负性光刻胶显影液(正庚烷)MSDS
光刻胶及其分类
光刻胶及其分类一、光刻胶光刻胶又名光致抗蚀剂,由溶剂、光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体和其他助剂等成分组成,具有光化学敏感性。
光刻胶能够利用光化学反应,经过曝光、显影等光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上。
二、光刻胶分类按照显影效果不同,光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。
正性光刻胶的曝光部分溶于显影剂,显影时形成的图形与掩膜版上的图形相同。
负性光刻胶的曝光部分则不溶于显影剂,显影时形成的图形与掩膜版相反。
按照化学结构不同,光刻胶可分为光聚合型、光分解型、光交联型和化学放大型。
光聚合型光刻胶采用烯类单体,在光作用下生成自由基,引发单体聚合反应生成聚合物,常用于负性光刻胶;光分解型光刻胶,采用含有重氮醌类化合物(DQN)材料作为感光剂,其经过光照后,发生光分解反应,可以制成正性光刻胶;光交联型光刻胶采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光作用下,形成不溶性的网状结构,起到抗蚀作用,可制成负性光刻胶;化学放大型光刻胶采用难以溶解的聚乙烯树脂,使用光致酸剂(PAG)作为光引发剂,当光刻胶曝光后,曝光区域PAG产生酸,可作为后续热烘焙工序的催化器,使得树脂变得易于溶解。
按照下游应用领域不同,光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD 光刻胶和半导体光刻胶。
PCB光刻胶主要包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨。
LCD领域光刻胶主要包括彩色光刻胶和黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD 光刻胶。
其中,半导体光刻胶根据对应波长可以分为紫外光刻胶(300-450nm)、深紫外光刻胶(160-280nm)、极紫外光刻胶(EUV、13．5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶。
光刻胶波长越短,加工分辨率越高。
光刻胶基础知识
光刻胶基础知识光刻胶也称光致抗蚀剂（Photoresist,P.R.）。
1.光刻胶类型凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶，简称负胶。
凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为正性光刻胶，简称正胶。
1.光刻胶特性灵敏度灵敏度太低会影响生产效率，所以通常希望光刻胶有较高的灵敏度。
但灵敏度太高会影响分辨率。
通常负胶的灵敏度高于正胶。
分辨率光刻工艺中影响分辨率的因素有：光源、曝光方式和光刻胶本身（包括灵敏度、对比度、颗粒大小、显影时的溶胀、电子散射等）。
通常正胶的分辨率要高于负胶。
2.光刻胶材料光刻胶通常有三种成分：感光化合物、基体材料和溶剂。
在感光化合物中有时还包括增感剂。
3.1负性光刻胶主要有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类。
3.2正性光刻胶主要以重氮醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。
最常用的有AZ 系列光刻胶。
正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。
3.3 负性电子束光刻胶为含有环氧基、乙烯基或环硫化物的聚合物。
3.4 正性电子束光刻胶主要为甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮类这三种聚合物。
最常用的是PMMA胶。
PMMA胶的主要优点是分辨率高。
主要缺点是灵敏度低，在高温下易流动，耐干法刻蚀性差。
3.双层光刻胶技术随着线条宽度的不断缩小，为了防止胶上图形出现太大的深宽比，提高对比度，应该采用很薄的光刻胶。
但薄胶会遇到耐蚀性的问题。
由此出现了双层光刻胶技术，也就是超分辨率技术的组成部分。
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正庚烷-化学品安全技术说明书中文MSDS文档
