场发射扫描电镜各厂家对比表(1)
扫描电镜哪家好
扫描电镜哪家好
扫描电镜较好的厂家有北京达昱科仪科技有限公司、郑州予达仪器科技有限公司、上海荣皋激光学元件有限公司、复纳科学仪器上海有限公司、上海机电科技有限公司。
1、郑州予达仪器科技有限公司
郑州予达仪器科技有限公司是重点开发、生产、销售、生物化工仪器、药厂制药仪器、科研教学仪器的专业生产厂家。
主营产品：高压反应釜，玻璃反应釜，无油隔膜真空泵。
业务范围：化工成套设备。
2、上海荣皋激光学元件有限公司
荣皋激光下设有：特种精密加工部、光学部、激光设备及配件部、激光礼品部。
上海荣皋激光成立于2000年，公司内部的技术人员全为高级工程师，主营产品：0.01微孔加工，激光刻字加工打标，不锈钢微孔加工。
业务范围：其他仪器仪表。
3、复纳科学仪器上海有限公司
专业研发并生产Phenom（飞纳）系列台式扫描电镜。
Phenom（飞纳）台式扫描电镜具有45，000×放大倍数，10秒快速抽真空，Phenom（飞纳）台式扫描电镜的一系列产品及相关领域的配件，可应用于材料科学、纳米颗粒、生物医学、纺织纤维、地质科学等诸多领域。
4、上海机电科技有限公司
机电产品领域内的技术开发、技术咨询，机电产品及配件的安装及维修，销售仪器仪表及配件、自动化控制设备及配件、电线电缆、电子产品、家用电器、五金交电、电脑及配件、金属材料、汽车配件、化工产品。
5、北京达昱科仪科技有限公司
公司主要从事电子显微镜以及半导体行业的相关耗材及设备买卖及技术支持。
同时也合作开发及代理了各种实验室仪器设备（清洗机系列，电炉系列，干燥箱系列、电子天平等）、医疗设备、化学试剂、光掩模BLANK、LED产品、与设备翻修服务。
场发射环境电镜配置及技术规格表
场发射环境扫描电镜配置及技术规格表附件1：货物需求一览表––样品台移动重复精度:2ｕm(X／Y方向）––样品室尺寸：≥250mm；兼容性高,预留EＤS、EBSD、波谱仪以及其他标准扩展接口。
１．６检测器––高真空模式，E-Ｔ二次电子探头;––低真空模式，大视场低真空气体二次电子探头(LFD)––环境真空下模式,气体二次电子探头（GSEＤ）––高灵敏度，低电压固体背散射电子检测器––样品室红外CCD相机1.７图像处理器––图像处理：最大４０96×35３６像素––图像文件格式:ＴIFＦ(8位或16位），ＢMP或JＰEG ––单窗口或四窗口图像显示，四活动窗口,实时或静态按彩色或按灰度等级信号混合。
––256帧平均或积分，数字动画记录––基于以太网架构的数据传输系统;––Iｎtel双核控制和操作计算机系统，Ｗindoｗs7操作系统;中央处理器：CPU：Iｎｔel酷睿i7 4．0GHz。
内存：4G;独立显卡，2Ｇ显存;界接口：串行、并行、SCＳI、USB 3。
０接口、网络;硬盘1 TB;DVD刻录；––软件平台适用于Ｗindｏws７操作系统––显示器：24寸LＣＤ显示器1。
8 真空系统––涡轮分子泵２５０ｌ/ｓｅｃ和2个离子泵，两个无油机械泵;––“穿过透镜”的压差真空系统，低真空模式下抽气区域不少于３个;––样品室真空度：高真空模式下＜６×10—4Ｐａ，低真空模式下〈10～1３0Ｐa，环境真空模式下<10～４０00Pａ１。
9 冷却系统––配有循环水冷却器1.１０其他配件或易损件––配置相关配件或易损件(备用灯丝＋光阑3套）。
