激光干涉光刻技术的分析
光刻厂原理
光刻厂原理光刻是一种半导体制造过程中非常关键的技术，其原理是利用光的干涉和衍射现象，在光敏剂上形成所需图案，以进行微细电子器件的制造。
本文将详细介绍光刻厂的原理及其在半导体制造中的应用。
一、光刻厂的原理光刻厂主要利用光刻技术对半导体材料进行精细加工。
其原理可以概括为以下几个步骤：1. 掩膜制备：首先，需要制备一个掩膜，其中包含了所需图案的信息。
掩膜通常由光刻胶制成，通过将掩膜与光刻胶置于一起曝光，可以将图案的信息传递到光刻胶上。
2. 光刻胶涂覆：将光刻胶涂覆在待加工的半导体表面上，形成一层均匀的光刻胶薄膜。
涂覆过程需要控制涂覆速度和厚度，以确保光刻胶的质量。
3. 曝光：将掩膜与光刻胶一起置于光刻机中，利用光的干涉和衍射原理，通过照射光源将图案信息转移到光刻胶上。
曝光过程需要控制光源的波长、强度和曝光时间等参数，以确保图案的精确传递。
4. 显影：经过曝光后，光刻胶中的暴露部分会发生化学反应，形成可溶于显影液的物质。
通过将光刻胶浸泡在显影液中，暴露部分的光刻胶会被溶解，从而形成待加工区域。
5. 蚀刻：在显影完成后，可以使用蚀刻技术将暴露出的待加工区域进行物理或化学刻蚀。
蚀刻可以去除暴露部分的半导体材料，从而形成所需的图案。
6. 清洗：在蚀刻完成后，需要对光刻胶和显影液进行清洗，以确保表面干净无尘，准备进行下一步的工艺步骤。
二、光刻厂在半导体制造中的应用光刻技术在半导体制造中起到了至关重要的作用，广泛应用于集成电路、平板显示、光电子器件等领域。
它主要用于以下几个方面：1. 制造集成电路：光刻技术被广泛应用于制造集成电路的过程中。
通过精确的光刻步骤，可以在半导体材料上形成微小的电路图案，实现电子元件的互连和功能实现。
2. 制造平板显示器：光刻技术也被应用于平板显示器的制造过程中。
通过光刻技术，可以在平板显示器的基板上形成微小的液晶单元，实现图像的显示和控制。
3. 制造光电子器件：光刻技术还被用于制造光电子器件，如激光器、光纤等。
双尺度织构的激光光刻工艺
其方 向按 顺针旋 转 了 ９ ｏ 。 ， 然 后依 次通 过 电子开 关 ３ 、 扩束 镜 ４ （ 放 大倍 数 为 ５倍 ） 和 分 束镜 ５ 。分 束后 的激 光 ：
微纳 米织 构 的方法有 很 多种 ， 例如 化学 腐蚀 、 激 光加 工 、 电子束 刻蚀 、 光 刻等 １ ４ ］ 。双尺度 复 合织 构 （ 在 两 个尺 度
』 － 都 存在 规则 的周 期结 构 ） 在 自然界 中普 遍存 在 ， 其 表 面往 往 会表 现 出 一些 特 殊 的现 象 ， 如荷曝 光 、 结 构尺 寸容 易控 制 等优点 【 １ １ ３ ］ 。本 文搭 建 了双光束 激 光干 涉光 刻系 统和
激光快 速 扫描 系统 ， 采用 激光 干涉 光刻 系统 在抗 蚀剂 表 面构 造 了不 同周期 、 不 同深度 的微 米 级 光栅 织 构 ， 利 用
作［ Ｌ ｒ １ 坑 阵列 型表 面织构 ， 并 对其进 行 了摩 擦磨 损试 验 研究 。采 用 光 刻技 术 制 备 的微 ／ 纳 米织 构 排 列 规则 、 截 面 轮廓 平 滑 ， 而且 易加工 出尺寸较 小 的织构 。激光 干涉 光刻 是一 种 新 兴 的光 刻 技术 ， 与 其 他 的 光刻 方 法 相 比， 具
有 了很大 的发 展 ， 广泛应 用于 集成 电路 、 掩模 、 ＭＥ ＭＳ 、 材料科 学 等方 面 。陈欣 等人 利 用激 光干 涉光 刻技 术和 等离 子刻蚀 技 术制备 出周期 ２ ０ ０ 、 线宽 １ Ｏ ０ ｎ ｍ 的掩 膜 。施 瑶等 人［ ９ 利 用 光刻 和 电铸 技术 在 不锈 钢基 板 和铝 基 板上 加工 出不 同参 数 的条纹 沟槽 ， 有效 改善 了其表 面 的润湿性 能 。姜 亮 等人 利用 光刻 技术 在 Ｐ Ｄ ＭＳ表 面制
光刻技术历史与发展
光刻技术历史与发展光刻工艺是集成电路最重要的加工工艺，他起到的作用如题金工车间中车床的作用，光刻机如同金属加工工车间的车床。
在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技束。
光刻也是制造IC的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。