化学品安全技术说明书修订日期： SDS编号：产品名称: 版本：正庚烷第一部分化学品及企业标识化学品中文名：正庚烷化学品英文名：n-heptane；heptane供应商名称：xxxxxxx化工有限公司供应商地址：xxxxxxx开发区供应商电话：0566-xxxxxxx邮编：247260供应商传真：0566-xxxxxxx电子邮件地址：**************供应商应急咨询电话：0566-xxxxxxx化学事故应急咨询专线：0566-xxxxxxx产品推荐及限制用途：用作辛烷值测定的标准、溶剂，以及用于有机合成，实验试剂的制备。
第二部分危险性概述紧急情况概述：高度易燃液体和蒸气，可能引起昏昏欲睡或眩晕，吞咽及进入呼吸道可能致命。
GHS危险性类别：易燃液体-类别2;皮肤腐蚀/刺激-类别2;特异性靶器官毒性-一次接触-类别3（麻醉效应）;吸入危害-类别1;危害水生环境-急性危害-类别1;危害水生环境-长期危害-类别1标签要素：象形图：警示词：危险危险信息：H225:高度易燃液体和蒸气H315:造成皮肤刺激H336:可能引起昏昏欲睡或眩晕H304:吞咽及进入呼吸道可能致命H410:对水生生物毒性极大并具有长期持续影响防范说明：预防措施：P210:远离热源/火花/明火/热表面。
禁止吸烟。
P233:保持容器密闭。
P240:容器和接收设备接地/等势联接。
P241:使用防爆的电气/通风/照明/……/设备。
P242:只能使用不产生火花的工具。
P243:采取防止静电放电的措施。
P280:戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P264:作业后彻底清洗……。
P260:不要吸入粉尘/烟/气体/烟雾/蒸气/喷雾。
P271:只能在室外或通风良好之处使用。
P273:避免释放到环境中。
应急响应：P303+P361+P353:如皮肤（或头发）沾染：立即脱掉所有沾染的衣服。
用水清洗皮肤/淋浴。
P370+P378:火灾时，使用……灭火。
负性光刻胶MSDS
危险性
提示词
化学品标识
危险性标志
个体防护措施
易燃！
负性光刻胶
危规号：
危险性理化数据
危险特性
熔点（℃）：
沸点（℃）：145
闪点（℃）：48
相对密度（水=1）:
相对密度（空气=1):救措施
泄漏处理及防火防爆措施
对眼有强烈的刺激。可能造成对呼吸器官的刺激。可能引起嗜睡或头晕。
【皮肤接触】：脱掉所有污染的衣服和鞋子,立即用肥皂和大量的水冲洗。如果刺激发展并持续,就医。
【眼睛接触】：用大量水彻底冲洗至少15分钟并请教医生。取下隐形眼镜。
【吸入】：将受伤者移到新鲜空气处并保持其平静请迅速就医并提供给医生相应物质安全资料表。
【食入】：禁止催吐。请迅速就医并提供给医生相应物质安全资料表如果清醒,大量饮水。
【泄漏处理】：穿戴合适的个人防护装备，避免与皮肤及眼睛接触，远离火源。用惰性材料吸收(如砂子,硅胶,酸性粘结剂,通用粘结剂锯末)。放入合适的封闭的容器中待处理。在遵守环境法规的前提下，彻底地清洗污染了的地面和物体。
【灭火方法】：火灾时，可能因燃烧而产生有害气体一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、氮氧化物（COx)、硫氧化物（SOx)。灭火剂：水雾状喷射、二氧化碳灭火、干粉灭火、泡沫灭火。
正负性显影液显影机制简介
• 150•在TFT 液晶显示器、Color Filter 彩色滤光片和集成电路等的制作工艺中，为获得所需的精细pattern 图形，需要使用光刻胶这样的感光材料，先以涂布的方式在玻璃基板或基材上形成一定厚度的薄膜，再经掩膜版曝光后，使用显影液进行显影，去除不需要的光刻胶薄膜部分，最终获取需要的图形。
显影工艺通常有三种主要方法：浸入式、喷淋式和搅动式显影，目前在TFT 液晶显示器、Color Filter 彩色滤光片的生产工厂线上基本都是使用的喷淋式显影设备，通过控制设备运转速度达到控制显影的时间长短，在显影段完成后经过再过水洗制程，将残余显影液彻底冲洗，保证产品显影品质。
显影液是溶解经曝光造成的光刻胶可溶解区域的一种化学溶剂，通常有正、负性两种显影工艺。
对于负性显影工艺，显影液通常是一种有机溶剂，如二甲苯。
对于正性显影工艺，显影液通常是强碱溶液加水稀释后使用，常规的有氢氧化钾，四甲基氢氧化铵（TMAH ）。
常规的制程方法是正性显影液显影正性光刻胶，负性显影液显影负性光刻胶，那么若负性显影液显影正性光刻胶会发生何变化，本文将简单探讨该问题点。
1 正/负性光刻胶显影机制介绍光刻工艺中的光刻胶主要分为正性光刻胶和负性光刻胶两种。
正性光刻胶未被曝光灯照过的部分在显影后会被保留，而负性光刻胶是被曝光过的部分在显影后会被保留。
即通过在曝光制程结束后利用显影液显影，正性光刻胶的感光区、负性光刻胶的非感光区，会溶解于显影液中，这一步完成后，光刻胶涂层中的图形就可以显现出来。
为了提高分辨率，几乎每一种光刻胶都有专门适用的显影液，以保证高质量的显影效果。