２附件2．1 X射线能谱仪(ＥDS）１)探测器––探头类型：电制冷硅漂移(ＳDＤ)探测器，采用场效应管（ＦEＴ)集成设计的高速SＤD芯片,有效探测器面积≥30mm２––能量分辨率:在100，０00ＣPＳ条件下Mn Ka保证优于１29ｅV，轻元素分辨率：Ｃ—K／５７eV，Ｆ—K／67eV––单一处理单元能同时支持两个及多个探测器––测定元素范围：4号元素硼Be到95号元素镅Am––2)能谱仪及图像系统––能谱仪处理单元与计算机采用分立式设计,完整的能谱定性定量系统，带图像系统，能进行线面扫描;––电子数字图像最大清晰度:8１９2×６4０0；––全谱智能面分布图清晰度409６＊40９6,单探测器输出最大计数率大于600，0００CPS,可处理最大计数率大于1,5０0,000CPS。
中心场发射扫描电镜JSM-7500F使用登记表
实验中心场发射扫描电镜（JSM-7500F）使用登记表
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
*为必填项目请在相应项□上打“√”。
注：1．预约人须知：预约人需完整填写表2，表1中不填写测试日期、样品数、使用机时数、喷碳及镀金的次数、测试参与人签名。
请提前一周预约登记，电子版登记表发送到：cheny66@，电镜室将根据预约登记情况和仪器状况合理按排测试时间并提前一天通知预约人。
2．测试须知：测试参与人在测试时需提交纸质登记表，表1和表2中须有导师亲手签名。
由于测试时间和样品数在测试时可能有所变动，结算时以表1为准。
3．样品要求：（1）粉末样品：为避免粉末脱落，粒径需小于1μm，样品可滴在硅片等表面。
（2）样品须自行制样处理，如需技术指导，请在预约时咨询。
（3）使用水分散的粉末样品请提前一天制样并在干燥箱中干燥保存。
（4）拒绝接受磁性、放射性、挥发性、不符合生物安全标准及不耐电子束轰击类样品。
场发射扫描电镜及能谱仪的使用实验报告(一)
场发射扫描电镜及能谱仪的使用实验报告(一)场发射扫描电镜及能谱仪使用实验报告实验目的1.了解场发射扫描电镜及能谱仪的基本原理和使用方法；2.熟悉场发射扫描电镜及能谱仪的操作流程；3.掌握利用场发射扫描电镜及能谱仪对样品进行表征的技能。
实验器材1.场发射扫描电镜及能谱仪；2.样品；3.电脑。
实验步骤一、准备工作1.打开电脑，登录操作系统；2.打开场发射扫描电镜及能谱仪的相关软件；3.将样品放置在台面上，并对其进行定位和调整。
二、场发射扫描电镜成像1.点击场发射扫描电镜软件界面上的“成像”按钮；2.调整样品位置和姿态，确保取得清晰的图像；3.根据需要进行调整，如放大、缩小、改变灰度等。
三、能谱仪分析1.点击能谱仪软件界面上的“能谱分析”按钮；2.设置分析参数，如电子束的加速电压、电子束的工作距离、收集角度等；3.等待采集数据，得到样品的能谱图；4.根据能谱图进行分析和判断，如分析样品的成分元素和结构等。
四、关闭仪器1.关闭软件界面；2.关闭仪器的主电源；3.给样品台面等部件进行清洁。
实验结果通过场发射扫描电镜及能谱仪的使用，我们成功得到了样品的形态、结构特征以及成分等信息。
实验结果表明，场发射扫描电镜及能谱仪是非常重要的材料表征手段，对于材料的表征、研究和开发具有非常重要的作用和意义。
实验总结1.场发射扫描电镜及能谱仪的操作流程相对简单，但在实验操作时需要非常注意；2.实验中需要格外注意操作的安全性和环境的卫生；3.实验结果的可靠性需要通过多次实验进行验证；4.实验工作需要团队合作，大家需要相互配合协作，以确保取得预期的实验结果。
实验注意事项1.实验者需要对仪器有一定的了解，以免操作不当造成设备损坏或人身伤害；2.实验时需要保持实验场地的卫生，避免样品受到污染；3.实验数量不能过多，要保证每次实验充分利用设备和样品；4.实验时需认真遵守实验室安全操作规程，不得离开实验室；5.实验结束后，需仔细清洁实验场地和仪器。
场发射环境扫描电镜 - 北京大学实验室与设备管理部
Nano Lett.
