透射电子显微分析技术-曹艳霞
细胞膜通透性研究方法与实验设计
细胞膜通透性研究方法与实验设计细胞膜通透性是细胞生物学中一个重要的研究方向，它关乎着细胞的生存和功能。
细胞膜通透性指的是细胞膜对物质的穿透性，即物质从细胞外进入细胞内或从细胞内排出的能力。
了解细胞膜通透性的研究方法和实验设计对于深入理解细胞的生理过程和疾病发生机制具有重要意义。
在细胞膜通透性研究中，最常用的方法之一是透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，TEM）。
TEM可以通过观察细胞切片的方式，直接观察细胞膜的结构和通透性。
通过TEM技术，可以观察到细胞膜上的脂质双层结构以及细胞膜上的通道蛋白等。
通过对细胞膜的观察，可以初步了解细胞膜的通透性。
除了TEM，流式细胞术（Flow Cytometry）也是一种常用的研究细胞膜通透性的方法。
流式细胞术通过将细胞悬浮液通过细胞流式仪，利用激光束照射细胞，测量细胞的荧光强度和散射光信号，从而分析细胞膜通透性和细胞内外物质的交换。
通过流式细胞术，可以对大量细胞进行快速的检测和分析，获得更加准确的数据。
除了上述的直接观察和测量方法外，还可以利用细胞膜通透性分子探针进行研究。
细胞膜通透性分子探针是一种特殊的化学物质，可以通过与细胞膜上的特定蛋白结合或与细胞膜上的特定离子发生反应，从而间接地反映细胞膜的通透性。
例如，一些荧光探针可以通过荧光信号的变化来评估细胞膜通透性的变化。
这种方法可以通过荧光显微镜等设备进行观察和测量。
在设计细胞膜通透性的实验时，需要考虑多个因素。
首先，需要选择合适的细胞类型和实验条件。
不同类型的细胞膜通透性可能存在差异，因此需要选择与研究目的相符的细胞类型。
同时，实验条件如温度、pH值等也会对细胞膜通透性产生影响，需要进行合理的控制。
其次，需要选择合适的实验方法和技术。
如前所述，可以选择TEM、流式细胞术或分子探针等方法进行研究。
不同的方法有不同的优势和限制，需要根据研究目的和实验条件进行选择。
此外，实验设计中还需要考虑对照组和实验组的设置。
STEM模式下会聚角对HAADF图像的影响
SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITYSTEM模式下会聚角对HAADF图像的影响小组成员：丁晓飞、巨菡芝、陆郁飞、孙相龙、王昭光、张好好课程名称：显微学与谱学分析完成日期：2015年12月27日STEM模式下会聚角对HAADF图像的影响近20 年来，随着电子显微技术的不断发展，扫描透射电子显微分析技术(STEM)已经成为目前最为流行和广泛应用的电子显微表征手段和测试方法。
相比于传统的高分辨相位衬度成像技术，扫描透射电子显微镜可提供具有更高分辨率、对化学成分敏感以及可直接解释的图像，因而被广泛应用于从原子尺度研究材料的微观结构及成分。
其中高角环形暗场像（HAADF-STEM）为非相干高分辨像，图像衬度不会随着样品的厚度及物镜的聚焦的改变而发生明显的变化，像中亮点能反映真实的原子或原子对，且像点的强度与原子序数的平方成正比，因而可以获得原子分辨率的化学成分信息。
近年来，随着球差校正技术的发展，扫描透射电镜的分辨率及探测敏感度进一步提高，分辨率达到亚埃尺度，使得单个原子的成像成为可能。
一、扫描透射电子显微分析技术（STEM）简介扫描透射电子显微镜（Scanning Transmission Electron Microscope，简称STEM）是指透射电子显微镜中有扫描附件者，尤其是指采用场子枪作成的扫描透射电子显微镜。
扫描透射电子显微镜是透射电子显微镜的一种发展，可以看成是TEM 与SEM的巧妙结合。
1.STEM工作原理扫描透射成像不同于一般的平行电子束透射电子显微成像，它是利用会聚电子束在样品上扫描形成的。
如图1所示，首先通过一系列线圈将电子束会聚成一个细小的束斑并聚焦在样品表面，利用扫描线圈精确控制束斑逐点对样品进行扫描。
同时在样品下方安装具有一定内环孔径的环形探测器来同步接收被散射的电子。
当电子束扫描样品某个位置时，环形探测器将同步接收信号并转换成电流强度显示在相连接的电脑显示屏上。