图1 界面活性剂提升亲水性1.1 负性光刻胶显影机制负性光刻胶使用负性显影液显影，常用的负性显影液是KOH ，个别工厂也有使用Na2CO3的，但无论是哪种成份的碱液，其中必定会含有表面活性剂（surfactant ）。
负性光刻胶未曝光区域呈弱酸性（H+），单从化学反应层来理解便是未曝光区域光刻胶（H+）与碱性显影液发生酸碱中和反应，即可显影出图形。
第二章-3(光刻胶)
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深紫外光刻胶——化学放大胶
DQN在短波长是感光效果不佳 深紫外光源强度较小，光能量不够。 深紫外光刻需要采用化学放大胶。 化学放大胶一般包括三个部分：基质树脂、有机 溶剂、酸性发生剂(Photo acid generator, PAG)。 电子束光或光照，PAG在光子冲击下分解，这种 分解进一步催化更多PAG分解，一个光子可诱发 上千个分解反应。从而提高光刻胶的灵敏度。 特点：高灵敏度，强的抗干法腐蚀能力；易被空 气污染，在空气中性能不稳定, 灵敏度： 1~5mC/cm2
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光刻胶的类型
光刻胶通常具有溶解 负性光刻胶 ——曝光区在显影液中不溶解
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光刻胶的断链和交联
光刻胶本身或与其它化合物化合，称为交联。 如果光刻胶的主要是产生交联。交联后，分子 更坚固，有更高的密度，并降低了分子在常用 溶剂的溶解能力。(负性胶) 反之，若聚合物分裂成短链，分子则更易溶解, 称为断链。 (正性胶)
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光刻胶涂敷的工艺流程(3)
显影：需要设定合适的显影时间。显影时间不 够，曝光区的光刻胶可能还没有完全溶解；显 影时间过长，则转移的图形可能过大。几乎所 有的正性胶都用碱性显影液，如用水稀释的5‰ 的KOH或NaOH作为显影剂。 硬烘：也称坚膜，高温烘烤使光刻胶硬化，主 要针对后续的需要光刻胶作掩模的高能工艺， 如离子注入和等离子刻蚀。
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电子束光刻胶——PMMA
PMMA (polymethyl methacrylate) 聚甲基丙烯酸 酯： 优点：分辨率高，附着力强，工艺简单成熟； 缺点：灵敏度低，抗干法腐蚀能力差。
在深紫外光照下，聚合体结合链断开，变得易溶解。 对220nm光波最敏感，对波长高于240nm的光完全不 敏感。 灵敏度低：100~500 mC/cm2，要求曝光剂量大于 250mJ/cm2 18
光刻胶大全
光刻胶产品前程无量（半导体技巧寰宇）1 媒介光刻胶(别名光致抗蚀剂)是指经由过程紫外光.电子束.准分子激光束.X射线.离子束等曝光源的照耀或辐射,使消融度产生变更的耐蚀苛刻膜材料,重要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工,近年来也慢慢运用于光电子范畴平板显示器（FPD）的制造.因为光刻胶具有光化学迟钝性,可运用其进行光化学反响,经曝光.显影等进程,将所须要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上,然落后行刻蚀.集中.离子注入等工艺加工,是以是电子信息财产中微电子行业和光电子行业微细加工技巧的症结性基本加工材料.作为经曝光和显影而使消融度增长的正型光刻胶多用于制造IC,经曝光或显影使消融度减小的负型光刻胶多用于制造分立器件.2 国外情形跟着电子器件不竭向高集成化和高速化偏向成长,对微细图形加工技巧的请求越来越高,为了顺应亚微米微细图形加工的请求,国外先后开辟了g线（436nm）.i线（365nm）.深紫外.准分子激光.化学增幅.电子束.X射线.离子束抗蚀剂等一系列新型光刻胶.这些品种较有代表性的负性胶如美国柯达（Kodak）公司的KPR.KMER.KLER.KMR.KMPR等;结合碳化学（UCC）公司的KTI系列;日本东京应化（Tok）公司的TPR.SVR.OSR.OMR;合成橡胶（JSR）公司的CIR.CBR系列;瑞翁（Zeon）公司的ZPN系列;德国依默克（E.Merk）公司的Solect等.正性胶如：美国西帕来（Shipely）公司的AZ系列.DuPont公司的Waycot系列.日本合成橡胶公司的PFR等等. 2000~2001年世界市场光刻胶临盆商的收益及市场份额公司2001年收益2001年市场份额（%） 2000年收益 2000年市场份额（%）总计Source: Gartner Dataquest今朝,国际上主流的光刻胶产品是分辩率在0.25µm～0.18µm的深紫外正型光刻胶,重要的厂商包含美国Shipley.