镀铝镜子原片的真空蒸镀工艺参数分析
铝蒸镀参数
铝蒸镀参数1. 引言铝蒸镀是一种常用的表面处理技术，通过在物体表面镀上一层铝薄膜，可以改善其外观、耐腐蚀性和导电性能。
本文将探讨铝蒸镀的参数设置，包括材料选择、厚度控制、温度和真空度等因素。
2. 材料选择2.1 基材常见的基材有金属、塑料和玻璃等。
金属基材具有良好的导热性和导电性，适合于铝蒸镀。
塑料基材通常需要先进行表面处理，如喷涂金属底漆或使用特殊的附着剂。
玻璃基材则需要考虑其耐热性。
2.2 铝靶材铝靶材是铝蒸镀过程中的主要原料。
一般采用纯度较高的铝靶材，以保证薄膜质量。
同时还需考虑靶材形状和尺寸对于镀层均匀性的影响。
3. 厚度控制3.1 目标厚度铝蒸镀的目标厚度根据不同应用需求而定。
例如，对于装饰性镀膜，一般要求较薄的镀层，而对于防护性镀膜，则需要较厚的镀层。
3.2 厚度测量常用的测量方法包括剥离法、电子束厚度计和X射线衍射仪等。
剥离法适用于非破坏性测量，可以通过化学方法将铝膜与基材分离，并进行后续分析。
电子束厚度计和X射线衍射仪则可以直接测量铝膜的厚度。
3.3 厚度控制技术常见的厚度控制技术包括时间控制、靶材旋转和控制靶材到基材的距离等。
时间控制方法简单易行，但对于大面积均匀性要求较高的产品可能不够精确。
靶材旋转可以提高镀层均匀性，通过使靶材表面磨损更加均匀来实现。
控制靶材到基材的距离可以通过调整源到靶材的距离和靶材到基材的距离来实现厚度控制。
4. 温度控制4.1 温度影响温度对铝蒸镀过程中的铝膜形貌和性能有着重要影响。
较高的温度可以促进铝蒸镀过程中的表面扩散，使得薄膜更加致密和均匀。
同时，温度还会影响镀层的结晶性和机械性能。
4.2 温度控制方法常见的温度控制方法包括加热源选择、加热功率调节和温度传感器等。
加热源可以选择电阻丝、电磁感应加热或电子束加热等方式。
加热功率的调节可以通过改变电流或电压来实现。
温度传感器用于监测镀层表面或基材表面的温度，以实时调整加热功率。
5. 真空度控制5.1 真空设备选择常见的真空设备有机械泵、分子泵和扩散泵等。
真空镀铝基础知识介绍
4． 激光加熱方式及蒸發源
它是用激光照射在膜料表面﹐使其加熱蒸發。由于 不同材料吸收激光的波段范圍不同﹐因而需要選用相應 的激光器。例如﹕SiO, ZnS, MgF2, TiO2, Al2O3, Si3N4 等膜 料﹐ 宜采用二 氧化碳連 續激光 (波 長 ﹕10 . 6 μm, 9.6μm); Cr, W, Ti, Sb2S3 等膜料選用玻璃脈沖激光( 波長﹕1.06μm)﹔Ge, GaAs等膜料宜采用紅寶石脈沖激 光(波長﹕0.694μm﹐ 0.692μm) 。這種方式經聚焦后 功率密度可達106W/cm2 ,可蒸發任何能吸收激光光能的高 熔點材料﹐蒸發速率極高﹐制得的膜成分几乎與料成分 一樣。
真空蒸镀基础知识介绍
目录
一.真空蒸镀原理 二.真空蒸镀方式 三.真空蒸镀设备 四.真空蒸镀工艺
一﹑真空蒸镀原理
1．料在真空状态下的蒸发特性 2．蒸气粒子的空间分布 3．凝结﹐生长过程
1． 料在真空狀態下的蒸發特性
真空蒸镀是将工件放入真空室﹐并用 一定的方法加热﹐使镀膜材料(简称膜 料)蒸发或升华﹐飞至工件表面凝聚成 膜。 膜料的蒸发温度最终要根据膜料的熔 点和饱和蒸气压等参数定。表1-1和表 1-2分别列出了部分元素和化合物的熔 点以及饱和蒸气压为1.33Pa 时相应的 蒸发温度。 更多文章591cto
電阻加熱蒸發方式之優缺點：
優點： 1.製程簡單。 2.電源設備價格便宜。 3.蒸發源形狀容易配合需要做成各種形式。 缺點： 1.由於需先加熱電阻片再傳熱給薄膜材料，因此電阻片多少會
與材料起作用，或引生雜質。此點雖可加隔化學性質穩定之陶 瓷層，惟耗電量增加。 2.電片能加熱之溫度有限，對於高熔點之氧化物則大部分無法 熔融蒸鍍。 3.蒸鍍速率有限。 4.材料若為化合物，則有被熱分解之可能。閃燃法可蒸鍍部分 此類材料之薄膜。 5.膜質不硬，密度不高。