透射电镜纳米束电子衍射在纳米结构中的应用
透射电镜纳米束电子衍射在纳米结构中的应用毛晶;张金凤;龙丽霞;张磊;李晓晖;韩雅静【摘要】透射电子显微镜(TEM)除了熟知的高分辨分析外,还具备纳米束电子衍射(NBD)功能,可对尺寸很小的在几纳米至几十纳米的颗粒进行对应的晶体结构、物相分析,这对于材料中细小析出相分析等具有重大意义.以50nm左右的碳包覆铁颗粒为对象,对纳米束电子衍射测试原理、步骤、测试过程中相机常数、聚光镜光阑等参数选择的影响进行了详细的说明.这一方法解决了超细小颗粒、区域衍射分析困难的问题,为高校充分利用TEM测试微小区域晶体结构提供了具体的实验指导.【期刊名称】《实验室科学》【年(卷),期】2018(021)006【总页数】5页(P24-27,30)【关键词】透射电子显微镜;物相结构;纳米束电子衍射【作者】毛晶;张金凤;龙丽霞;张磊;李晓晖;韩雅静【作者单位】天津大学材料学院, 天津 300072;天津大学材料学院, 天津 300072;天津大学材料学院, 天津 300072;天津大学资产处, 天津 300072;天津大学材料学院, 天津 300072;天津大学材料学院, 天津 300072【正文语种】中文【中图分类】G482透射电子显微镜(TEM)采用波长很短的电子束作为光源，可以获得亚埃级别的高分辨率。
TEM同时结合EDS、EELS、衍射分析可以获得微区的成分分析、价态分析以及晶体结构分析[1-3]，加上近年来发展的原位TEM技术[4-5]，TEM已经成为了材料领域不可或缺的重要分析手段。
X射线单晶衍射分析以及粉末多晶X射线分析是研究晶体结构的常规方法，应用广泛。
但是其分析对象为宏观聚集体，且尺寸通常在几百纳米或是微米级以上范围。
而透射电镜电子衍射分析在纳米材料的晶体结构分析、位相分析等过程中具有独特的优势[6-8]。
常见的透射电晶体结构分析通过选区电子衍射完成[9]，但是选区电子衍射对于细小的析出相或是纳米颗粒物相分析存在一定的困难[10-11]。
红叶绿素荧光技术在微藻环境胁迫研究中的应用现状及前景_梁英
受到盐胁迫的微藻，其光合活性降低，Fv/Fm 比 值随着盐度的增加而下降[9，35]。陈兰周等[9]发现爪哇 伪枝藻（Scytonema javanicum）对盐胁迫比较敏感， 在较低的盐度胁迫下光合作用的活性已经很低。欧阳 叶新等[35]指出随着 NaCl 浓度的升高，鱼腥藻 7120 （Anabena sp. PCC7120）的 Fv/Fm 值逐渐降低。当 NaCl 浓度低于 0.4 mol/L 时，Fv/Fm 比值降低缓慢。 当 NaCl 浓度高于 0.4 mol/L 时，Fv/Fm 比值降低幅度 明显增大。当 NaCl 浓度达到 1mol/L 时，叶绿素 a 荧 光信号降至很弱。Meijer 等[36]将用 32P 标记的衣藻 （Chlamydomonas moewusii）置于高盐环境之下，发
梁 英 1，冯力霞 1，尹翠玲 1, 曹春晖 2
(1. 中国海洋大学 海水养殖教育部重点实验室，山东 青岛 266003；2. 天津科技大学 海洋科学与工程学院， 天津 300222)
中图分类号：Q945.78
文献标识码：A
文章编号：1000-3096(2007)01-0071-06
叶绿素荧光分析技术是一种以光合作用理论为 基础、利用体内叶绿素作为天然探针、研究和探测植 物光合生理状况及各种外界因子对其细微影响的新 型植物活体测定和诊断技术，具有快速、灵敏、对细胞 无损伤的优点，是研究植物光合作用的良好探针[1]。 逆境胁迫对微藻光合作用的影响是多方面的，不仅影 响光合机构的损伤，也影响光合电子的传递及其暗反 应的有关酶活性[2]。利用叶绿素荧光动力学方法可以 快速、灵敏、无损伤地探测逆境对微藻光合作用的影 响。叶绿素荧光参数与光合作用各种反应紧密相关， 任何逆境对光合作用某个过程的影响都可以通过叶 绿素荧光动力学反映出来。
透射电子显微镜解析出材料结构与缺陷的微观形貌
透射电子显微镜解析出材料结构与缺陷的微观形貌材料科学与工程领域中，了解材料的微观结构和缺陷是极为重要的。