日本东京应化和瑞士的克莱恩等公司.中国专利CN1272637A2000年公开了国际贸易机械公司创造的193nm光刻胶组合物,在无需相传递掩膜的情形下可以或许分辩尺寸小于150nm,更优选尺寸小于约115nm.2003年美国专利US2003/0082480又公开了Christian Eschbaumer等创造的157nm光刻胶.估计2004年全球光刻胶和助剂的市场范围约37亿美元.3 国内近况国内重要产品有聚乙烯醇肉桂酸酯（相当于美KPR胶）.聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯胶.环化橡胶型购胶（相当于OMR－83胶）和重氮萘醌磺酰氯为感光剂主体的紫外正型光刻胶（相当于AZ－1350）.个中紫外线负胶已国产化,紫外线正胶可知足2µm工艺请求,深紫外正负胶（聚甲基异丙烯基酮.氯甲基聚苯乙烯,分辩率0.5～0.3µm）.电子束正负胶（聚甲基丙烯酸甲酯一甲基丙烯酸缩水甘油酯一丙烯酸乙酯共聚）（分辩率0.25～0.1µm）.X射线正胶（聚丁烯砜聚1,2一二氯丙烯酸,分辩率0.2µm）,可供给少量产品,用于IC制造的高等次正型胶仍全体依附进口.光刻胶今朝国产才能约为100多吨.据国度有关部分猜测,到2005年微电子用光刻胶将超出200吨. 国内光刻胶重要研制临盆单位有北京化学试剂所.北京化工场.上海试剂一厂.姑苏瑞红电子化学品公司.黄岩有机化工场.无锡化工研讨设计院.北师大.上海交大等.近年来,北京化学试剂所和姑苏瑞红电子化学品公司等单位在平板显示器（FPD）用光刻胶方面进行了大量工作,已研制成功并范围临盆出液晶显示器（LCD）专用正型光刻胶,如北京化学试剂所的BP218系列正型光刻胶实用于TN／STNLCD的光刻制造.北京化学试剂研讨所一向是国度重点科技攻关课题——光刻胶研讨的组长单位.“十五”时代,科技部为了尽快缩小光刻技巧配套用材料与国际先辈程度的差距,将新型高机能光刻胶列入了“863”重大专项筹划之中,并且跨过艺用i线正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶两个台阶,直接开展艺用193nm光刻胶的研讨.姑苏瑞红则是微电子化学操行业中惟一一家中外合伙临盆企业,曾作为国度“八五”科研攻关“南边基地”的组长单位,其光刻胶产品以用于LCD的正胶为主,负胶为辅.为加速成长光刻胶财产的程序,北京化学试剂研讨所的上级单位——北京化工团体有限义务公司正在做相干筹划,争夺在“十五”时代,在大兴区兴建的化工基地实现年产光刻胶80吨至100吨的范围.在此筹划中,化工基地前期以临盆紫外负型光刻胶及术用紫外正胶为主,之后还要接踵临盆i 线正胶.术用的193nm高机能光刻胶.而姑苏瑞红也正积极地与国外有名的光刻胶厂商合作,进行248nm深紫外光刻胶的财产化工作,争夺使其产品打入国内合伙或独资的集成电路临盆企业.4 前程无量近年来,光刻胶在微电子行业中不竭开辟出新的用处,如采取光敏性介质材料制造多芯片组件(MCM).MCM技巧可大幅度缩小电子体系体积,减轻其质量,并进步其靠得住性.近年来国外在高等军事电子和宇航电子设备中,已普遍地运用MCM技巧. 可以预感,成长微电子信息财产及光电财产中不成缺乏的基本工艺材料——光刻胶产品在21世纪的运用将更普遍.更深刻.光刻胶的界说及重要感化光刻胶是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的消融度会产生变更.一般光刻胶以液态涂覆在硅片概况上,曝光后烘烤成固态. 光刻胶的感化：a.将掩膜板上的图形转移到硅片概况的氧化层中;b.在后续工序中,呵护下面的材料（刻蚀或离子注入）.光刻胶来源光刻开端于一种称作光刻胶的感光性液体的运用.图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出须要的模板图案.光刻胶溶液平日被扭转式滴入wafer.如图wafer被装到一个每分钟能转几千转的转盘上.几滴光刻胶溶液就被滴到扭转中的wafer的中间,离心利巴溶液甩到概况的所有地方.光刻胶溶液黏着在wafer上形成一层平均的薄膜.过剩的溶液从扭转中的wafer上被甩失落.薄膜在几秒钟之内就缩到它最终的厚度,溶剂很快就蒸发失落了,wafer上就留下了一薄层光刻胶.最后经由过程烘焙去失落最后剩下的溶剂并使光刻胶变硬以便后续处理.镀过膜的wafer对特定波成的光线很迟钝,特别是紫外（UV）线.相对来说他们仍然对其他波长的,包含红,橙和黄光不太迟钝.所以大多半光刻车间有特别的黄光体系.光刻胶的重要技巧参数a.分辩率（resolution）.差别硅片概况相邻图形特点的才能.一般用症结尺寸（CD,Critical Dimension）来权衡分辩率.