氮化硅砖技术性能介绍及理化指标
氮化硅 深度
氮化硅深度1. 介绍氮化硅（Si3N4）是一种重要的无机材料，具有许多优异的性能。
它是由硅和氮元素组成的化合物，具有高硬度、高熔点、高耐热性和优良的电绝缘性能。
由于这些优点，氮化硅在许多领域得到了广泛的应用，如半导体、陶瓷、涂层和高温材料等。
2. 物理性质2.1 密度和晶体结构氮化硅具有高密度，其晶体结构类似于石英。
它是一种非金属材料，具有非常高的硬度和刚性。
这使得氮化硅在高温、高压和腐蚀性环境下具有出色的稳定性。
2.2 热性能氮化硅具有优异的耐热性能，可以在高温下稳定工作。
它的熔点约为1900°C，比许多金属和合金的熔点要高得多。
这使得氮化硅成为一种理想的高温材料，可以用于制造高温炉、耐火材料和高温电子器件等。
2.3 电性能氮化硅是一种优良的电绝缘材料，具有较高的介电常数和低的电导率。
这使得氮化硅在电子器件中具有重要的应用，如绝缘层、电介质和电隔离等。
氮化硅还具有优异的耐电弧击穿性能，可以防止电器设备因电弧而损坏。
3. 化学性质3.1 化学稳定性氮化硅具有良好的化学稳定性，可以抵抗酸、碱和其他化学物质的侵蚀。
这使得氮化硅在化学工业中有广泛的应用，如制造化学反应器、催化剂载体和化学传感器等。
3.2 氧化性尽管氮化硅具有较高的化学稳定性，但在高温下，它会与氧气反应生成二氧化硅。
这种氧化反应会导致氮化硅的性能下降，因此在使用时需要注意控制氧气的接触。
4. 应用领域4.1 半导体氮化硅在半导体行业中有广泛的应用。
它可以作为绝缘层、电介质和传感器等组件的材料。
氮化硅具有优异的电绝缘性能和耐高温性能，可以提高半导体器件的稳定性和可靠性。
4.2 陶瓷氮化硅具有优良的耐热性能和硬度，使其成为一种理想的陶瓷材料。
它可以用于制造高温炉、耐火材料和陶瓷部件等。
4.3 涂层氮化硅可以作为涂层材料，用于提高材料的耐磨性和耐腐蚀性。
它可以在金属表面形成坚硬的保护层，提高材料的使用寿命和性能。
4.4 高温材料由于氮化硅具有优异的耐热性能，它可以用于制造高温材料，如高温炉、耐火材料和高温电子器件等。
氮化硅陶瓷件的耐腐蚀性能及应用
氮化硅陶瓷件的耐腐蚀性能及应用氮化硅陶瓷件是一种具有优秀耐腐蚀性能的材料，广泛应用于各个领域。
本文将详细探讨氮化硅陶瓷件的耐腐蚀性能，并介绍其在不同应用中的优势和潜在的应用领域。
首先，我们来了解一下氮化硅陶瓷件的耐腐蚀性能。
氮化硅陶瓷件由氮化硅粉末通过热压烧结工艺制成，具有高硬度、高强度和优异的耐腐蚀性能。
该材料能够在酸、碱等多种腐蚀介质中长时间稳定使用，且具有较高的化学稳定性。
它不会受到氧化作用的影响，并且能够在高温环境下保持稳定的性能。
氮化硅陶瓷件的耐腐蚀性能使其在多个领域有广泛的应用。
首先，它在化工行业中应用广泛，可用于制造耐腐蚀的管道、阀门和储罐等设备。
氮化硅陶瓷件的耐腐蚀性使其能够在与各种化学物质接触的环境中长期使用，有效延长设备的使用寿命。
此外，氮化硅陶瓷件的高硬度和优异的磨损性能还使其适用于制造化工设备的密封件和液压元件，提高设备的密封性和使用寿命。
其次，氮化硅陶瓷件在电子行业中也有广泛应用。
该材料具有优异的绝缘性能和耐高温性能，因此可用于制造高压绝缘件、高温电热元件和半导体器件等。
其耐腐蚀性能使其不易受到电子元件中的化学物质腐蚀，从而保护电子元件的稳定性和可靠性。
同时，氮化硅陶瓷件的高硬度也增强了电子元件的机械强度，提高了元件的使用寿命。
此外，氮化硅陶瓷件还在医疗器械、航空航天、汽车制造等领域得到了广泛的应用。
在医疗器械方面，氮化硅陶瓷件可用于制造人工关节、牙科种植物和医用刀具等。
其耐腐蚀性能和生物相容性使其能够长期与人体组织接触而不引起任何不良反应。
在航空航天领域，氮化硅陶瓷件可用于制造高温引擎部件、导向叶片和磨损件等，因其耐高温性能和抗磨损性能而受到青睐。