透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）作为一种高分辨率的显微镜，被广泛应用于研究材料的微观结构和缺陷的形貌。
本文将对透射电子显微镜的原理以及其在解析材料结构和缺陷方面的应用进行探讨。
首先，我们来了解一下透射电子显微镜的原理。
TEM利用电子束的穿透性质，通过透射模式进行成像。
当电子束通过材料样品时，被材料中的原子核和电子云散射，形成折射、衍射和透射等效应。
其中，透射电子显微镜主要依靠透射电子的成像来解析材料的微观结构和缺陷。
在TEM中，电子束通过样品后，经过透射器（透镜）和投影透镜组件进行成像，最后由像差校正系统进行调整来提高成像质量。
透射电子显微镜的高分辨率使得它能够解析出材料的微观形貌，包括晶体结构、晶格缺陷和界面等。
透射电子显微镜在解析材料结构方面具有得天独厚的优势。
通过TEM的高分辨率成像，可以直接观察到材料的晶格结构。
晶体的晶体结构、晶胞参数、晶体方向和位错等重要的结构信息可以通过TEM成像来获得。
通过选取特定的衍射点和晶格平面，可以进一步通过电子衍射技术确定晶体结构。
透射电子衍射技术可以通过模式匹配和比对已知晶体结构的衍射图案来确定材料的晶体结构，为研究和设计材料提供了重要的依据。
此外，透射电子显微镜还可以帮助解析材料中的晶体缺陷。
晶格缺陷是材料中常见的现象，对材料的性能和行为产生显著影响。
通过透射电子显微镜观察，可以揭示出材料中的位错（dislocation）、嵌错（inclusion）、晶界（grain boundary）和尖晶石等各种缺陷。
位错是晶体中最常见的缺陷类型之一，它们对晶格的完整性和形貌起到了至关重要的作用。
透射电子显微镜可以通过成像和EDS（能谱分析）技术来定量和表征位错的类型和密度。
此外，透射电子显微镜还可以通过高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）技术对材料的晶界和界面进行观察，揭示出材料微观结构中的复杂性。
03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)
二、透射电子显微像的质厚衬度及透射电镜样品
使用透射电镜观察分析材料的形貌、组织、结构，需具备以 下两个前提： 一是制备适合TEM观察的试样,厚度100-200nm,甚至更薄；
TEM试样大致有三种类型： 粉末颗粒 材料薄膜 复型膜
二是建立电子图像的衬度理论
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二、像衬度及复型像
（一）电子像衬度（像衬度）——质厚衬度
一般都采用双聚光镜系统。
②成象放大系统
主要组成：
➢ 物镜
成
➢ 中间镜(1-2个)
像
放
➢ 投影镜(1-2个)
大 系
统
11
物镜
①形成显微像
将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其像
作用：平面上，构成与试样组织结构相对应的显微像。 ②形成衍射花样
将来自试样不同点的同方向、同相位的弹性散射束会聚 于其后焦面上，构成含有试样晶体结构信息的衍射花样
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（2）放大倍数
透射电镜的放大倍数是指电子图象对于所观察试样区的 线性放大率。
最高放大倍数表示电镜的放大极限。实际工作中，一般 都是在低于最高放大倍数下观察，以得到清晰的图像。
（3）加速电压
电镜的加速电压指电子枪的阳极相对于阴极的电压 决定电子枪发射的电子束的波长和能量 200kV电镜是一种比较理想的电镜（0.00251nm ）
三、电子衍射
四、透射电子 显微像
电子衍射和X-ray衍射异同点 电子衍射基本公式 电子衍射花样 阿贝显微镜成像原理 透射电子显微镜中选区电子衍射 电子衍射花样的标定
像衬度：质厚衬度、衍射衬度、相位衬度 选择衍射成像原理 双光束条件 电子衍射分析的特点
一、透射电子显微镜