形成的症结尺寸越小,光刻胶的分辩率越好.b.比较度（Contrast）.指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度.比较度越好,形成图形的侧壁越峻峭,分辩率越好.c.迟钝度（Sensitivity）.光刻胶上产生一个优越的图形所需必定波长光的最小能量值（或最小曝光量）.单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2.光刻胶的迟钝性对于波长更短的深紫外光（DUV）.极深紫外光（EUV）等尤为重要.d.粘滞性/黏度（Viscosity）.权衡光刻胶流淌特点的参数.粘滞性跟着光刻胶中的溶剂的削减而增长;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的粘滞性,就有越平均的光刻胶厚度.光刻胶的比重（SG,Specific Gravity）是权衡光刻胶的密度的指标.它与光刻胶中的固体含量有关.较大的比重意味着光刻胶中含有更多的固体,粘滞性更高.流淌性更差.粘度的单位：泊（poise）,光刻胶一般用厘泊（cps,厘泊为1%泊）来器量.百分泊即厘泊为绝对粘滞率;活动粘滞率界说为：活动粘滞率=绝对粘滞率/比重. 单位：百分斯托克斯（cs）＝cps/SG.e.粘附性（Adherence）.表征光刻胶粘着于衬底的强度.光刻胶的粘附性缺乏会导致硅片概况的图形变形.光刻胶的粘附性必须经受住后续工艺（刻蚀.离子注入等）.f.抗蚀性（Anti-etching）.光刻胶必须保持它的粘附性,在后续的刻蚀工序中呵护衬底概况.耐热稳固性.抗刻蚀才能和抗离子轰击才能.g.概况张力（Surface Tension）.液体中将概况分子拉向液体主体内的分子间吸引力.光刻胶应当具有比较小的概况张力,使光刻胶具有优越的流淌性和笼罩.h.存储和传送（Storage and Transmission）.能量（光和热）可以激活光刻胶.应当存储在密闭.低温.不透光的盒中.同时必须划定光刻胶的闲置刻日和存贮温度情形.一旦超出存储时光或较高的温度范围,负胶会产生交联,正胶会产生感光延迟.光刻胶的分类a.依据光刻胶按照若何响应紫外光的特点可以分为两类：负性光刻胶和正性光刻胶.负性光刻胶（Negative Photo Resist）.最早运用,一向到20世纪70年月.曝光区域产生交联,难溶于显影液.特点：优越的粘附才能.优越的阻拦感化.感光速度快;显影时产生变形和膨胀.所以只能用于2μm的分辩率.正性光刻胶（Positive Photo Resist）.20世纪70年月,有负性转用正性.正性光刻胶的曝光区域加倍轻易消融于显影液.特点：分辩率高.台阶笼罩好.比较度好;粘附性差.抗刻蚀才能差.高成本.b.依据光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸来分：传统光刻胶和化学放大光刻胶.传统光刻胶.实用于I线（365nm）.H线（405nm）和G线（436nm）,症结尺寸在μm及其以上.化学放大光刻胶（CAR,Chemical Amplified Resist）.实用于深紫外线（DUV）波长的光刻胶.KrF（248nm）和ArF（193nm）. 光刻胶的化学性质a.传统光刻胶：正胶和负胶. 光刻胶的构成：树脂（resin/polymer）,光刻胶中不合伙料的粘合剂,授与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性.胶膜厚度.热稳固性等）;感光剂,感光剂对光能产生光化学反响;溶剂（Solvent）,保持光刻胶的液体状况,使之具有优越的流淌性;添加剂（Additive）,用以改变光刻胶的某些特点,如改良光刻胶产生反射而添加染色剂等.负性光刻胶.树脂是聚异戊二烯,一种自然的橡胶;溶剂是二甲苯;感光剂是一种经由曝光后释放出氮气的光敏剂,产生的自由基在橡胶分子间形成交联.从而变得不溶于显影液.负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨;曝光时光刻胶轻易与氮气反响而克制交联.正性光刻胶.树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,供给光刻胶的粘附性.化学抗蚀性,当没有消融克制剂消失时,线性酚醛树脂会消融在显影液中;感光剂是光敏化合物（PAC,Photo Active Compound）,最罕有的是重氮萘醌（DNQ）,在曝光前,DNQ是一种强烈的消融克制剂,下降树脂的消融速度.在紫外曝光后,DNQ在光刻胶中化学分化,成为消融度加强剂,大幅进步显影液中的消融度因子至100或者更高.这种曝光反响会在DNQ中产生羧酸,它在显影液中消融度很高.正性光刻胶具有很好的比较度,所以生成的图形具有优越的分辩率.b.