电容屏ITO黄光制程工艺

电容屏ITO黄光制程工艺

流程

第一步：ITO GLASS

参数规格：

长宽：14*16 厚度：0.55，0.7，1.1

规格：普通，钢化等，

特性：AR(抗反射)，AG（防眩光），AS（防水防污），AF（防指纹）等

电容玻璃：安可，冠华，正达，正太等。

第二步：素玻璃

参数规格：

素玻璃：康宁，旭硝子等。500*500规格

第三步：清洗

参数规格：

1.将GLASS 表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥。

2.将素玻璃表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥，然后过镀膜线镀ITO 层形成GLASS。第四步：背保丝印

参数规格：

膜厚：10-20μM，250-420 目聚酯网，此背保要求高，不能有一点脏污，

油污，杂质等，要不回影响到在这面处理ITO 图案和银浆走线的附着

力等。日本朝日，丰阳等，热固型。

第五步：光刻胶整版丝印

参数规格：

膜厚：5-10μM，300-420 目聚酯网.需在温度20 度-25 度的范围和黄灯

的环境下进行。

光刻胶：田菱THC-29（耐酸曝光显影型光刻胶）等。

第六步：前烘

参数规格：

让印有光刻胶的材料在一定的温度，时间下固化。温度：80-90 度。时

间15-20 分钟。

第七步：曝光

参数规格：

通过紫外线和菲林的垂直照射，让光刻胶形成反应。光能量：

60-120MJ/C ㎡，时间：6-9s

第八步：显影

参数规格：

用弱KOH 溶解液去除材料上被曝光过的光刻胶，留下没有曝光的光刻胶。

弱碱：0.05-0.2 MOL.

温度：20±3 度，压力：0.02-0.05KG，速度：5.5±2.5M/MIN。

第九步：坚膜

参数规格：

让显影留下的光刻胶经高温处理，让光刻胶完全固化。

温度：120-150度，时间：20-30.

第十步：蚀刻

参数规格：

酸度：3.5-6.5MOL，温度：45±5 度，压力：1-2KG，速度：0.8-1.5M/MIN。碱度：0.5-0.8MOL，温度：35±5 度，压力：1-2KG，速度：1.5-3.5M/MIN。经纯水清洗，干燥。

第十一步：银浆线丝印

参数规格：

膜厚：5-15μM，400-500 目钢丝网，18-16 线径，乳剂膜厚：6-12μM，

银浆：日本朝日，丰阳等，热固型。

感光胶：田菱H-815，（具有高解像性，高精密等特性。）

第十二步：镀钼铝钼银浆线

参数规格：

需有镀膜线厂家才可以完成，如：南玻，新济达等用工艺。

先镀一层钼，（起保护，绝缘作用。）

再度一层铝，（起导电作用。）

最后再镀一层钼，（两层钼作用一样。）

第十三步：反面处理

参数规格：

因考虑到ITO GLASS 厚度等问题等，需在反面在同上处理一次或

以其他方式处理。

第十四步：组合

参数规格：

上下线组合胶：口字胶：透光率底。

OCA 光学胶：汽包多，但透光率高。

液态光学胶：技术要求高。

第十四步：切割

参数规格

大片半成品切割处理成小片半成品。

第十五步：压合

参数规格：

小片半成品与FPC 及IC 绑定形成功能片

第十六步：测试

参数规格：

功能片的功能测试。如：线性测试，寿命测试，精度测试等。

第十七步：终检

参数规格：

最终的一个外观检查。

第十八步：包装

参数规格：

包装处理出货。