结构组成与工作原理 ➢ 光学成像系统 ➢ 真空系统 ➢ 电气系统
透射电子显微镜及其应用
透射电子显微镜及其应用读书报告姓名：孙家宝学号：DG1022076电子科学与工程学院2021年3月31日目录第一章透射电子显微镜 (1)1.1 透射电子显微镜的结构 (1)1.1.1．电子光学部分 (1)1.1.2．真空系统 (3)1.1.3．供电控制系统 (4)1.2 透射电子显微镜主要的性能参数 (4)1.2.1 分辨率 (4)1.2.2 放大倍数 (4)1.2.3 加速电压 (5)1.3 透射电镜的成像原理 (5)1.3.1 透射电镜的成像方式 (5)1.3.2 衬度理论 (6)1.4 透射电镜的电子衍射花样 (6)1.4.1 电子衍射花样 (6)1.4.2电子衍射与X射线衍射相比的优点 (7)1.4.3电子衍射与X射线衍射相比的不足之处 (7)1.4.4选区电子衍射 (7)1.4.5常见的几种衍射图谱 (8)1.4.6单晶电子衍射花样的标定 (8)第二章透射电子显微镜分析样品制备 (10)2.1 透射电镜复型技术（间接样品） (10)2.1.1塑料——碳二级复型 (10)2.1.1萃取复型（半直接样品） (11)2.2 金属薄膜样品的制备 (11)1.2 电子显微镜中的电光学问题 (13)1.2.1 电子射线（束）的特性 (13)第一章 透射电子显微镜1.1 透射电子显微镜的结构透射电子显微镜（TEM ）是观察和分析材料的形貌、组织和结构的有效工具。
TEM 用聚焦电子束作照明源，使用对电子束透明的薄膜试样，以透过试样的透射电子束或衍射电子束所形成的图像来分析试样内部的显微组织结构。
图 1.1（a ）（b ）是两种典型的透射电镜的实物照片。
透射电子显微镜的光路原理图如图1.2所示。
透射电镜一般是由电子光学部分、真空系统和供电系统三大部分组成。
1.1.1．电子光学部分(a) Philips CM12透射电镜(b) JEM-2010透射电镜 图1.1 透射电子显微镜图1.2透射电子显微镜的光路原理图图1.3透射电镜电子光学部分示意图整个电子光学部分完全置于镜筒之内，自上而下顺序排列着电子枪、聚光镜、样品室、物镜、中间镜、投影镜、观察室、荧光屏、照相机构等装置。
ZnO 微结构调控及其光学性能的研究的翻译
ZnO 微结构调控及其光学性能的研究刘海霞黄柏标王泽岩秦晓燕张晓阳俞娇仙(山东大学晶体材料国家重点实验室，济南250100)摘要：氧化锌不同形貌的合成与控制可以通过一个简单的溶剂热反应来实现，其中乙醇作溶剂，酒石酸做添加剂。
通过控制酒石酸的加入量，可以有效地控制ZnO的形貌、尺寸以及到更复杂结构的转变。
同时提出了不同形貌ZnO 可能的生长机制，并利用FTIR 谱进一步证实了酒石酸对ZnO生长的影响。
另外，由光致发光光谱可以看出，不同的ZnO形貌，发光性能会有所不同，总体上说，所得ZnO的发光区域主要集中在紫光波段和橙光波段。
关键词：氧化锌；微结构；机理；光学性能中图分类号：O614.24+1 文献标识码：A 文章编号：1001-4861(2011)04-0752-07近年来纳米和微结构材料已经吸引了越来越多的利益，设计，制造和修改等级结构形貌可控的纳米材料仍然是一个巨大的挑战。
氧化锌是一个n型宽禁带（3.37电子伏特）和一个大的激子结合能（60毫电子伏特）的半导体。
调查显示，由于其优异的热稳定性和化学稳定性，氧化锌的应用领域非常广泛，如光电子，光催化，场发射和传感器等。
同样，氧化锌的结构与性能密切相关，如形态，大小，长宽比或表面结构等。
目前，具有不同结构和形貌的氧化锌进行了合成，包括氧化锌纳米线，纳米，纳米管等。
各种合成方法中，湿化学法被视为合成氧化锌材料最好的方式，该方法不需要特殊设备，复杂的工艺或高温，能够更好地控制氧化锌大小和形态，湿化学方法用于氧化锌合成已报告了许多组。
近年来，有机分子，如藻酸双酯钠，聚乙二醇，茶，等等，已被广泛用来作为合成氧化锌的表面活性剂。
1实验部分所有的试剂和溶剂的分析级和使用无任何进一步的净化。
在一个典型的溶剂热的过程，前体溶液是由溶解14.85克氯化锌（Zn（NO3）2·6H2O）到100毫升无水乙醇下大力搅拌。