2011
11
734-739
知名 用户 共 享 信 息 备 注 是否对 外开放 联系人
陈清，彭练矛，徐洪起，李彦，黄如，王玮，陈兢，清华大学郑泉水，魏飞等 是 魏贤龙 服务 对象 电子 邮件 本校教学科研 weixl@ 收费 标准 联系 电话 62755317 校内350元每小时 开放 时间 每周数天
973， 863， 国家自然科学基金
有专利多项 毕业有多名博士生和硕士生 三年内利用该仪器作为主要科研手段发表学术论文（三大检索） 10 序号 作者（前三名） 论文题目 篇，其中代表论文： 期刊名 年 卷（期） 起止页码
1
X. L. Wei， D. Golberg， Q. Chen
Phonon-assisted e Nhomakorabeaectron emission from individual carbon nanotubes
场发射环境扫描电镜
院系：信科学院
仪器 编号 制造商 国别 经费 来源 责任 教授
200912731 美国 211工程 陈清
所属 实验室 制造 厂商 单价 存放 地点
纳米器件物理与化学 教育部重点实验室 FEI 177.37万元 型号 FEI Quanta 600 购置 日期 2008年08月
理科2号楼2003
298
基 本 信 息
技术指 标及功 能简介
热场发射电子枪，5轴马达台，3个二次电子探 测器， BSE 检测器， 52 针电气接口，加速电压： 200V-30kV。高真空模式下30kV下分辨率1.2nm。
场发射环境扫描电镜 主要研 究方向 在研 或曾 承担 重大 项目 奖项 专利 人才 培养 相 关 科 研 信 息 学 术 论 文 材料表征
扫描电镜调研经验分享
扫描电镜调研及使用经验分享本人刚进入博士阶段，近期课题组买了一台台式场发射扫描电镜，整个过程纠结万分，现分享我们的经验以及各种扫描电镜的使用对比。
目前扫描电镜作为研究材料形貌的基础表征，每个组都会用的上，且使用频率很高，如果课题组没有，样品拿到外面测，还需要排队就很影响实验进度。
我的导师最近拿了一些不大不小的项目，经费还比较充足，于是让我调研一下扫描电镜的厂家，然后最终选择一家，购买一台。
我本科实验室有日立扫描电镜，当时自己没法上手操作，但是使用也是很频繁的；飞纳呢，由于我们在外面开会有看到了关于飞纳电镜的介绍；而日本电子是老牌扫描电镜公司，之前课题组去其他课题组拍摄电镜时所用的就是这个品牌，所以我们同样进行了调研。
这三家在上海都有办事处，于是我主要调研的是这三家。
最终我们买了飞纳的台式扫描电镜，当然不是主流老牌公司产品不行，而是我们结合自身实验室情况出发买了飞纳。
自我感觉买电镜有两个最主要的要点：买电镜要结合自身实验室的情况以及自己上手去操作扫描电镜的拍摄。
实验室制备的材料都是纳米级别的材料，所以基本上只考虑场发射的扫描电镜，场发射又分为冷场和热场，冷场扫描电镜清晰度要高于热场扫描电镜，当然也看实际需求。
对比过多个产品之后，最终锁定在日立S4800和SU5000、日本电子IT200以及飞纳Pharos，以下是部分产品的图（S4800比其他的贵太多了，很早就被导师给毙掉了，给大家做个参考吧）：样品：S4800的是冷场扫描电镜，其他的是热场扫描电镜。
清晰度上来说的话，冷场扫描电镜确实要占优，而且，S4800拍摄拥有立体形貌的样品能用BSD模式拍出较为立体的形貌。
当然我们去实地考察后发现，其实这几个电镜拍出的照片都很清晰，S4800就只是略胜一筹（这个图丢失了，但是大抵上也如此）。
实验室情况：我们实验室主要研究的都是二维片层材料，这些照片的清晰度我们都是可以接受的。
测试：除了拍摄材料形貌图片以外，当然缺不了检测，如EDS等。
扫描电镜要点总结(蔡司Gemini450电镜各模式和探头使用参数介绍)
扫描电镜要点总结（蔡司Gemini450电镜各模式和探头使用参数介绍）扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope, SEM）是一种高分辨率的显微镜，能够通过扫描样品表面的电子束来获取高清晰度的图像。
蔡司Gemini 450是一种常见的扫描电子显微镜，拥有多种模式和探头，下面将对其各模式和探头的使用参数进行介绍。
1.高真空模式：-工作距离：3-20毫米之间可调。
-放大倍率：高达1,000,000倍。
-检测器：二次电子检测器、能量分散X射线（EDX）探测器等。
高真空模式适用于大多数样品，特别是金属、半导体等导电材料。
该模式下的电子束会扫描样品表面，从而产生二次电子图像。
EDX探测器可用于进行元素成分分析。
2.低真空模式：-气压范围：从10到130帕斯卡（Pa）。
-工作距离：5-25毫米之间可调。
-放大倍率：高达100,000倍。
低真空模式适用于非导电材料以及生物样品等需要避免高真空环境的样品。
低真空模式下，可以使用水冷样品冷凝器来减少样品的水膜蒸发。
3.非接触模式：-工作距离：约为30微米。
-放大倍率：高达100,000倍。
非接触模式使用非接触方式扫描样品表面，减少了对样品的损伤。
它适用于对样品表面要求严格的情况下，如软性材料或纳米材料等。