金属化铝膜蒸镀原理及特性工艺技术
金属化概论
金属化概论
• 互连线 • 金属和硅的接触
欧姆接触 Schottky 二极管 • IC对金属化的要求
互连线
• 时间常数RC延时
Poly L=1mm d=1um =1000cm
RC=Rs(L/w)(Lwo/do) =Rs L2 o/do = (/d) (L2 o/do)
W L
d do
互连线
• 一是衬底温度高，常常会形成大的晶粒， 导致薄膜的形貌较差；
• 二是到达圆片的原子在它们化学成键成为 薄膜的一部分之前，能沿表面扩散，加热 圆片的温度会极大的增加表面扩散长度；
• 腔室内残余气体尤其是N2会严重恶化反射 率；
• 另外真空腔室中大的颗粒也将影响反射率；
• 此问题可通过提高泵体能力，即提高真空 度及保持腔室内洁净度很好的解决；
旋转行星盘：
台阶覆盖：
二、铝层反射率
• 对半导体器件制造很重要的变量是淀积膜 的反射率，反射率低的膜常常呈现雾状或 乳白色，这些膜的大晶粒会造成光刻困难， 或看不到前一层的对准记号，或由于铝晶 粒散射出杂散光。
• 已经发现反射率服从下列关系：
• R∝e-[4πσ/λ]2
• 其中σ是均方根表面粗糙度，λ是入射波 长，通常λ》 σ。
• ＝KT/P2√2
分子直径, P 压强
• 室温 分子直径3A
• ＝1.455/ P(Pa)
• 蒸发 P＝10-4
•
散射几率和台阶覆盖
• 散射几率 n/no=1- exp(-d/) no－总分子数 n－遭碰撞分子数
• 蒸发 n/no=0.3% 非随机性，直线渡越， 台阶覆盖差
• 溅射 n/no=100% 渡越方向随机性 台阶覆盖好
c60蒸镀参数
c60蒸镀参数
C60蒸镀参数通常包括以下几个方面：
1. 温度：通常在300-600摄氏度之间，具体温度可以根据需要
进行调整。
2. 压力：常用的真空度通常为10-4至10-6帕之间。
3. 速度：通常在0.1-10 angstroms/秒之间，速度也可以根据需
要进行调整。
4. 源材料：C60 (富勒烯)。
5. 基底材料：根据具体应用和需求不同可选用不同材料，如玻璃、金属或半导体等。
6. 基底表面处理：通常需要进行表面处理，例如清洗、去除氧化物等，以确保蒸镀的质量和附着力。
这些参数可以根据具体的蒸镀设备和目标应用进行调整和优化。
真空镀铝过程控制要点
真空镀铝过程控制要点
真空镀铝是一种常用的表面处理工艺，主要是将铝金属在真空环境下蒸发，使其冲击在待处理物体表面，从而形成一层薄膜。
以下是真空镀铝过程控制的关键要点：
1. 真空度控制：在镀铝前，需要将空气抽出真空室，保证真空度达到要求，通常为10^-3~10^-4Pa。
控制真空度的因素包括真空泵的功率、捕集器和密封侧漏等。
2. 清洗与除尘：待处理物体表面需要保证干净，无油污和灰尘等杂质。
可通过喷淋清洗或在真空环境下加热除尘等方法完成。
3. 铝材料控制：选择高纯度、均匀的铝材料，避免杂质和不均匀等问题。
铝材需要加热到蒸发温度，一般在1200℃左右。
4. 晶格结构控制：铝金属在蒸发过程中形成的晶粒大小和晶格结构对薄膜性能有影响。
可通过加热时间和蒸发速率等控制方式进行调整。
5. 沉积速率控制：控制沉积速率可以影响薄膜的厚度和均匀性。
可以通过调整铝材料的蒸发速度和待处理物体的旋转速度等控制方式进行调整。
6. 薄膜质量检测：镀铝后需要对薄膜进行检测，包括厚度、均匀性、附着力、气密性等参数的测试，以保证薄膜质量符合要求。
以上是真空镀铝过程控制的主要要点，具体控制方法需要根据实际情况进行调整和优化。
真空蒸镀铝及保护膜的表面形貌和光学性能研究_令晓明 (1)
收稿日期:2011-04-13.基金项目:国家高新技术研究发展计划(2006A A 050203)资助;常州市创新基金(C N 20090025)资助。
作者简介:令晓明(1975-),男,甘肃省武山县人,博士研究生,从事真空薄膜技术与计算机控制研究。