在汽车制造领域，氮化硅陶瓷件可用于制造氮气传感器、发动机部件和排气系统等，提高了汽车的性能和可靠性。
总结一下，氮化硅陶瓷件具有优异的耐腐蚀性能，并在许多领域得到了广泛的应用。
其在化工、电子、医疗器械、航空航天、汽车制造等行业中的应用都展现了其独特的优势。
氮化硅 硬度
氮化硅硬度1. 简介氮化硅（Silicon Nitride，Si3N4）是一种陶瓷材料，具有优异的力学性能和热性能。
其中，氮化硅的硬度是其最显著的特点之一。
本文将对氮化硅的硬度进行全面详细、完整且深入的介绍。
2. 硬度定义在材料科学中，硬度是指材料抵抗外部力量产生塑性变形或划痕的能力。
通常使用不同的试验方法来衡量材料的硬度，如洛氏硬度、维氏硬度、布氏硬度等。
3. 氮化硅的洛氏硬度洛氏硬度（Rockwell Hardness）是一种常用于测量金属和非金属材料硬度的方法。
对于氮化硅这种陶瓷材料来说，由于其超高的抗压强度和刚性，传统洛氏钢球压入法并不适用。
为了解决这个问题，研究人员开发了新型洛氏针锥压入法。
该方法使用一个小尺寸、高强度和高刚度的针锥，通过测量压入深度来确定氮化硅的硬度。
经过实验研究，氮化硅的洛氏硬度约为1800-2200 kg/mm²，远高于大多数金属材料。
4. 氮化硅的维氏硬度维氏硬度（Vickers Hardness）是一种常用于测量金属和陶瓷材料硬度的方法。
相比洛氏硬度，维氏硬度更适用于测量高强度材料的硬度。
对于氮化硅来说，维氏硬度测试使用一个金刚石压头，在固定载荷下对样品进行压入，然后根据压入产生的印痕大小计算出维氏硬度值。
经过实验测定，氮化硅的维氏硬度约为1200-1600 kg/mm²。
5. 氮化硅的布氏硬度布氏硬度（Brinell Hardness）是一种常用于测量金属和非金属材料大尺寸样品的表面或截面硬度的方法。
然而，由于布氏钢球压入法在测量陶瓷材料时容易产生裂纹或破坏样品，因此不适用于氮化硅的硬度测试。
6. 氮化硅硬度的影响因素氮化硅的硬度受多种因素的影响，包括晶体结构、杂质含量、制备工艺等。
首先，氮化硅的晶体结构对其硬度具有重要影响。
氮化硅通常存在两种晶相：α相和β相。
其中，α相氮化硅具有更高的硬度，约为1800-2200 kg/mm²；而β相氮化硅的硬度较低，约为1200-1600 kg/mm²。
淀积氮化硅
淀积氮化硅：一种重要的材料制备技术一、引言在现代材料科学和技术中，淀积氮化硅（Silicon Nitride Deposition）已经成为一种重要的制备技术。
氮化硅，一种具有优异性能的陶瓷材料，因其出色的机械性能、热稳定性和化学稳定性而被广泛应用于微电子、光电子、机械、冶金等众多领域。
本文将详细介绍淀积氮化硅的原理、方法、应用和发展趋势，以期提升对这一重要技术的理解和应用。
二、氮化硅的特性氮化硅（Si3N4）是一种重要的工程陶瓷材料，它具有高强度、高硬度、耐磨损、耐腐蚀、高热导率、低热膨胀系数和良好的抗氧化性等特性。
此外，氮化硅还具有优异的电绝缘性能和良好的抗热震性能，因此被广泛应用于高温、高速、高应力等恶劣环境下的工程应用中。
三、淀积氮化硅的原理和方法淀积氮化硅是通过一定的化学反应或物理过程，在基体表面形成一层氮化硅薄膜的技术。
常见的方法包括化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）和等离子体增强化学气相淀积（PECVD）等。
1. 化学气相淀积（CVD）：在一定的温度和压力下，通过气态反应物在基体表面的化学反应，生成固态的氮化硅薄膜。
这种方法可以制备出厚度均匀、质量高的氮化硅薄膜。
2. 物理气相淀积（PVD）：通过蒸发或溅射等物理过程，使氮化硅原子或分子沉积在基体表面，形成薄膜。
这种方法制备的氮化硅薄膜具有优异的机械性能和耐磨损性能。
