化⊿n<0
提出了多种模型,没有一种可以解释所 有的实验结果。
塑料表面浮雕光栅的复制及其光学特性

’
’i
i
霭
≥
灞
姒似螂蠹毒瓢麟嬲螂麟噱 琵篷鑫㈣^m∞蕊舭融§找k赢溅幺龇&持盎鑫‰鼢∞也k§黝‰勰%☆溢§瓣渤6汹
138 140 142 144 146 148 l即154 156 158 1印
温度/℃
图4 温度和衍射效率的关系
Fig.4
The relationship between diffraction efficiency and temperature
O 引言 浮雕光栅是一种重要的透射式衍射光栅,在
各种光谱仪器、光波导耦合器、波长多路调节器和 解调器件中具有广泛应用。目前衍射光栅的制造 技术大致可以分为刻划光栅和全息光栅两大类, 对于浮雕光栅一般采用刻划方法来制作。在光栅 的刻划中,关键的刻蚀技术包括干法刻蚀和湿法 刻蚀两种。其中,干法刻蚀是利用刻蚀气体辉光 放电形成的等离子气体进行刻蚀,它主要包括了 反应离子刻蚀法[1-43(RIE)、离子束铣削¨1(Ion
实验测得在模压温度为142~150℃下复制的 塑料表面浮雕光栅各个级次的衍射效率见图6,与 模板光栅各个级次的衍射效率相比基本一致,0级 和±l级总衍射效率在85.51%~89.14%之间,总 衍射效率偏差小于5%。此外还可以看到,聚碳酸 酯塑料表面浮雕光栅的±1级衍射效率明显比模板 熔融石英光栅的±1级衍射效率高,即衍射光的能 量更多地集中在土1级上,这对于塑料光栅作为波 分复用器的分光器件更为有利。
近红外光谱区内具有很高的透光性,透明度可达到
90%以上,是理想的光学材料。在常温下,聚碳酸酯
具有质轻、机械性能高、冲击韧性强、耐温差性好、能
适应从严寒到高温的各种恶劣天气变化等特点。在
加热情况下,聚碳酸酯的高温软化温度为146℃左
光纤光栅的特性

光纤光栅的特性光纤光栅的特性1.光纤布喇格光栅的理论模型:假设光纤为理想的纤芯掺锗阶跃型光纤,并且折射率沿轴向均匀分布,包层为纯石英,此种光纤在紫外光的照射下,纤芯的折射率会发生永久性变化,对包层的折射率没有影响。
利用目前的光纤光栅制作技术:如全息相干法,分波面相干法及相位模板复制法等。
生产的光纤光栅大多数为均匀周期正弦型光栅。
纤芯中的折射率分布(如图1)所示。
)(1Z n 为纤芯的折射率,m axn∆为光致折射率微扰的最大值,)0(1n 为纤芯原折射率,Λ为折射率变化的周期(即栅距), L 为光栅的区长度。
若忽略光栅横截面上折射率分布的不均匀性,光栅区的折射率分布可表示为:)2cos()0()(max 11Z n n z n Λ∆+=π…………………………………………………(1.1)显而易见,其折射率沿纵向分布,属于非正规光波导中的迅变光波导,在考虑模式耦合的时候,只能使用矢量模耦合方程,其耦合主要发生在基模的正向传输导模与反向传输导模之间。
2.单模光纤的耦合方程由于纤芯折射率非均匀分布,引起了纤芯中传输的本征模式间发生耦合。
在弱导时, 忽 略偏振效应,吸收损耗和折射率非均匀分布引起了模式泄漏,则非均匀波导中的场Φ( x , y , z ) 满足标量波动方程:),,(}),,({222202=Φ∂∂++∇z y x zz y x n sk t…………………(2.1)其中:λπ/20=k ,λ是自由空间的光波长。
22221}{1ϕ∂∂+∂Φ∂∂∂=Φ∇Φr r r r r t…………………………………………………(2.2)由于折射率非均匀分布引起波导中模式耦合只发生在纤芯中,因此非均匀波导中的场可以表示为均匀波导束缚模式),(y x φ之和:),()}exp()exp()({),()(),,(y x z i a z i z a y x z A z y x l l l l l ll l lφββφ-+-∑=∑=Φ………(2.3))(1z A 则表示与),(1y x φ相联系的全部随z 变化的关系。
光纤光栅 光格科技-概述说明以及解释