真空蒸镀铝及保护膜的表面形貌和光学性能研究令晓明1,杨 帆2,成佰新2,范多旺1(1.兰州交通大学,国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心,甘肃兰州730000;2.东南大学能源与环境学院,太阳能技术研究中心,江苏南京210096)摘 要:采用工业化生产流水线的真空蒸发镀膜工艺制备一系列太阳能利用铝反射镜,研究了基底材料对铝反射镜反射率的影响,利用理论分析结合试验,探讨了基底材料表面面型及微观粗糙度对真空蒸镀铝膜反射的影响。
光学反射率测量显示不同基底材料的平面铝反射镜的反射率存在较大的差异,其中在A B S 工程塑料上制备的铝反射膜的光学均匀性较理想,研究成果为实现低成本轻型铝太阳能反射镜的大规模生产提供了借鉴。
关键词:太阳能;铝反射镜;真空蒸镀;微观粗糙度中图分类号:O 484 文献标识码:A 文章编号:1006-7086(2011)02-0091-05D O I :10.3969/j .i s s n .1006-7086.2011.02.006T H ES T R U C T U R EA N DO P T I C A LP R O P E R T I E S O FA l A N DP R O T E C T I O NF I L MSB Y V A C U U M E V A P O R A T I O NL I N G X i a o -m i n g 1,Y A N G F a n 2,C H E N G B a i -x i n 2,F A N D u o -w a n g1(1.N a t i o n a l E n g i n e e r i n g R e s e a r c hC e n t e r f o r T e c h n o l o g ya n dE q u i p m e n t o f G r e e nC o a t i n g ,L a n z h o uJ i a o t o n g U n i v e r s i t y ,L a n z h o u 730070,C h i n a ;2.S o l a r E n e r g yR e s e a r c hC e n t e r ,S o u t h e a s t U n i v e r s i t y ,N a n j i n g 210096,C h i n a )A b s t r a c t :A l a n dt h ep r o t e c t i o nf i l m o nd i f f e r e n t s u b s t r a t em a t e r i a l sw e r ep r e p a r e db yi n d u s t r i a l v a c u u m e v a p o r a t i o nm a -c h i n e .T h e e f f e c t o f s u b s t r a t e m a t e r i a l s s u r f a c e r o u g h n e s s o n t h e o p t i c a l p r o p e r t i e s o f t h e A l f i l m s w e r e d e t a i l s t u d i e d .T h e r e -s u l t s s h o w n t h a t t h e r e f l e c t i v i t y o f A l f i l m s w e r e m u c h d i f f e r e n t o nd i f f e r e n t s u b s t r a t e m a t e r i a l s ,t h e r e f l e c t i v i t y a n d o p t i c a l u -n i f o r m o f A l f i l m s o n AB S e n g i