4.电子背散射模式：-工作距离：约为3毫米。
-放大倍率：高达300,000倍。
电子背散射模式用于观察样品的表面形态和材料本身的晶体结构。
通过背散射电子来获取高对比度的图像。
探头是扫描电镜中十分重要的组成部分，蔡司Gemini 450电镜提供了多种探头供选择，具有不同的特点和应用范围。
1.热阴极电子枪：-适用于常规高真空模式下的成像。
-具有较高的亮度和小的发射面积。
2.场发射电子枪：-适用于较低真空模式下的成像。
-具有更小的亮度和更小的发射面积。
3.高抛射场发射电子枪：-适用于非接触模式。
-具有更大的发射面积，可以提供更高的电子流，为非接触模式下的成像提供更好的性能。
蔡司场发射优势
蔡司热场扫描电镜技术优势世界可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。
其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥）和Zeiss。
积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一：y第一台静电式透射电镜 (1949)y第一台商业化扫描电镜 (1965)y第一台数字化扫描电镜(1985)y第一台带有成像滤波器的透射电镜 (1992)y第一台场发射扫描电镜(1990)y第一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜(2003)y第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)ZEISS 场发射扫描电镜特点ZEISS 电镜为肖特基（Schottky）热场发射扫描电镜主要有如下特点：1，电子束噪声较小，<1%。
2，束流稳定度高，优于0.2%/h，适宜于长时间的各种精确分析。
上述两项指标其它厂家均未给出。
在理论上其他厂家比蔡司要差一个数量级。
3，同级别最高分辨率。
GEMINI镜筒--ZEISS场发射电镜由于其独特的镜筒设计（GEMINI镜筒），具有无以伦比的成像能力,无交叉光路设计,无Boersch（柏旭） 效应,大景深，分辨率高。
传统镜筒：右图在交叉点有 Boersch 效应电离量大镜筒变得很长对恶劣环境敏感Gemini 镜筒没有交叉点，Gemini 提供一个超短的光学系统，最重要的是没有亮度损失！特点¾高稳定热场发射电子枪（FEG）变化 < 0.5 % / h¾低电子束噪声 1 %¾无交叉电子束路径无 Boersch 效应,大景深4，低电压技术一直以来代表电镜的最高制造水平，ZEISS场发射电镜具有极好的低加速电压性能，采用 Beam booster （电子束推进器，蔡司专利） 确保在整个低电压 范围的极好图像分辨率，加速电压可低至20V，且在20V时具有较高的分辨率，从低电压低至20V至高电压30KV无需切换模式，其他厂家需要重新调整切换模式 。
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工作室： 样品室尺 330mm(φ)× 寸 270mm(h)
工作室： 330mm(φ)× 270mm(h)
5轴试样载物台： X=125mm Y=125mm 样品行程 Z=50mm T=0-90° R=360° (continuous)
5轴试样载物台： X=130mm Y=130mm Z=50mm T=-3-70° R=360° (continuous)
蔡司
品牌及型 号 光学系统 1.0 nm at 15 kV 1.8 nm at 1 kV 0.8 nm at 30 kV (Low-vacuum) 1.5 nm at 10 kV 1.8 nm at 3 kV ΣIGMA SUPAR40/40VP SUPAR55/55VP N00
分辨率
1.5nm@20KV 1.7nm@15KV 3.0nm@1KV 4.5nm@30KV(VP)
1.0nm@20KV 1.3nm@15KV 2.1nm@1KV 5.0nm@0.2KV 2.0nm@30KV(VP)
1.0nm@15KV 1.7nm@1KV 3.5nm@0.2KV 4.0nm@0.1KV 2.0nm@30KV(VP)
0.5 to 30 kV
0.1KV-30kV
冷场发射
冷场发射电子源
热场 1pA-100nA
冷场发射电子枪：10-8冷场发射电子枪 10-13到2X10-9 10-13到2X10-9
X：±3.5mm, Y: ±2.0mm; Z: ± 0.3mm, T: ±40°
l型: X: 0~50mm Y: 0~50mm Z:1.5~30mm T: -5~+70° R:360° 驱动:手动(可选3轴驱动) ll型: X: 0 ~110 mm Y: 0 ~110mm Z: 1.5 ~40 mm T: -5 ~+70° R: 360°驱动:PC机控制5 轴驱动
1.5 nm (1 kV) 1.0 nm (15 kV)
10-500K
25 to 1,000,000x
0.5KV-30kV
0.1 to 30 kV
热场 1pA到200nA
热场 1 pA to 200 nA at 15 kV