在Zn（NO3）2·6H2O完全溶解，1.8克的酒石酸溶液加入上述溶液连续搅拌形成一个明确的解决方案。
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离子蚀刻 是利用半晶聚合物中晶区和非晶区
或利用聚合物多相体系中不同相之间耐离子轰击
的程度上的差异。
具体做法是在低真空系统中通过辉光放电产
生的气体离子轰击样品表面，使其中一类微区被
蚀刻掉的程度远远大于另一类微区，从而造成凹
凸起伏的表面结构。
常用的蚀刻方法有化学试剂蚀刻和离子蚀刻。用作蚀刻的
化学试剂有氧化剂和溶剂两类。所用的氧化剂有发烟硝酸和高
锰酸盐试剂等。它们的蚀刻作用是使试样表面某一类微区容易 发生氧化降解作用，使反应生成的小分子物更容易被清洗掉， 从而显露出聚合物体系的多相结构来。 PE/PA共混体系，可采用甲酸将PA刻蚀掉，形成衬度。
2. 复型
3. 离子减薄法
Байду номын сангаас
西安交通大学 先进电子显微镜研究平台
TITAN G2 60-300物镜球差矫正透射电镜 、 聚光镜球差校正JEM-ARM200F(UHR)、 JEOL2100透射电镜、Helios Nanolab 600i双 束扫描电镜、FEI Quanta 250 FEG场发射环 境扫描电镜及透射电镜样品制样设备等。
透射电子显微 分析技术
曹艳霞
郑州大学材料科学与工程学院
主要内容
电子光学基础 透射电子显微技术 样品制备
电子光学基础
一、电子与物质的相互作用
二、为什么采用电子束而不用自然光？ Why not visible light?
分辨率
R 0.61
n sin a
λ： 光源的波长； n： 物点和透镜之间的折射率； α： 孔径半角，即透镜对物点的张角的一半； nsinα称为数值孔径，用N.A表示。
提高分辨率的方法?
R 0.61
n sin a
& 降低入射光的波长 & 增加介质的折光指数 & 增加入射光圆锥的半角
自然光与电子束的波长:
可见光的波长在3900～7600Å，光学玻璃透 镜分辨本领的极限值可达0.2微米 电子束的波长约为可见光的十万分之一
2. 粉末样品的制备方法 （1）选择高质量的碳膜铜网或微栅网（直径3mm） （ 2 ）用镊子小心取出铜网，将膜面朝上（在灯光下 观察显示有光泽的面，即膜面），轻轻平放在白色 滤纸上； （ 3 ）取适量的粉末和乙醇分别加入小烧杯，进行超 声振荡 10~30min ，用玻璃毛细管吸取粉末和乙醇 的均匀混合液，然后滴 2~3 滴该混合液体到铜网上； （4）等15 min以上，以便乙醇尽量挥发完毕；否则 将样品装上样品台插入电镜，将影响电镜的真空。
电子束的波长与加速电压有关：
有效放大倍数
显微镜必须提供足够的放大倍数，把它能分辨的最 小距离放大到人眼能分辨的程度。相应的放大倍数 叫做有效放大倍数，它可由下式来确定：
M = re∕r0
M—显微镜放大倍数 re—人眼分辨本领 r0—显微镜分辨本领 需要提及的一点是：增加中间镜的数量，可以增加放大倍 数；但当达到显微镜有效放大倍数时，再增加中间镜的数 量已是徒劳的；因为此时显微镜所能提供的分辨率已经达 到极限，纵使继续放大，也无法分辨出更紧密的两点
FEI Titan G2物镜球差校正透射电镜
点分辨率：0.08nm；信息分辨率：0.08nm；电子枪能量分 辨率：≤0.7eV（300kV）；STEM分辨率：0.136nm；最大 会聚角α：100mrad；最大衍射角：±13°；加速电压：60300kV；样品区极限真空＜ 1.0*10-5Pa；可进行三维重构工 作；5轴CompuStage样品台；照相方式：一体化Gatan US1000 CCD相机；能谱仪：一体化能谱仪，分辨率136eV， 面积30 mm2；EFTEM:一体化最新一代Gatan Quantam系 统；可以STEM+CCD、STEM+EFTEM+CCD、 STEM+PEELS、STEM+PEELS+EDX同时采集数据。此外 该电镜配有全息附件，可以对样品进行电子全息分析 （electron holography）
沙尘暴的矿物颗粒
二、块状样品
1.