n e e r i n g p l a s t i c i s p e r f e c t .T h e r e s e a r c hr e s u l t s w i l l h e l p t o f a b r i c a t e l o wc o s t a n d l a r g e s c a l e A l r e f l e c t o r .K e yw o r d s :s o l a r e n e r g y ;A l r e f l e c t o r ;v a c u u m e v a p o r a t i o n ;r o u g h n e s s1 引 言进入21世纪以来,在有限资源和环保要求的双重制约下发展经济已成为全球的热点问题。
镀铝镜子原片的反射率与透过率测试方法与分析
镀铝镜子原片的反射率与透过率测试方法与分析镀铝镜子原片是一种常用的光学材料，广泛应用于科研、工业生产以及日常生活中。
在实际应用中，我们通常需要了解镀铝镜子原片的反射率和透过率等光学特性，以评估其使用性能和质量。
本文将介绍关于镀铝镜子原片反射率和透过率测试方法与分析的相关内容。
反射率是指材料表面反射光线的能力，常用百分比表示。
在测试镀铝镜子原片的反射率时，我们可以采用光谱反射法。
具体步骤如下：1. 准备测试设备：光谱反射仪、样品支架等。
2. 样品制备：将待测试的镀铝镜子原片切割为适当大小，并清洁干净，确保表面无灰尘或污渍。
3. 确定测试波长范围：根据实际需求和设备条件，选择适宜的测试波长范围。
常见的选择包括可见光波长范围（400-700纳米）或紫外-可见光波长范围（200-800纳米）等。
4. 设置光谱反射仪：根据测试波长范围，设定光源和检测器。
5. 放置样品：将待测试的镀铝镜子原片放置在样品支架上，并确保其与测试设备的接触良好。
6. 测试：开始进行测试，光谱反射仪会发送一束光线照射到样品表面，并测量反射的光线强度。
通过计算，可以得到样品在不同波长下的反射率数据。
7. 分析：根据测试结果，可以绘制出镀铝镜子原片在不同波长下的反射率曲线。
同时，还可以计算平均反射率等参数，以评估样品的光学性能。
透过率是指材料对光线透过的能力，也常用百分比表示。
在测试镀铝镜子原片的透过率时，我们可以采用相似的光谱透过法。
具体步骤如下：1. 准备测试设备：光谱透过仪、样品支架等。
2. 样品制备：将待测试的镀铝镜子原片切割为适当大小，并清洁干净，确保表面无灰尘或污渍。
3. 确定测试波长范围：根据实际需求和设备条件，选择适宜的测试波长范围。
4. 设置光谱透过仪：根据测试波长范围，设定光源和检测器。
5. 放置样品：将待测试的镀铝镜子原片放置在样品支架上，并确保其与测试设备的接触良好。
6. 测试：开始进行测试，光谱透过仪会发送一束光线照射到样品表面，并测量透过的光线强度。
镀铝膜常见问题及分析
镀铝膜常见问题及分析真空镀铝是生产转移纸张中一道颇为重要的工序，也属于真空蒸镀的一种。
我们今天在这里讨论一下它的原理以及生产过程中常见问题。
一、真空蒸镀的原理真空蒸发镀膜（简称真空蒸镀）是在真空条件下，加热蒸发物质使之汽化，并沉积在制品表面形成固态薄膜。
真空蒸镀是采用各种形式的热能转换方式，使镀膜材料蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子，气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基体，粒子沉积在基体表面上并凝聚成薄膜，组成薄膜的原子重新排列或化学键组合发生变化。
二、真空镀铝机的主要构成真空镀铝工艺是在10-2-10-3Pa的真空条件下，使铝丝加热到1400摄氏度左右气化后附着在各种基膜上，形成真空镀铝薄膜，铝层厚度一般在35-55纳米。
真空镀铝机由真空抽气系统，蒸发系统，卷绕系统组成。
真空抽气系统由高真空泵，低真空泵，排气管道和阀门组成，此外还附有冷阱（用以防止油蒸汽的返流）和真空测量计等。