化学放大光刻胶（CAR,Chemical Amplified Resist）. 树脂是具有化学基团呵护（t-BOC）的聚乙烯（PHS）.有呵护团的树脂不溶于水;感光剂是光酸产生剂（PAG,Photo Acid Generator）,光刻胶曝光后,在曝光区的PAG产生光化学反响会产生一种酸.该酸在曝光后热烘（PEB,Post Exposure Baking）时,作为化学催化剂将树脂上的呵护基团移走,从而使曝光区域的光刻胶由本来不溶于水改变成高度溶于以水为重要成分的显影液.化学放大光刻胶曝光速度异常快,大约是DNQ线性酚醛树脂光刻胶的10倍;对短波长光源具有很好的光学迟钝性;供给陡直侧墙,具有高的比较度;具有μm及其以下尺寸的高分辩率.光刻胶的重要运用范畴模仿半导体（Analog Semiconductors）发光二极管（Light-Emitting Diodes LEDs）微机电体系（MEMS）太阳能光伏（Solar PV）微流道和生物芯片（Microfluidics & Biochips）光电子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封装（Packaging）光刻胶的成长趋向中国的微电子和平板显示财产成长敏捷,带动了光刻胶材料与高纯试剂供给商等财产链中的相干配套企业的树立和成长.特别是2009年LED（发光二极管）的缓慢成长,加倍有力地推进了光刻胶财产的成长.中国的光刻胶财产市场在原有分立器件.IC.LCD（液晶显示器）的基本上,又参加了LED,再加上光伏的潜在市场,到2010年中国的光刻胶市场将超出20亿元,将占国际光刻胶市场比例的10%以上. 从国内相干财产对光刻胶的需求量来看,今朝重要照样以紫外光刻胶的用量为主,个中的中小范围（5μm以上技巧）及大范围集成电路（5μm.2~3μμm技巧）企业.分立器件临盆企业对于紫外负型光刻胶的需求总量将分离达到100吨/年~150吨/年;用于集成电路.液晶显示的紫外正性光刻胶及用于LED的紫外正负性光刻胶的需求总量在700吨/年~800吨/年之间.但是超大范围集成电路深紫外术）与193nm（90nm.65nm及45nm的技巧）光刻胶跟着Intel大连等数条大尺寸线的树立,需求量也一日千里.。
MSDS正性光刻胶
化学品安全技术说明书1. 化学品及企业标识产品信息贸易名称: AZ SLD-2530(39cP) 0004物质/制剂的使用: 电子产业生产制造过程中使用2. 危险性概述GHS-分类: 易燃液体, 类别3眼刺激, 类别2B特定的靶器官系统毒性- 单次暴露, 类别3 GHS-标签图形符号:信号词: 警告危险性说明: 易燃液体和蒸气。
刺激眼。
可能造成对呼吸器官的刺激。
可能引起嗜睡或头晕。
防范说明: 预防:远离热源/火花/明火/热表面。
- 禁止吸烟。
戴防护手套/ 穿防护服/ 戴防护眼罩/ 戴防护面具。
措施: 眼睛刺激持续：就医。
火灾时：用干的砂子，干的化学品或耐醇性的泡沫来灭火。
1/7储存:在通风良好处储存。
保持容器密闭。
处置: 将本品及其容器交由经批准的废物处理厂处置。
3. 成分/组成资料危险组分化学品名称化学文摘登记号(CAS No.) 浓度或浓度范围丙二醇甲醚醋酸酯108-65-6 >= 70%4. 急救措施一般的建议: 如果接触产品后感觉不适，立即就医吸入: 将受伤者移到新鲜空气处并保持其平静如果呼吸微弱、不规则或者停止，迅速解开领子，松开皮带，进行人工呼吸尽快将患者送往最近的医疗中心接受医生的检查和治疗。
请迅速就医并提供给医生相应物质安全资料表皮肤接触: 如果接触皮肤，立即用肥皂水清洗接触部位尽快脱下沾有化学品的衣服、鞋子和袜子，如有必要可用刀除去衣物如有持续刺激，请尽快送往最近的医疗中心接受医生的检查和治疗眼睛接触: 使用大量清水冲洗眼睛至少15分钟，并将眼皮保持张开状态。
迅速就医如化学品不慎溅入眼睛，立即用大量清水冲洗眼睛至少15分钟食入: 如果病人有意识，可以饮用水或者牛奶稀释胃中的物质禁止催吐。
让病人休息并立刻寻求医疗救助。
请迅速就医并提供给医生相应物质安全资料表对医生的特别提示处理: 无适用资料。
5. 消防措施灭火方法及灭火剂: 二氧化碳，水雾，干粉的，抗酒精泡沫2/7。
MSDS_A515
溶解性：形成两层
主要用途：无资料
其他理化性质：无资料
第十部分稳定性和反应活性
稳定性：穩定
禁配物：无资料
避免接触的条件：避免接触氧化剂
聚合危害：无资料
分解产物：无资料
第十一部分毒理学资料
急性毒性：LD50=1950毫克/公斤(小鼠)
亚急性和慢性毒性：无相关之报告
灭火注意事项：安全手套、安全护目镜、氧气面罩
第六部分泄漏应急处理
应急处理：
个人注意事项：工作后尽快脱掉污染之衣物，洗净后才可穿戴或丢弃，且须告知洗衣人员污染之危害性。