在如今的科技与社会发展中，光刻已经每年以百分之三十五的速度增长，他的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域，现在大型计算机的每个芯片上可以大约有10亿个零件。
这就需要很高的光刻技术。
如今各个大国都在积极的发展光科技束。
光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光科技束。
在我们的日常生活中，也需要用到光刻技术制造的各种各样的芯片，最普通的就是我们手里的手机和电脑。
如今是一个信息社会，在这个社会中各种各样的信息流在世界流动。
而光刻技术是保证制造承载信息的载体。
在社会上拥有不可替代的作用。
本论文的作用是向大家普及光刻的发展历史和光刻的发展方向，以及光刻的种类，每种光刻种类的优点和缺点。
并且向大家讲述光刻的发展前景。
在光刻这一方面，我国的专利意识稀薄，很多技术都没有专利，希望我辈能改变这个状况Lithography process is the most important processing technology of integrated circuit, he play a role Such as the role of the lathe in machining shop, lithography as metalworking shop lathe. In the whole chip manufacturing technology, implementation of almost every process is inseparable from the lithography technology of beam. Lithography is the key technology of manufacturing IC, he war more than 35% of the chip manufacturing cost. In today's science and technology and social development, lithography has been growing at thirty-five percent a year, his growth, is directly related to the operation of large computer and other high-tech areas, large computer per chip can now has about 1 billion parts. This will require a very high lithography. Now the big countries are actively the development of light beam technology.Lithography is closely related to our life, we use the phone, all kinds of electronic products such as computer, the inside of the chip productionwithout light beam of science and technology.In our daily life, also need to use photolithography technology manufacturing all kinds of chips, the most common is our cell phones and computers. Today is a information society, in the society all kinds of traffic flow in the world. And make the bearing lithography technology is to make sure the carrier of information. Has an irreplaceable