3. 等离子体增强化学气相淀积（PECVD）：利用等离子体的高能量和高活性，促进气态反应物在基体表面的化学反应，生成氮化硅薄膜。
这种方法可以在较低的温度下制备出性能优异的氮化硅薄膜。
四、淀积氮化硅的应用由于氮化硅的优异性能，淀积氮化硅技术在许多领域都有广泛的应用：1. 微电子和光电子：作为一种重要的介电材料，氮化硅薄膜被广泛应用于微电子器件和光电子器件的制造中，如集成电路、太阳能电池、发光二极管等。
2. 机械工程：由于氮化硅具有高强度、高硬度和耐磨损等特性，因此被用作机械零件的表面涂层，可以提高零件的耐用性和性能。
氮化硅陶瓷吊管的技术参数
氮化硅陶瓷吊管的技术参数氮化硅无机非金属材料都有什么氮化硅是一种无机非金属材料氮化硅陶瓷高温陶瓷材料，硬度大、熔点高、化学性质稳定工业上常常采用纯Si和纯N2在1300度制取得到。
瓷器的浸蚀基本上全是晶界的浸蚀以便扩张Si3N4瓷器的主要用途，最先务必使目前Si3N4陶瓷产品的品质更为平稳提升氮化硅陶瓷的耐腐蚀性，一是要严控晶界的构成和构造，二是要对于不一样的浸蚀自然环境采用适合的结构陶瓷。
特性：超高频绝缘陶瓷，微观结构：单晶，形状：片形功能：加工用陶瓷，产品参数：φ125*20*15MM，价格：60元/件，产地：贵州安顺市氮化硅陶瓷吊管工业陶瓷加工过程加工流程及方法：热压铸成形是用含蜡料浆加温融化后具备流通性和塑性变形,制冷后能在金属模中凝结成一定样子的特性来成形的,我热压铸成形,其生产流程以下:调料→予热→除气→热铝压铸机成形→拌和→石腊→洗出蜡饼储放→表层活性化学物质此方法适用的矿物质原材料,金属氧化物,金属氧化物等为原材料的新式瓷器的成形,特别是在对外观设计繁杂,精度高的中品更加适合,不适合于薄壁,大而长的制取生产制造。
烧结工艺氮化硅陶瓷耐热，在常压下，Si3N4没有熔点氮化硅具有耐磨，耐热性，用作蒸汽喷嘴，在800℃的锅炉工作半年后无明显损坏，其他耐热蚀合金喷嘴在同样条件下只能使用1-2个月。
,与基本氮化硅陶瓷对比,纳米技术氮化硅陶瓷的耐热震性较弱Hoffmann等的科学研究得出结论,当热震温度差为700时,小晶体Si3N4瓷器比较严重无效,而大晶体原材料仅仅慢慢缺失原来抗压强度;在1000的温度差下,粗晶体Si3N4瓷器比细晶体Si3N4瓷器的残留抗压强度高二倍[9,10],这与文中的科学研究結果一致。
氮化硅在半导体应用在哪些方面氮化硅 (Si3N4)陶瓷是无机非金属强共价键化合物 , 其基本结构单元为[SiN4]四面体, 硅原子位于四面体的中心,四个氮原子分别位于四面体的四个顶点, 然后以每三个四面体共用一个硅原子的形式在三维空间形成连续而又坚固的网络结构 , 氮化硅的许多性能都是因为其具有这种特殊的结构,因此Si3N4结构中氮原子与硅原子间结合力很强, 其作为一种高温结构陶瓷,素有陶瓷材料中的“全能冠军”之称。
【精品文章】氮化硅材料的性能特点及其应用简介
氮化硅材料的性能特点及其应用简介
氮化硅（Si3N4）陶瓷是无机非金属强共价键化合物，其基本结构单元为四面体，硅原子位于四面体的中心，四个氮原子分别位于四面体的四个顶点，然后以每三个四面体共用一个硅原子的形式在三维空间形成连续而又坚固的网络结构，氮化硅的许多性能都是因为其具有这种特殊的结构。
因此Si3N4结构中氮原子与硅原子间结合力很强，其作为一种高温结构陶瓷，素有陶瓷材料中的“全能冠军”之称
氮化硅（Si3N4）含有三种晶型，常见有两种晶型。
一种为α-Si3N4，针状结晶体，呈白色或灰白色，另一种为β-Si3N4，颜色较深，呈致密的颗粒状多面体或短棱柱体。
两者均为六方晶系。
较长的堆叠顺序导致α相的硬度高于β相。
然而，与β相相比，α相化学不稳定。
所以在液相的高温下，α相总是转变为β相。
因此，β-Si3N4是氮化硅陶瓷中使用的主要形式。
一、氮化硅材料的性能特点
1、氮化硅的物理性能：