光纤光栅光格科技-概述说明以及解释1.引言1.1 概述光纤光栅是一种利用光栅原理制造出来的光学器件,其具有很高的光学性能和稳定性,被广泛应用于光通信、激光技术、光谱分析等领域。
光格科技作为光纤光栅的领军企业之一,致力于研究和开发先进的光纤光栅技术,不断推动该领域的发展与应用。
本文将介绍光纤光栅的原理与特点,探讨其在各个应用领域的重要性,以及光格科技在该领域的研究与发展成果。
通过对这些内容的了解,可以更好地认识光纤光栅技术的重要性和前景,促进光学领域的发展与进步。
1.2文章结构文章结构部分文章的整体结构包括引言、正文和结论三个部分。
引言部分将介绍光纤光栅和光格科技的背景和意义,正文部分将详细介绍光纤光栅的原理与特点以及在各个领域的应用情况,最后结合光格科技在光纤光栅领域的研究和发展进行介绍。
结论部分将对文章的内容进行总结,展望未来光纤光栅技术的发展前景,并留下一些结束语。
整体结构清晰明了,每个部分都将围绕光纤光栅和光格科技展开讨论,使读者能够全面了解这一领域的最新研究和发展。
1.3 目的:本文旨在介绍光纤光栅这一重要的光学器件,探讨其原理与特点,深入探讨其在各个领域的应用,以及光格科技在该领域的研究和发展情况。
通过对光纤光栅和光格科技的综合介绍,读者将能够更全面地了解光学器件的重要性和应用前景,同时也能够对光格科技在该领域的成就有一个更清晰的认识。
希望本文能够给读者带来启发和启示,促进光纤光栅领域的研究与发展。
2.正文2.1 光纤光栅的原理与特点光纤光栅是一种利用光纤的周期性结构来实现光信号的衍射和反射的光学器件。
其原理是利用光纤中的折射率周期性变化来实现入射光波的衍射效应,从而实现信号的频谱分析和光谱调制。
光纤光栅具有以下几个特点:1.高效:光纤光栅能够实现高效的光信号衍射和反射,从而实现信号的频谱分析和光谱调制,提高了光信号处理的效率。
2.精确:光纤光栅的周期性结构可以精确地控制光波的传播和衍射,使其在特定波段内表现出良好的光学性能。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
图 3 表 面浮雕 式微 纳光 纤布拉 格 光栅反 射谱 变化 图
图 3(a)显示 了随着光 纤 直径 的改 变 ,表 面浮 雕 式 微 纳光 纤 布 拉格 光 栅 的反射 谱 也 随之 改 变 .图 中表 面 浮雕 式微 纳光 纤光栅 的深度 h都 是 200 nm,它们 的长度 也都 为 2 mm.从 图 3(a)中可 看 出 ,随着 光 纤直 径从 12/zm 增 加到 15 m ,表 面浮 雕式 微纳 光纤 布拉 格光 栅 的 反射 谱 变窄 ;直 径 15 m 的 表 面浮雕 式微 纳 光纤 布拉格 光栅 的带宽小 于 1 am,而 直径 12 Fm 的 表 面浮 雕 式 微 纳 光纤 布拉 格 光 栅 的 带 宽 约为 1.5 nm.从 式 (1)可 知 ,随着 光纤 直径 的增加 ,有 效折 射率 也就 增加 ,从 而导 致 反 射谱 的带 宽变 窄.表 面浮 雕 式微 纳 光 纤 布 拉格 光栅 的反 射谱 的谱 宽可 以随 着光纤 直 径 的变化 增大 或者 减小 ,而这 与上 面 的结果 相类 似 ,由此可 以判 断 光纤 纵 向外 力 改变 时光 纤直径 也 会改 变 ,那 么放 射谱 也 随之 改 变.将 这 个 结果 应 用 到传 感 器 中 ,利用 测 量 表 面浮 雕式微 纳 光纤 布拉 格光栅 的反射谱 ,可 以探 测到 外部 对光 纤 的纵 向拉力 的相 关数 据.
在 图 2的 3幅 图 中 ,2种 塑造 方法 所制 成 的光纤 光栅 的反射 率 均 为 100 .表 面浮 雕 式微 纳 光 纤光 栅 的 刻蚀 深度 分别 为 200,100,50 nlT1.表面 刻蚀 的越 深 ,反 射谱 的带 宽就 越宽 ,对此 的解 释 ¨ 是
一 √ l “J +。[ 【 fL ]J 。, ’
l二 p ha。 a I
:
‘
~
waw icngt, h/ ̄m
(a)200nm
.