role in society.Role of this paper is to popularize the development direction of the development history of lithography and lithography, and the types of lithography, and to talk about the development of lithography. In lithography on the one hand, China's patent consciousness is thin, a lot of technology patents, hope that we can change the situation.Key words: lithography; Lithography species; Lithography Chinese and foreign history编号 ........................................................ 错误!未定义书签。
光刻机中的超快脉冲激光技术
光刻机中的超快脉冲激光技术超快脉冲激光技术是一种应用于光刻机的先进技术，它可以实现高精度的微纳米级图案制作。
本文将介绍光刻机中超快脉冲激光技术的原理、应用以及对光刻技术的影响。
一、超快脉冲激光技术原理超快脉冲激光技术是指激光脉冲宽度在飞秒（10^-15秒）或皮秒（10^-12秒）级别的激光技术。
相较于传统的纳秒激光技术，超快脉冲激光具有更高的功率密度和更短的脉冲宽度。
超快脉冲激光是如何实现的呢？其主要原理是通过使用特殊的激光器和光学元件来产生和调制超快脉冲。
首先，通过使用飞秒激光器和光纤放大器等设备，可以产生具有飞秒级别脉冲宽度的激光。
接下来，通过使用非线性晶体和光学调制器等光学元件，可以调制激光光束的相位和幅度，将其转变为超快脉冲激光。
二、超快脉冲激光技术在光刻机中的应用超快脉冲激光技术在光刻机中有许多应用。
首先，它可用于制造微细结构，如光栅、微透镜等。
超快脉冲激光的短脉冲宽度和高功率密度使其能够实现高分辨率的微纳米级图案制作，从而满足现代微电子和光电子器件的制造需求。
其次，超快脉冲激光技术还可以应用于三维微纳米结构的制造。
通过使用超快脉冲激光可以实现高精度的局部加工，从而在材料的体积中制造出微纳米级的通道、结构等。
这项技术对于微纳米流体芯片、光子晶体等领域具有重要的应用价值。
此外，超快脉冲激光技术还可以用于光刻机的微纳米级图案测量和检测。
通过使用激光干涉技术和散射光谱技术，可以对光刻机制作的微细结构进行精确的测量和检测，从而保证产品的质量和性能。
三、超快脉冲激光技术对光刻技术的影响超快脉冲激光技术的应用对光刻技术产生了深远的影响。
首先，它提高了光刻机的分辨率和精度。
由于超快脉冲激光具有更短的脉冲宽度，可以实现更高的图案分辨率，从而使得微米级和纳米级图案的制作成为可能。
其次，超快脉冲激光技术提高了光刻机的加工效率。
由于超快脉冲激光的高功率密度，可以在很短的时间内完成图案的制作。
这不仅提高了生产效率，还降低了制造成本。
光干涉测量几何长度的不确定度研究
光干涉测量几何长度的不确定度研究摘要：不确定度是计量学中的一个非常重要的概念，它的定义是用来表征合理地赋予被测量之值的分散性，与测得值相联系的参数。
我们都知道，测量必然存在误差，因此就不难理解不确定度是用来表示所给出的测得值的可靠程度，是体现测得值水平的一个重要指标。
同一个参量，实验室所给出的不确定度越小，表明测得值越接近真值，实验室的测量水平和质量越高。
随着科学技术的进步，测量水平越来越高，市场上出现的测量仪器也越来越精密，对测量的要求也越来越高，促使计量工作者对不确定度的理解和应用不得不加以重视。
关键词：光干涉测量；几何长度；不确定度引言因为激光具备高度单色性、高强度以及及高方向性等优势，所以在当前市场中推广的多类激光干涉仪可以与反射镜、折射镜等积极配合来测量平行度、垂直度以及速度等信息，既属于精度测量工具，又属于测量仪器的校正仪器。
1激光干涉仪的基本原理激光干涉仪实际工作的过程，激光器发出的激光通过分光镜形成两束光，一束直接照射到固定反射镜上出现参考光束，一束直接射到移动反射镜中产生测量光束，随后通过分光镜汇合后干涉。