①热学性质：属高温难熔物质，无熔点，常压下1900℃左右分解，抗高压蠕变能力强，不含粘结剂的反应烧结氮化硅负荷软化点可高达1800℃； ②导热性能好；
③热膨胀系数小；
④电绝缘性能好，介电系数小，抗击穿电压高。
2、氮化硅的化学性能：
①抗氧化性：800℃以下干燥气氛中不与氧反应；。
氮化硅陶瓷莫氏硬度
氮化硅陶瓷莫氏硬度以氮化硅陶瓷莫氏硬度为标题，我们来探讨一下这一材料的硬度特性。
氮化硅陶瓷是一种非常硬的材料，其莫氏硬度通常在9到9.5之间。
莫氏硬度是一种衡量物质硬度的指标，它通过对物质在硬度等级标准下的抗刮痕能力进行评估。
在莫氏硬度等级中，10代表最硬的矿物质，而氮化硅陶瓷的硬度接近这个最高标准。
氮化硅陶瓷之所以具有如此高的莫氏硬度，主要是由于其特殊的晶体结构和化学成分所决定的。
氮化硅陶瓷由氮和硅元素组成，其中硅元素在晶体结构中形成了强大的键合力，使得材料具有很高的硬度。
此外，氮化硅陶瓷还具有非常高的熔点和较低的热膨胀系数，使得其在高温环境下也能保持良好的硬度性能。
氮化硅陶瓷的高硬度使其在许多领域中有着广泛的应用。
首先，由于其硬度高，氮化硅陶瓷可以用于制造切割工具、研磨工具和磨料等。
其硬度还使得氮化硅陶瓷在高速切削和抛光等工艺中能够保持较长的使用寿命。
氮化硅陶瓷的高硬度也使其在电子和半导体领域有着广泛的应用。
由于其硬度能够提供较好的抗磨损性能，氮化硅陶瓷常被用于制造半导体设备的零部件，如衬底、导电板和封装材料等。
此外，其高硬度还使得氮化硅陶瓷能够承受高压和高温环境下的应力，从而保证了电子设备的稳定性和可靠性。
氮化硅陶瓷的高硬度也使其在航空航天领域有着重要的应用。
由于其硬度能够提供较好的抗磨损性能和耐腐蚀性能，氮化硅陶瓷常被用于制造航空航天设备的关键部件，如发动机零件、气动部件和燃烧室衬板等。
其高硬度还使得氮化硅陶瓷能够承受高速飞行中的剧烈摩擦和较大的机械应力，从而保证了航空航天设备的安全性和可靠性。
总的来说，氮化硅陶瓷的莫氏硬度非常高，这使得它在切削工具、电子和半导体领域以及航空航天领域有着广泛的应用。
其高硬度不仅能够提供较好的抗磨损性能，还能够承受高压、高温和剧烈摩擦等极端环境下的应力，从而保证了各个领域中设备和部件的稳定性和可靠性。
随着科技的不断发展，相信氮化硅陶瓷在更多领域中的应用会得到进一步的拓展。
氮化硅陶瓷生带的收缩率
氮化硅陶瓷生带的收缩率氮化硅陶瓷是一种高性能材料，具有独特的物理和化学特性，因此在许多领域中得到广泛应用。
其中，收缩率是氮化硅陶瓷的一个重要参数，对其制备和应用具有重要意义。
首先，我们来介绍一下氮化硅陶瓷的特性。
氮化硅陶瓷是一种非氧化陶瓷，其化学式为Si3N4。
与传统的氧化陶瓷相比，氮化硅陶瓷具有较高的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和热稳定性，因此被广泛应用于高温、高压和腐蚀性环境下的工艺和设备中。
在氮化硅陶瓷的制备过程中，收缩是一个不可避免的现象。
收缩率是描述材料制备过程中尺寸变化的一个参数，通常用一个百分比来表示。
具体来说，收缩率是指氮化硅陶瓷在制备过程中线性尺寸变化的百分比。
氮化硅陶瓷的收缩率受多种因素的影响。
首先，化学成分是影响收缩率的重要因素之一。
不同的化学成分会导致不同的收缩率。
一些添加剂可以改变氮化硅陶瓷的晶体结构和烧结过程，从而影响其收缩率。
此外，烧结温度也是影响收缩率的重要因素。
一般来说，随着烧结温度的升高，氮化硅陶瓷的收缩率会增加。
此外，氮化硅陶瓷的微观结构也会影响其收缩率。
在氮化硅陶瓷制备过程中，材料的微观结构会发生变化，从而导致尺寸的变化。
例如，在烧结过程中，材料的颗粒会发生烧结，形成新的晶界，在晶界处会产生应力，导致材料的收缩。
此外，氮化硅陶瓷中可能存在各种缺陷，例如气孔、裂纹等，这些缺陷也会影响收缩率。