消除方法：使用吸附材料予以吸收并送入焚化炉将其烧成灰烬
第七部分操作处置与储存
操作注意事项：避免皮肤眼睛的接触
储存注意事项：
依消防法规，避免渗漏。
化学危险物品安全管理条例实施细则（化劳发[1992]677号）
工作场所安全使用化学品规定（[1996]劳部发423号）
2、国际法规--
第十六部分其他信息
参考文献：日本科莱股份有限公司(Clariant(Japan)K.K.Technical & Production Dept)
填表时间：2003年11月18日
第二部分成分/组成信息
纯品混合物
化学品名称：Cyclopentanon
有害物成分:C5H8O浓度:>95%
CAS No.：(CAS NO.):120-92-3
第三部分危险性概述
危险性类别：3Leabharlann 易燃液体侵入途径：眼睛接触，皮肤接触。
健康危害：接触皮肤与眼睛会造成轻微的刺激感
环境危害：无相关报告
燃爆危险：易燃
负性光刻胶显影液(正庚烷)MSDS
正庚烷化学品安全技术说明书第一部分：化学品名称化学品中文名称：正庚烷化学品英文名称：n-heptane中文名称2：庚烷技术说明书编码：444CAS No.：142-82-5分子式：C7H16分子量：100.21第二部分：成分/组成信息有害物成分含量 CAS No.正庚烷 142-82-5第三部分：危险性概述健康危害：本品有麻醉作用和刺激性。
急性中毒：吸入本品蒸气可引起眩晕、恶心、厌食、欣快感和步态蹒跚，甚至出现意识丧失和木僵状态。
对皮肤有轻度刺激性。
慢性影响：长期接触可引起神经衰弱综合征。
少数人有轻度中性白细胞减少，消化不良。
燃爆危险：本品易燃，具刺激性。
第四部分：急救措施皮肤接触：脱去污染的衣着，用肥皂水和清水彻底冲洗皮肤。
眼睛接触：提起眼睑，用流动清水或生理盐水冲洗。
就医。
吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。
保持呼吸道通畅。
如呼吸困难，给输氧。
如呼吸停止，立即进行人工呼吸。
就医。
食入：饮足量温水，催吐。
就医。
第五部分：消防措施危险特性：易燃，其蒸气与空气可形成爆炸性混合物，遇热源和明火有燃烧爆炸的危险。
与氧化剂接触发生化学反应或引起燃烧。
高速冲击、流动、激荡后可因产生静电火花放电引起燃烧爆炸。
其蒸气比空气重，能在较低处扩散到相当远的地方，遇火源会着火回燃。
有害燃烧产物：一氧化碳、二氧化碳。
灭火方法：喷水冷却容器，可能的话将容器从火场移至空旷处。
处在火场中的容器若已变色或从安全泄压装置中产生声音，必须马上撤离。
灭火剂：泡沫、二氧化碳、干粉、砂土。
用水灭火无效。
第六部分：泄漏应急处理应急处理：迅速撤离泄漏污染区人员至安全区，并进行隔离，严格限制出入。
切断火源。
建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿防静电工作服。
尽可能切断泄漏源。
防止流入下水道、排洪沟等限制性空间。
小量泄漏：用活性炭或其它惰性材料吸收。
也可以用不燃性分散剂制成的乳液刷洗，洗液稀释后放入废水系统。
大量泄漏：构筑围堤或挖坑收容。
用泡沫覆盖，降低蒸气灾害。
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正庚烷化学品安全技术说明书
第一部分：化学品名称
化学品中文名称：正庚烷
化学品英文名称：n-heptane
中文名称2：庚烷
技术说明书编码：444
CAS No.：142-82-5
分子式：C7H16
分子量：100.21
第二部分：成分/组成信息
有害物成分含量 CAS No.
正庚烷 142-82-5
第三部分：危险性概述
健康危害：本品有麻醉作用和刺激性。
急性中毒：吸入本品蒸气可引起眩晕、恶心、厌食、欣快感和步态蹒跚，甚至出现意识丧失和木僵状态。
对皮肤有轻度刺激性。
慢性影响：长期接触可引起神经衰弱综合征。
少数人有轻度中性白细胞减少，消化不良。
燃爆危险：本品易燃，具刺激性。
第四部分：急救措施
皮肤接触：脱去污染的衣着，用肥皂水和清水彻底冲洗皮肤。
眼睛接触：提起眼睑，用流动清水或生理盐水冲洗。
就医。
吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。
保持呼吸道通畅。
如呼吸困难，给输氧。
如呼吸停止，立即进行人工呼吸。
就医。
食入：饮足量温水，催吐。
就医。
第五部分：消防措施
危险特性：易燃，其蒸气与空气可形成爆炸性混合物，遇热源和明火有燃烧爆炸的危险。
与氧化剂接触发生化学反应或引起燃烧。
高速冲击、流动、激荡后可因产生静电火花放电引起燃烧爆炸。
其蒸气比空气重，能在较低处扩散到相当远的地方，遇火源会着火回燃。
有害燃烧产物：一氧化碳、二氧化碳。
灭火方法：喷水冷却容器，可能的话将容器从火场移至空旷处。