若两束光相位相反，出现暗条纹；若相位相同则出现明条纹。
测量光路长度出现改变后，干涉光束的相对相位出现改变，将反射镜每移动一个波长的距离即会产生一个明–暗–明的光强度循环，依靠公式进行计算能够准确测量移动，从而了解机床的位置精度。
对数控机床直线运动精度进行检测的过程中，把移动反射镜固定于机床导轨上并和导轨同时运动，对回转运动精度进行检测的过程中，角度反射镜相对角度干涉镜的旋转会导致两束光的光程出现变化，从而计算得到被测角度值。
具体的检测步骤如下：（1）对激光器系统进行设置以做好线性测量准备；（2）确保激光束和机床的运动轴保持准直；（3）启动自动环境补偿功能同时保证在软件中输入准确的材料膨胀系数；（4）对机床线性误差实施测量和记录；（5）对采集的数据信息实施综合分析。
2 单双频激光干涉仪的概述2.1单双频激光干涉仪经过激光器发射出来的光束，在扩束准直以后，将会从分光镜处变成两路，而后会根据固定与可动的反射镜回到分光镜中，并由此得到干涉条纹。
激光全息防伪技术简介讲解
激光全息防伪技术简介激光防伪技术包括激光全息图像防伪标识、加密激光全息图像防伪标识和激光光刻防伪技术三方面。
一、第一代激光防伪技术第一代激光防伪技术是激光模压全息图像防伪标识。
全息照像是由美国科学家伯格（Ｍ• Ｊ• Ｂｕｅｒｇｅｒ）在利用X射线拍摄晶体的原子结构照片时发现的，并与伽柏（Ｄ• Ｇａｂｅｒ）一起建立了全息照像理论：利用双光束干涉原理，令物光和另一个与物光相干的光束（参考光束）产生干涉图样即可把位相“合并”上去，从而用感光底片能同时记录下位相和振幅，就可以获得全息图像。
但是，全息照像是根据干涉法原理拍摄的，须用高密度（分辨率）感光底片记录。
由于普通光源单色性不好，相干性差，因而全息技术发展缓慢，很难拍出像样的全息图。
直到６０年代初激光出现之后，其高亮度、高单色性和高相干度的特性，迅速推动了全息技术的发展，许多种类的全息图被制作出来，全息理论得到很好的验证，但由于拍摄和再现时的特殊要求，从诞生之日起，就几乎一直被局限在实验室里。
70年代末期，人们发现全息图片具有包括三维信息的表面结构（即纵横交错的干涉条纹），这种结构是可以转移到高密度感光底片等材料上去的。
１９８０年，美国科学家利用压印全息技术，将全息表面结构转移到聚酯薄膜上，从而成功地印制出世界上第一张模压全息图片，这种激光全息图片又称彩虹全息图片，它是通过激光制版，将影象制作在塑料薄膜上，产生五光十色的衍射效果，并使图片具有二维、三维空间感，在普通光线下，隐藏的图像、信息会重现。
当光线从某一特定角度照射时，又会出现新的图像。
这种模压全息图片可以像印刷一样大批量快速复制，成本较低，且可以与各类印刷品相结合使用。
至此，全息摄影向社会应用迈出了决定性的一步。
由于当时这种模压全息图片的制作技术是非常先进的技术，只有少数人掌握，于是就被用作防伪标识。
其防伪的原理是：1. 在激光全息图片拍摄的整个过程中，如果有一项条件不同（如拍摄彩虹全息的条件），则全息标识的效果就会有差异。
光的干涉和衍射的工程应用
光的干涉和衍射的工程应用光的干涉和衍射是光学中重要的现象，它们在工程应用中发挥着关键作用。
干涉和衍射现象广泛应用于光学仪器、光信息传输、光学测量等领域，下面将介绍一些典型的工程应用。
1. 干涉仪光的干涉现象被广泛应用于干涉仪中。
干涉仪根据两束光的干涉现象实现测量、检测或干涉实验。
其中，迈克尔逊干涉仪和弗裘氏干涉仪是最常见的两种干涉仪。
迈克尔逊干涉仪利用干涉现象实现长度测量和光学元件测试，而弗裘氏干涉仪则用于相对长度测量，比如表面形貌测量。
2. 衍射光栅光栅是一种能够产生衍射现象的光学元件，它被广泛应用于光谱学、光通信等领域。
光栅中的平行光束通过衍射现象形成不同角度的衍射光束，从而实现光谱分析和波长选择。
光栅在光通信中的应用包括波分复用、光谱分析等。
3. 干涉涂层干涉涂层是在光学元件表面制备的一种具有特定反射和透射特性的涂层。
通过对光膜层间的厚度和折射率进行精确控制，干涉涂层可实现光的干涉现象，从而达到优化光学元件的目的。
干涉涂层在光学镜片、滤光片、反射镜等元件上被广泛应用，以提高光学元件的透射性能和反射效率。