,-\ ●
wavel ̄ngth// ̄m
fb)lO0m
I二 pha。 s帅 em a悯 sk f
。
L ~…·
—
wavelength// ̄m
(c)sonm
图 2 不 同刻 蚀 深 度 的光 纤 布 拉 格 光 栅 对 比 图
式 中 : 是 入射 光 波 波 长 ;L 是光 栅 长 度 ; “是 有效 折 射 率 ;An是 折 射 率 调制 指 数 ,正 相 关 于 刻蚀 深 度 ; 。 是 光纤 布拉 格光 栅 的反射谱 的 带宽 .通过 图 2和式 (1),可 以看 出光纤 布 拉格 光 栅 的反 射谱 的带 宽 正相 关 于 折 射率 调制 指数 ,即折射率 调制 指数 越 大 ,光纤 布拉 格光 栅 的发射 谱 的带宽 越宽 .所 以 ,可 以通 过相 应压 印技 术 实现 表 面浮雕 式光 纤光栅 的 反射谱 带 宽 的增 大或 者减 小.首先 ,由于表 面浮雕 式微 纳光纤 布 拉格光 栅 反射 谱 带宽 增大 ,反射 谱 的带宽 间 隔变大 ,反射 信号 也 能容纳 很 多 ,这样 光栅 可用 于激 光泵 浦光 反射 ,从 而改 善 以 及 提 高泵浦 效率 ,此 外还可 以减 少在 输 出光 中泵浦 光对 信 号光 源 的干 扰 .其 次 ,利用 表 面 浮雕 式 微 纳光 纤 布 拉 格光 栅 的反射 谱带 宽 的减 少 ,可 以制成 优 良的波 长选择 器 .这样 ,它 可 以用 在密 集波 分复 用 中 ,用来 反射 以 及 分离 不 同的波 长 ,在 这方 面 明显优 于传 统光纤 光栅 ,同样 也 可 以应 用在 传感 器 中作 为传 感 器 的光 纤 光 栅 , 其 反射谱 的峰越 窄 ,传 感器 就越 敏锐 ,测量 结果 就越 精确 .
姚 雷 :表 面 浮雕 式 光 纤 光 栅 的 新 光 学 特 性
2 两种 光 栅 的反 射 谱 的对 比及 刻 蚀 深 度 对 反 射 谱 的 影 响
用掩 模 法制作 的光纤 布拉格 光栅 和表 面浮雕 式 微纳 光纤 布拉格 光栅 的反 射谱 的对 比以及刻 蚀深 度对 反 射 谱 的影响 如 图 2所示 .
在 图 3(b)中 ,随着 外部折 射 率从 1改 变到 1.03,表面 浮雕 式 微 纳光 纤 布拉 格光 栅 的反射 谱 逐 渐 向短 波 方 向移动 ,反射 谱 的峰值 也越 来越 小 .这一 新性 质可 以用 于 传感 器 中.通过 表 面 浮雕 式 微 纳光 纤 布 拉格 光 栅 的反 射谱 的改 变 ,可 以测 量外 部材 料 的改变 以及 外部 物 质量 的改 变.例 如 ,可 以利 用 这 一 点来 测 量 和控 制 石 油在 罐 中的液 体高 度 ,即 当石 油 的容量 低 于某个 限定 值 时 ,则就 会 及 时反 映 在反 射谱 上 ,然后 就 可 以采 取 相 应 的措施 ,使 它返 回限定值 以上 . 4 结 语
对 纳米压 印制 成 的表 面浮雕 式光 纤布 拉格 光栅 进行 计算 机模 拟 ,并 通 过对 比 ,得 出这 种光纤 光 栅反射 谱 和光 纤 光栅刻 蚀深 度 、光纤 直径 以及 外部折 射 率之 间存 在 的相关 关 系.这种 新型 光纤 光栅 的新性 质使 得该 光 栅在 传感 器 和光 通信 以及 激光泵 浦 方面具 有潜 在应 用 价值 .以上 研究 表 明 表面 浮雕 式 光 纤 布拉 格 光 栅是 一 种新 型 的光纤 光栅 ,具 有一 定 的发展 前景 .
3 表 面浮 雕 式微 纳光 纤 布 拉 格 光栅 反 射 谱 的 变 化 及 应 用
随着外 部折 射率 以及光 纤 直径变 化 ,表面 浮雕式 微纳 光纤 布拉 格光 栅反 射谱 的变 化如 图 3所 示.
· 47 ·
徐 州 工 程学 院 学 报 (自然 科 学 版 ) l ●
_
I— — 15 m
I— — 14 m
I… ~ 13pm
I— — 12m
2016年第 2期
n:L=8.core=O 5,cladin ̄F=lO ncc- =l 4457.nclad=l 4378
’I
I
● -
wavelength/pm
(a)直 径 12-15 m的反射谱 图
wavelength/pm