Type I X=70mm, Y=50mm Type II X=110mm, Y=80mm Type III X=140mm, Y=80mm
200 V – 30 kV 10—130Pa 热场 pA - 22 nA
200V – 30kV 10—130Pa 热场 0.3 pA - 22 nA
200V – 30kV 10—130Pa 热场 0.3 pA - 22 nA
4 pA to10 nA(20nA可选4 pA to10 nA(20nA可选 0.3
1.0 nm at 15 kV 1.8 nm at 1 kV 0.8 nm at 30 kV (Low-vacuum) 1.5 nm at 10 kV 1.8 nm at 3 kV
1.0 nm at 15 kV 1.8 nm at 1 kV 0.8 nm at 30 kV (STEM) (Low-vacuum) 1.5 nm at 10 kV 1.8 nm at 3 kV
样品台移 小于或等于 2 µm 小于或等于 2 µm 动精度
小于或等于 2 µm
日立
S-5500 S-4800 SU-70 JSM-6701F
日本电子
JSM-7500F
0.4nm (30kV) 1.6nm (1kV)
1.0nm(15KV.WD=4.0mm) 1.4nm (1 kV，减速模式) 1.6nm(1KV.WD=1.5mm,减速 1.0nm(15kV) 1.0nm (15kV) 模式) 2.2nm(1kV) 2.5nm(1KV.WD=1.5mm)
放大倍数 12—500,000x
12—900,000x 0.1-30KV/0.02 30 kV 2 - 133 Pa 热场
12—900.000x 0.1-30KV/0.02 30 Kv 2 - 133 Pa 热场
6～1,000,000X
6～1,000,000X
6～1,000,000X
加速电压 100—30KV 低真空压 力范围 电子枪 热场 探针电流 4 pA to 40 nA 范围 真空系统 真空泵系 统 真空度
5轴试样载物台： X = 130 mm Y = 130 mm Z = 50 mm T = -3 - 70° R = 360° (continuous)
5-axis motorized stage 4-axis motorized 5-axis motorized • Eucentric stage stage goniometer stage • Eucentric • Pseudo• X = 150 mm goniometer stage eucentric • Y = 150 mm • X = 50 mm goniometer stage • Z = 10 mm • Y = 50 mm • X = 100 mm • Clearance = max. • Z = 50 mm (25mm • Y = 100 mm 55 mm to eucentric motorized) • Z = 60 mm point • T = -15° - + 75 • T = -5° - + 70 • T = -10° to + 60 ° (manual, ° ° motorized optional) • R = 360° • R = n x 360° • R = 360° continuous • Minimum step: 100 continuous nm 2µm 2µm 1µm
Type I X=70mm, Y=50mm -5 to +70° Type II X=110mm, Y=80mm -5 to +60° Type III X=140mm, Y=80mm -5 to +60°
样品台控制 5轴马达控制 移动范围 X 0-110mm 样品台标配三轴马达 Y 0-110mm 却动，可选四、五轴 z 1.5-40mm 马达驱动 T -0.5O-+700 R 360O
日本电子
JSM-7001F 常规） JSM-7001F (常规） JSM-7600F
1.2nm(30kV) 3.0nm(1kV)
样品系统 • 284 mm left to right • 5 mm analytical 工作室：330 mm WD (Ø) x 270 mm (h) • 8 ports • EDX take-off angle: 35 deg • 284 mm left to right • 5 mm analytical WD • 8 ports • EDX take-off angle: 35 deg • 379 mm left to right • 5 mm analytical WD • 21 ports • EDX take-off angle: 35 deg
1.0nm(15kV) 1.4nm(1kV)
60X ~ 10,000X (低倍模 式) 800~2,000,000X （高倍模式） 0.5－30kV
20~ x 800,000
低放大倍数模式 202,000x 高放大倍数模式 100800,000x 0.5-30KV
25-650K
25-100万倍
0.5－30kV