4. 激光干涉仪激光干涉仪是一种利用激光光束进行精密测量的仪器。
激光光束的相干性使得激光干涉仪具有高精度和高分辨率的特点。
激光干涉仪常用于光学工程中的长度测量、光学元件质量检测等应用。
例如，激光干涉仪在半导体制造中被广泛应用于测量光刻机的焦距、测量半导体芯片的平整度等。
5. 衍射光散斑成像衍射光散斑成像是一种利用光的衍射现象实现图像重建的技术。
通过将光束照射到一个衍射光栅上，产生一系列衍射光斑，再通过适当的成像系统，实现对物体的高分辨率成像。
衍射光散斑成像在显微镜、望远镜、光学雷达等领域具有广泛的应用。
总之，光的干涉和衍射现象在工程应用中发挥着重要的作用。
通过合理利用干涉和衍射原理，可以实现光的测量、成像、分析和相关设备的优化等目标，推动了光学工程领域的不断发展与创新。
通过不断深入研究和应用，我们相信光的干涉和衍射现象将在更多领域展现出令人惊叹的应用潜力。
_光刻技术与工艺
实验九光刻技术与工艺一、实验内容与目的本实验通过光刻技术与工艺的学习，初步掌握制造微细图案的基本原理与技术工艺。
二、实验原理1.光刻原理自从1959年光刻技术（photolithography）诞生以来，它已成为微米和纳米制造领域里最成功和成熟的一项技术，迄今为止世界上所有的大规模集成电路如电脑的处理器、存储器等均是通过这一技术工艺生产制造的，近年来又成为平板显示器如液晶、等离子显示器生产的关键技术。
光刻技术是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光光源的照射或辐射，使光刻胶的溶解度发生变化，经显影等过程，在光刻胶上形成微细图案，并通过等离子刻蚀、金属蒸镀等后续工艺将所需要的微细图形转移至待加工的衬底上，最终获得半导体器件。
集成电路在制造过程中经历了材料制备、掩膜、光刻、清洗、刻蚀、掺杂、化学机械抛光等多个工序，其中尤以光刻工艺最为关键，决定着制造工艺的先进程度。
随着集成电路由微米级向纳米级发展，光刻采用的光波波长也从近紫外区间的436nm、365nm波长进入到深紫外区间的248nm、193nm波长。
目前大部分芯片制造工艺采用了248nm和193nm技术。
光刻工艺是选用一定的曝光波长的光和适当的光致抗蚀剂，通过光刻掩膜版在薄膜或衬底材料表面进行有选择性的曝光成像，从而获得所需要的微细几何图形。
2.光刻工艺在微电子与光电子等微型器件的制备中，虽然各自光刻的目的要求和工艺条件有所差别，但其基本工艺过程是相同的，一般都要经过衬底清洗，涂胶，曝光，显影，坚模，腐蚀和去胶等工艺步骤。
由于光刻的环境和步骤对光刻质量有直接影响，因此必须严格按照工艺要求进行，使刻蚀出来的图案重叠精度高，清晰，没有钻蚀，毛刺，针孔和小岛等缺陷。
小面以正性光刻胶为例，说明在单晶硅衬底上的SiO2薄膜表面通过光刻工艺制备微细光刻图形，具体的光刻工艺流程包括八个步骤：衬底准备与清洗、镀膜；涂胶；前烘；曝光；后烘；显影；坚膜；检测。
光学基础知识光的干涉和衍射的应用
光学基础知识光的干涉和衍射的应用光的干涉和衍射是光学中重要的现象和现象应用。
干涉是指两个或多个光波相互叠加而形成干涉图样的现象，衍射是指光通过障碍物或物体边缘时发生弯曲和扩散的现象。
在实际应用中，光的干涉和衍射被广泛运用于光学仪器、光学测量、光学存储和光学通信等领域。
一、光的干涉的应用光的干涉应用广泛，以下列举了一些常见的应用：1. 干涉测量：光的干涉可用于测量非常小的位移、长度和形状等参数。
例如，著名的薄膜干涉仪通过测量干涉条纹的变化来获取待测物体的变化信息。
干涉测量在工程、科学和医学领域具有重要的应用价值。
2. 干涉显微镜：干涉显微镜利用光的干涉原理，可以提供比传统显微镜更高的分辨率和对透明样本更好的成像效果。
干涉显微镜在生物医学研究中有广泛的应用，可以观察到细胞、细胞器和微小结构等。
3. 干涉滤波器：干涉滤波器是一种通过光的干涉效应来实现波长选择性的光学器件。
它能够选择性地传递或抑制特定波长的光，用于光学通信、光谱分析和显微成像等领域。
4. 涡旋光：产生干涉的偏振光与普通偏振光不同，被称为涡旋光。
涡旋光的应用较为特殊，如在光学通信中可以提高光信号传输的容量和距离。
5. 光学天文学：干涉仪和干涉观测技术在光学天文学中具有重要地位。