在氮化硅陶瓷的应用中，了解和控制收缩率至关重要。
首先，收缩率的控制可以影响制备过程中的尺寸精度。
在一些需要高精度尺寸的应用中，如微机械系统和光学元件制备中，收缩率的精确控制非常重要。
此外，收缩率的控制还可以影响材料的性能。
例如，在固相烧结过程中，可以通过控制收缩率来调节材料的致密度和力学性能。
为了准确测量氮化硅陶瓷的收缩率，通常使用不同的实验方法。
其中，热膨胀试验是一种常用的方法。
该方法通过测量材料在不同温度下的线膨胀系数来确定收缩率。
通过恰当的数据分析，可以得到材料在不同温度下的收缩率曲线。
氮化硅陶瓷材料最终版
摘要氮化硅瓷是一种具有广阔开展前景的高温、高强度结构瓷，它具有强度高、抗热震稳定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性能好等高性能，已被广泛应用于各行各业。
本文介绍了氮化硅瓷的根本性质，综述了氮化硅瓷的制备工艺和国外现代制造业中的应用，并展望了氮化硅瓷的开展前景。
Abtract：Silicon nitride ceramic is a broad development prospects of high temperature, high strength structural ceramics, it has high strength, thermal shock stability, high temperature fatigue toughness, high bending strength, wear resistance, oxidation resistance, corrosion resistance and good performance of high performance, has been widely used in all walks of life. This paper introduces the basic properties of silicon nitride ceramics, reviews the fabricating technique of silicon nitride ceramics at home and abroad and modern manufacturing industry in the application, and looks forward to the development prospect of silicon nitride ceramics.氮化硅瓷材料关键词氮化硅瓷性能制备工艺应用Key words properties of silicon nitride ceramic preparation process and Application1.前言随着现代科学技术的开展，各种零部件的使用条件愈加苛刻〔如高温、强腐蚀等〕，对新材料的研究和应用提出了更高的要求，传统的金属材料由于自身耐高温、抗腐蚀性能差等弱点已难以满足科技日益开展对材料性能的要求，现亟待开发新材料。
氮化硅陶瓷
氮化硅陶瓷摘要氮化硅陶瓷是一种具有广阔发展前景的高温、高强度结构陶瓷，它具有强度高、抗热震稳定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性能好等高性能，已被广泛应用于各行业。
本文介绍了氮化硅陶瓷的基本性能，综述了氮化硅陶瓷的制备技术及其应用，并展望了氮化硅陶瓷的发展前景。
1.概述先进陶瓷材料,又称为精细陶瓷或特种陶瓷,按其使用和性能分类,可分为先进结构陶瓷和先进功能陶瓷。
前者是以利用其力学和热学性能为主的材料,因此又可称之为高温结构陶瓷;后者则是以利用其电、磁、光、铁电、压电、热释电等性能及其偶合为主的材料,亦称之为电子陶瓷。
