半导体黄光制程
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接觸式(Contact)曝光法
光罩與晶片表面彼此是接觸
的，故光罩與晶片上的圖案的
比例為1:1。
優點：解析度(Resolution)非
常好。
缺點：光罩表面將隨著曝光次
數增加而陸續沾上微粒
(Particles)。
往右
往左
往後
升
降
左傾
（2）x
往右
往後
升降