通过干涉仪观测星光的干涉图样，可以研究恒星的表面特征、行星的运动和宇宙中的星系等。
二、光的衍射的应用光的衍射也有着广泛的应用，以下是一些主要的应用领域：1. 衍射光栅：衍射光栅是一种通过光的衍射原理来实现光波分析和光谱测量的重要光学元件。
它广泛应用于光谱仪、光学测量仪器以及激光科学和技术中。
2. 衍射成像：衍射成像技术通过光的衍射原理实现高分辨率的成像效果。
例如，X射线衍射成像被广泛应用于材料科学、生物医学和纳米技术领域。
3. 衍射透镜：衍射透镜是一种利用衍射效应设计的特殊透镜，它可以实现超分辨率成像、增加焦深和减小像差等优点。
衍射透镜在显微镜、激光工艺和光学传感器中具有重要的应用。
光学光刻技术
光学光刻技术一、光学光刻光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。
限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
因为这个原因，开发新型短波长光源光刻机一直是各个国家的研究热点。
除此之外，根据光的干涉特性，利用各种波前技术优化工艺参数也是提高分辨率的重要手段。
这些技术是运用电磁理论结合光刻实际对曝光成像进行深入的分析所取得的突破。
其中有移相掩膜、离轴照明技术、邻近效应校正等。
运用这些技术，可在目前的技术水平上获得更高分辨率的光刻图形。
20世纪70—80年代，光刻设备主要采用普通光源和汞灯作为曝光光源，其特征尺寸在微米级以上。
90年代以来，为了适应IC集成度逐步提高的要求，相继出现了g谱线、h谱线、I谱线光源以及KrF、ArF等准分子激光光源。
目前光学光刻技术的发展方向主要表现为缩短曝光光源波长、提高数值孔径和改进曝光方式。
二、移相掩模光刻分辨率取决于照明系统的部分相干性、掩模图形空间频率和衬比及成象系统的数值孔径等。
相移掩模技术的应用有可能用传统的光刻技术和i线光刻机在最佳照明下刻划出尺寸为传统方法之半的图形，而且具有更大的焦深和曝光量范围。
相移掩模方法有可能克服线/间隔图形传统光刻方法的局限性。
随着移相掩模技术的发展,涌现出众多的种类,大体上可分为交替式移相掩膜技术、衰减式移相掩模技术；边缘增强型相移掩模,包括亚分辨率相移掩模和自对准相移掩模；无铬全透明移相掩模及复合移相方式(交替移相+全透明移相+衰减移相+二元铬掩模)几类。
尤其以交替型和全透明移相掩模对分辨率改善最显著,为实现亚波长光刻创造了有利条件。
全透明移相掩模的特点是利用大于某宽度的透明移相器图形边缘光相位突然发生180度变化,在移相器边缘两侧衍射场的干涉效应产生一个形如“刀刃”光强分布,并在移相器所有边界线上形成光强为零的暗区,具有微细线条一分为二的分裂效果,使成像分辨率提高近1倍。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
在 我们现在 的工业生产 与 日常生活 当中， 太 阳能电池在诸 多领 域已经付诸 实践。太 阳能 电池主要是利用光 电效应或者是化 学效应 的作 用 ，将光能直接转换成 电能的一种 设备 。大多 数 的普通硅太 阳能 电池密度都超过数 百 三 角 的形 状 ， 因此 为
有 了更好 的要 求。但 光刻 物 镜数
值孔径 （ Ｎ Ａ ）和 曝 光 波 长 （ ） 在 一定程 度 上 限制 光 学光刻 的分 辨极 限。作 为一 项新 兴光 刻技 术 的 激光 干 涉光 刻，不 仅设 备价 格 较低 、结 构 简单 ，而且 工 作 效率 高、 分辨 率 高、 大视 场 曝 光、无
的应 用 到 太 阳 能 电池 生 产 过 程 当 中 。
４结谙 现 在 是科学 技术 的 时代，科 技 发展 的速 度 一 日千里，如何才 能让生产方法更加高效、 高速 ，与此 同时还 能有效降低成本，这是很多 人需要 重点考虑 的问题。虽然激 光干涉 光刻技 术在处理亚微米周期 结构 以及微米 方面 ，已经 有着悠久 的历史 ，但 实际上 ， 目前我 国还 正值 于研究性实验 的阶段之 中，然而 ，很 多工 业化 的生产还没有发展成熟 ，不 能得到广泛 的大规
众 多 专 业 领 域 的 研 究 学 者 进 行 刻 苦 的 思 考 与 深
同介 电常数 的介质材料在 空间呈现周期性排 布 刻的研 究，在 不久的未来，激光干涉技术将会