氮化硅（Si3N4）陶瓷是无机非金属强共价键化合物，其基本结构单元为[SiN4]四面体，硅原子位于四面体的中心，四个氮原子分别位于四面体的四个顶点，然后以每三个四面体共用一个硅原子的形式在三维空间形成连续而又坚固的网络结构，氮化硅的许多性能都是因为其具有这种特殊的结构，因此Si3N4结构中氮原子与硅原子间结合力很强，其作为一种高温结构陶瓷，素有陶瓷材料中的“全能冠军”之称，氮化硅陶瓷具有硬度大、强度高、热膨胀系数小、高温蠕变小、抗氧化性能好，可耐氧化到1400℃、热腐蚀性能好，能耐大多数酸侵蚀，摩擦系数小，与用润滑油的金属表面相似等优异性能，已在许多工业领域获得广泛应用，并有很多潜在用途。
2.性能氮化硅陶瓷的优异的性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环境，具有特殊的使用价值。
比较突出的性能有：(1)机械强度高，硬度接近于刚玉，有自润滑性，耐磨。
室温抗弯强度可以高达980MPa 以上，能与合金钢相比，而且强度可以一直维持到1200℃不下降。
(2)热稳定性好，热膨胀系数小，有良好的导热性能，所以抗热震性很好，从室温到1000℃的热冲击不会开裂。
(3)化学性能稳定，几乎可耐一切无机酸（HF除外）和浓度在30％以下烧碱（NaOH）溶液的腐蚀，也能耐很多有机物质的侵蚀，对多种有色金属熔融体（特别是铝液）不润湿，能经受强烈的放射辐照。
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氮化硅砖技术性能介绍及理化指标
氮化硅结合碳化硅砖是以碳化硅为骨料加入工业硅粉，经混炼成型，通过氮
化反应烧结，形成氮化硅为主要结合相，且氮化硅和碳化硅含量之和不小于90%
的定型制品。我公司生产、检验执行的标准是国家标准YB/T4035-2007，具体的
理化指标如下：
产品名称（name）
氮化硅结合碳化硅砖（silicon nitride
bonded silicon carbide bricks）
显气孔率（Apparent porosity）% ≤17
体积密度（Bulk density）g/cm3 ≥2.65
常温抗压强度（Cold compression
strength）MPa
≥160
常温抗折强度(Modulus rapture at
room temperature)(1400℃)Mpa
≥45
高温抗折强度(Modulus rapture at
elevated temperature)(1400℃)Mpa
≥45
热膨胀系数(Coefficient of thermal
liner expansion) ×10-6/℃(1100℃) ≤4.18
导热系数(Thermal
conductivity )w/(m·k) (350℃)
≥16
耐火度(Refractoriness) (℃) 1800
荷重软化温度 0.2Mpa（Loading
softening point ）(℃)
1600
最高使用温度(Max working
temperature) (℃)
1550
化学成分
(Composi
tion)(%)
SiC ≥72
Si3N4 ≥20
Fe2O3 ≤0.3
理化指标
1、氮化硅结合碳化硅理化指标：（YB/T4035-2007）
项 目 指标
SiC , % ≥72
Si3N4, % ≥20
Fe2O3, % ≤0.3
显气孔率，％ ≤17
体积密度 g/cm3 ≥2.68
常温抗折强度，MPa ≥45
常温抗压强度，MPa ≥150
高温抗折强度（14000℃×0.5h）MPa ≥50
导热系数W/m.k 1000℃ ≥17
2、尺寸公差：
项目 厚 宽 高
尺寸 125±1.0mm 400±1.5mm 550±2mm
扭曲 1.0mm 1.5mm 2mm
必须保证所供产品为本厂生产。