处在火场中的容器若已变色或从安全泄压装置中产生声音，必须马上撤离。
灭火剂：泡沫、二氧化碳、干粉、砂土。
用水灭火无效。
第六部分：泄漏应急处理
应急处理：迅速撤离泄漏污染区人员至安全区，并进行隔离，严格限制出入。
切断火源。
建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿防静电工作服。
尽可能切断泄漏源。
防止流入下水道、排洪沟等限制性空间。
小量泄漏：用活性炭或其它惰性材料吸收。
也可以用不燃性分散剂制成的乳液刷洗，洗液稀释后放入废水系统。
大量泄漏：构筑围堤或挖坑收容。
用泡沫覆盖，降低蒸气灾害。
用防爆泵转移至槽车或专用收集器内，回收或运至废物处理场所处置。
第七部分：操作处置与储存
操作注意事项：密闭操作，全面通风。
操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。
建议操作人员佩戴过滤式防毒面具（半面罩），戴安全防护眼镜，穿防静电工作服，戴橡胶耐油手套。
远离火种、热源，工作场所严禁吸烟。
使用防爆型的通风系统和设备。
防止蒸气泄漏到工作场所空气中。
避免与氧化剂接触。
灌装时应控制流速，且有接地装置，防止静电积聚。
配备相应品种和数量的消防器材及泄漏应急处理设备。
倒空的容器可能残留有害物。
储存注意事项：储存于阴凉、通风的库房。
远离火种、热源。
库温不宜超过30℃。
保持容器密封。
应与氧化剂分开存放，切忌混储。
采用防爆型照明、通风设施。
禁止使用易产生火花的机械设备和工具。
储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。
第八部分：接触控制/个体防护
前苏联MAC(mg/m3)：300
TLVTN：OSHA 500ppm,2050mg/m3; ACGIH 400ppm,1640mg/m3
TLVWN：ACGIH 500ppm,2050mg/m3
工程控制：生产过程密闭，全面通风。
提供安全淋浴和洗眼设备。
呼吸系统防护：空气中浓度较高时，佩戴过滤式防毒面具（半面罩）。
眼睛防护：戴安全防护眼镜。
身体防护：穿防静电工作服。
手防护：戴橡胶耐油手套。
其他防护：工作现场严禁吸烟。
避免长期反复接触。
第九部分：理化特性
主要成分：纯品
外观与性状：无色易挥发液体。
熔点(℃)：-90.5
沸点(℃)：98.5
相对密度(水=1)：0.68
相对蒸气密度(空气=1)：3.45
饱和蒸气压(kPa)：5.33(22.3℃)
燃烧热(kJ/mol)：4806.6
临界温度(℃)：201.7
临界压力(MPa)：1.62
闪点(℃)：-4
引燃温度(℃)：204
爆炸上限%(V/V)：6.7
爆炸下限%(V/V)：1.1
溶解性：不溶于水，溶于醇，可混溶于乙醚、氯仿。
主要用途：用作辛烷值测定的标准、溶剂，以及用于有机合成，实验试剂的制备。
第十部分：稳定性和反应活性
禁配物：强氧化剂。
第十一部分：毒理学资料
急性毒性：LD50：222 mg/kg(小鼠静脉)
LC50：75000mg/m3，2小时(小鼠吸入)
第十二部分：生态学资料
其它有害作用：该物质对环境可能有危害，对水体和大气可造成污染，在对人类重要食物链
中，特别是在鱼类体内发生生物蓄积。
第十三部分：废弃处置
废弃处置方法：处置前应参阅国家和地方有关法规。
建议用焚烧法处置。
第十四部分：运输信息
危险货物编号：32006
UN编号：1206
包装类别：O52
包装方法：小开口钢桶；安瓿瓶外普通木箱；螺纹口玻璃瓶、铁盖压口玻璃瓶、塑料瓶或金属桶（罐）外普通木箱。
运输注意事项：运输时运输车辆应配备相应品种和数量的消防器材及泄漏应急处理设备。
夏季最好早晚运输。
运输时所用的槽（罐）车应有接地链，槽内可设孔隔板以减少震荡产生静电。
严禁与氧化剂、食用化学品等混装混运。
运输途中应防曝晒、雨淋，防高温。
中途停留时应远离火种、热源、高温区。
装运该物品的车辆排气管必须配备阻火装置，禁止使用易产生火花的机械设备和工具装卸。
公路运输时要按规定路线行驶，勿在居民区和人口稠密区停留。
铁路运输时要禁止溜放。
严禁用木船、水泥船散装运输。
第十五部分：法规信息
法规信息；化学危险物品安全管理条例 (1987年2月17日国务院发布)，化学危险物品安全管理条例实施细则 (化劳发[1992] 677号)，工作场所安全使用化学品规定 ([1996]劳部发423号)等法规，针对化学危险品的安全使用、生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应规定；常用危险化学品的分类及标志 (GB 13690-92)将该物质划为第3.2 类中闪点易燃液体。
第十六部分：其他信息
参考文献：
填表部门：
数据审核单位：
修改说明：
其他信息：。