超薄切片法
高分子材料用超薄切片机可获得50nm左右的薄样品。 如果要用透射电镜研究大块聚合物样品的内部结构，可采 用此法制样。 用此法制备聚合物试样时的缺点是将切好的超薄小片 从刀刃上取下时会发生变形或弯曲。为克服这一困难，可 以先将样品在液氮或液态空气中冷冻；或将样品包埋在一 种可以固化的介质中。 选择不同的配方来调节介质的硬度，使之与样品的硬 度相匹配。经包埋后再切片，就不会在切削过程中使超微 结构发生变形。
三、电磁透镜的原理
通电的短线圈就是一个简单的电磁透镜，它 能造成一种轴对称不均匀分布的磁场。穿过 线圈的电子在磁场的作用下将作圆锥螺旋近 轴运动。而一束平行于主轴的入射电子通过 电磁透镜时将被聚焦在主轴的某一点。
四、电磁透镜的像差
3.
电磁透镜的景深和焦长
当透镜焦距和物距一定时，像平面在一定的 轴向距离内移动也会引起失焦。同样，如果由此 引起的失焦斑尺寸不超过由衍射效应和像差引起 的散焦斑，那么对透镜像分辨率也没有影响。所 允许的透镜像平面轴向偏差就是透镜的焦长。对 于多级透镜组成的电镜，焦长一般都超过10～20 cm。这样只要在荧光屏上的图像是清晰的，那么 在荧光屏上方或下方十几厘米放置底片，所拍摄 的图像都是清晰的，给照相记录带来很大的方便。
JEOL ARM200F聚光镜球差校正透射 电镜
点分辨率：0.19nm；晶格分辨率：0.10nm； 信息分辨率：0.10nm；STEM明场分辨率： 0.14nm，暗场分辨率：0.08nm；加速电压： 120，200kV；透射模式放大倍数：高倍： 2000-2000000，低倍：50-6000；扫描模式 放大倍数：高倍：20000-151000000，低倍： 100-15000；加速电压稳定度： <1*10-6/min
透射电子显微技术
热电子发射电子枪透射电镜 A、普通钨丝型 (W) B、六硼化镧型 (LaB6) 场发射电子枪型透射电镜 A、热阴极型 ZrO/W(100) (1800K) W(100) (1600K) B、冷阴极型 W(310) (300K)
利用高温使电子具有足够的能量 去克服电子枪材料的功函数 (work function)能障而逃离
移动透镜
200nm 103× 约700 较小 较短 照相底板
改变线圈电流或电压
0.2~0.3nm 106× ＜ 10 较大 较长 照相底板
B
A
Aˊ
四、电镜的局限性
样品制备
一、粉末样品
1．对粉末样品基本要求： （1）单颗粉末尺寸最好小于1μm； （2）无磁性； （3）以无机成分为主，否则会造成电镜严重 的污染，高压跳掉，甚至击坏高压枪；
光学显微镜与透射电镜的比较
比较部分
光学显微镜
透射电镜
光源
照明控制 样本
可见光(日光、电灯光)
玻璃聚光镜 1mm厚的载玻片
电子源(电子枪)
电子聚光镜 约10nm厚的薄膜
放大成象系统
介质 像的观察
玻璃透镜
空气和玻璃 直接用眼
电子透镜
高度真空 利用荧光屏
聚焦方法
分辨本领 有效放大倍数 物镜孔径角 景深 焦长 像的记录
大多数聚合物由轻元素组成。在用质厚 衬度成象时图象的反差很弱，因此，由超薄 切片得到的试样还不能直接用来进行透射电 镜的观察，还需要通过染色或蚀刻来改善衬 度。
染色
用一种含重金属的试剂对试样中的某一相或某 一组分进行选择性的化学处理，使其结合或吸附 上重金属，从而导致其对电子的散射能力有明显 的变化。高分子材料多采用四氧化锇和四氧化钌 染色。例如，高抗冲尼龙共混物微观相分离结构 的透射电镜观察。 蚀刻： 目的在于通过选择性的化学、物理作用， 加大上述聚合物试样表面的起伏程度。