蒸发系统安装在蒸发腔内，内有蒸发源。
此外还有测量蒸发室的真空变化和蒸发时剩余气体压强的高真空计。
蒸发源是用来加热蒸发材料（铝）使之气化蒸发的部件。
目前真空蒸发的蒸发源主要有电阻加热，电子束加热，高频感应加热，电弧加热和激光加热等五大类。
三、镀铝膜常见问题及分析（一）擦伤1.涂布层擦伤：在镀铝后表现为表面不平整，有明显或有明显的划痕，用透明胶带或黄胶带拉后，在基膜上消失。
2.镀铝面擦伤：表现为明显划痕，对灯光可见呈向线条状，用透明胶带或黄胶带拉下，在基膜上消失。
容易导致此问题出现的原因：①隔板夹缝有异物；②导辊不干净，③轴承不灵活，④失速。
3.基膜背面擦伤：涂布镀铝工序均可导致此现象发生，表现为长短划痕，或线状或面状，具有规则和不规则性，镀铝工序出现此问题的原因：①水冷棍有异物粘其表面或不平整；②其它原因同上；（二）镀空线：轻微镀空线表现为出现线条状的浅白色线条，或斜向，或纵向，严重的一般表现为两条(多条)白色平行线条或斜向或纵向出现，其实质是基膜在卷绕系统的各部分没有很好的展平，其影响因素有：①膜的材质、变形、回用等因素；②卷绕系统各辊子之间的平行度；③弯辊的角度等各因素；④张力的调整。
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镀铝镜子原片的真空蒸镀工艺参数分析
镀铝是一种常见的表面处理工艺，它能够使原片表面呈现出金属光泽和反射性，常用于制作镜子。
真空蒸镀是镀铝工艺中最常用的方法之一，通过在真空环境中加热铝材料，使其蒸发并沉积在待加工的原片表面上。
在进行真空蒸镀工艺时，多个参数的设置对镜子的质量和性能有着重要的影响。
本文将对镀铝镜子原片的真空蒸镀工艺参数进行详细的分析。
首先，工艺温度是真空蒸镀中最重要的参数之一。
温度的选择会影响铝材料的
蒸发速率和沉积速率，直接影响到涂层的厚度和均匀性。
一般来说，温度在600℃
至700℃之间可以获得较好的蒸发效果。
温度过低会导致蒸发速率较慢，涂层厚度
不均匀；而温度过高则会导致铝材料过度蒸发，从而降低涂层的附着力和光学性能。
因此，在进行真空蒸镀时，需要在一定范围内调整温度，以达到最佳的工艺效果。
其次，蒸镀时间也是一个关键的参数。
蒸镀时间的长短决定了铝材料在原片表
面的沉积厚度。
在确定了所需的涂层厚度后，根据蒸发速率，可以计算出所需的蒸镀时间。
过短的蒸镀时间会导致涂层过薄，不符合要求；而过长的蒸镀时间则会造成资源的浪费。
因此，在实际操作中，需要根据所需涂层厚度和蒸发速率，合理调整蒸镀时间，以获得理想的镀层厚度。
而后，真空度也是决定蒸镀效果的重要参数之一。
较高的真空度可以减少气体
和杂质对蒸镀涂层的污染，提高涂层的质量和均匀性。
真空度的要求通常在10^-4
至10^-6帕之间，可以通过真空泵和其他辅助设备进行调节。
值得注意的是，随着
镀膜面积和设备尺寸的增加，维持较高真空度需要更强大的设备支持。
因此，在实际操作中，需要综合考虑设备的实际情况和所需涂层质量的要求，适当调整真空度的设置。
此外，镀铝镜子原片的真空蒸镀还需要注意一些其他参数的设置。
例如，镀层
厚度的均匀性可以通过调整蒸镀源与待加工表面之间的距离来实现。
较大的距离可以实现均匀的涂层，但蒸发速率会受到影响；较小的距离可以提高蒸发速率，但可
能导致涂层厚度不均匀。
此外，蒸镀源与待加工表面之间的角度也需要合适，以保证镀层的均匀性。
最后，镀铝镜子原片的真空蒸镀工艺参数的选择还需要结合具体的镀铝设备和镀铝原片的特性来进行综合考虑。
不同的设备和原片材料可能会有不同的最佳工艺参数。
因此，在实际生产中，需要进行试验和调整，根据实际情况来优化工艺参数的选择。
总结而言，镀铝镜子原片的真空蒸镀工艺参数分析是一个关键的过程，涉及到温度、蒸镀时间、真空度等多个参数的设置。
通过合理选择和调整这些参数，可以获得高质量的镀铝镜子涂层。
在实际操作中，需要根据具体情况进行综合考虑和调整，以达到最佳的工艺效果。