晶体应用得到普及且实用 ，例如在人们平 时生 活 中用到 的天线 、滤波器 、分束器 以及放大器 等 ，在光子晶体 的制作 当中，有着非常广泛 的
Ｘ ／ ４的 水 平 ， 还 具 有 大 焦 长 深 、 图 形 对 比度 较
一
３ ． １在光子 晶体 中的应用 在２ ０世 纪 ７ ０年代 ，Ｙ ｂ ｌ ｏ ｎ ｏ ｖ ｉ ￣ ｈ等人 第
次 提 出光 子 晶体 这 个 全 新 的概 念 ， 也就 是 不
光刻技术的前进方向 。虽然现在激光干涉技术 在生产 与应用当中都存在部分问题，但是经过
维或者二维的结构 。
３激 光干涉光刻的应用
激 光干 涉光 刻技 术现 在 已经经 过 了初级 的发 展阶段，在很多领域当 中都 己经得到 了非 常广泛 的应 用。经过研究，激光干涉光刻技术 已经在 纳米 结构 的生 产 当中得 到 了广泛 的应 每个人 的 日常生活 当中，纳米结构都有着非常 子 、生物技术 、传感技术等诸 多领 域的发展在 很大程度上都是取 决于纳米 结构制造技术 的发 展水平 。干涉光刻作为一项 比较可靠 的图形产 生技术 ，不但 ＣＤ控 制具有优 良的性能 ，而且 其工艺宽容度与传统一般相 比也较大 ，还 能够 产生具有陡的侧壁、大的深 宽比和深亚微米尺 寸的抗蚀剂结构阵列 图形 ，这样 的形状结构在 图形转移和器件制造过程当 中都能够有非常高 效的得到利用。与其他的一般技术相 比较 ，在 大视场 内，干涉光刻能够非常有效的使每个地 方都达 到深亚微米 、 甚至纳米级的较高分辨率 ，
了能够提高太阳能 电池的频率 ，在进行生产这 种电池的时候 ，往往都会在硅片表面添加一层 增透 膜，以用来减小表面的反射率 。硅太阳能 电池制备过程中的 电子束光刻、纳米印制光刻 技术 都存在 着工艺复杂不易操作、价格高 昂市 点。所 以，这些年 以来 ，专 家们 已经开 始思考
畸变 、焦长深等许 多独特之处 ，
Ｐ ｏ ｗｅ ｒ Ｅ ｌ ｅ ｃ ｔ ｒ ｏ ｎ ｉ ｃ ｓ ・ 电力 电子
激 光干涉光刻技术的分析
文／ 王 友 旺 鹿 凯
其 中：Ｉ Ｏ为 入 射光 强 度，而 ｘ为干 涉 点 在微 细加 工和 集成 电路 （ Ｉ Ｃ） 制 造 当中，光 学光刻 技 术是 毋庸 置疑 的主 流技术 。现在 的 Ｉ ｃ 集成 度 越 来越 高，这 就对 光 刻分 辨 力 到入射之间的长度 ： 对于 入 射角 大小 的改 变、频 率、控 制曝 光量，都能对形状 、周期 以及高度 的不 同产生
学技术进行相结合进行研究 ，这不仅是很 多国
内外 众 多 研 究 学 者 今 后 的 工 作 方 向 ，更 是 未 来
年代 的时候 ，戈登 ・ 摩尔发表 关于计算机存储
器发展趋 势的专业研究报告 。报告指 出，平均 每十八 到二十四个月，芯片容量大 ，且时 间逐 渐缩短 。 而光 刻技术 的发展 水平在 集成 电路 （ Ｉ Ｃ ） 工艺水平 的发展进程 中占据重要地位 。 光刻技术 一般 具有比较复杂的 曲面光学元件 ， 而新兴激光光 刻技术作为现代科学光刻技术 的 补充 ， 其 设备并不复杂，系统也相对较为简单 ， 但有着极高分辨 率，其 分辨 极限已经能够达到
模 应 用 。把 激 光 干 涉 光 刻 技 术 与 其 他 的先 进 科
【 关键词 】激光技术 激光干涉 干涉光刻技术
１ 引 言
在 我们 的 日常 生活 当 中， 电子 产 品越 来 越 多，我们所熟悉的手机 、电脑等 电子器件 当
中有着 数量众多的微 电子产 品，而微 电子技术 而 且还 具有无限的焦深，这些优点都与制作场 是 信息技术发 展与前进 的根 基。在 ２ ０世纪 ６ ０ 发射显示器 的要求相符合 。
分辨极限更是达到 了 ／ ４ 的水平 ， 在微 细加 工、 大屏幕 显 示 器、微 电子 和 光 电 子 器 件 、亚 波 长 光 栅 、 光子 晶体 和 纳米 图形 制造 等相 关 领 域 有很 好 的应 用，极 大拓 展 了 这些领 域在 未来的进步空间。
用 。不 论在 大规模 的工业生产当中还是在我们 场 营销 困难 、生产 效率低 下无法 规模经 营等缺 广泛 的应用 ，被许 多人所 熟知的微 电子、光电 通过一种可行 的方式将激光干涉光 刻技术 有效