硅太阳能电池的设计

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硅基太阳能电池的工作原理

硅基太阳能电池的工作原理

硅基太阳能电池的工作原理
硅基太阳能电池是目前应用最广泛的太阳能电池之一,其工作原理如下:
硅是一种半导体材料,其原子结构中有4个电子在外层能级上,可以与周围的原子形成共价键,形成晶体结构。

当光线照射到硅太阳能电池上时,能量会激发硅原子中的电子跃迁到更高的能级,使其脱离原子,形成自由电子和空穴。

P-N结是硅太阳能电池的关键部分。

P型硅材料中掺杂了少量的杂质,使其原子中存在多余的电子。

N型硅材料中掺杂了其他杂质,使其原子中电子较少。

当P-N结形成时,P型硅中的多余电子会向N型硅中扩散,形成负偏压区;而N 型硅中的电子会向P型硅中扩散,形成正偏压区。

在正偏压区,当光线照射到P-N结上时,会激发自由电子和空穴向P-N结运动,形成电流。

同时,P-N结的内部电场会阻碍自由电子和空穴的扩散,使其被迫朝着正负极移动,产生电势差和电压。

这样,太阳能光线被转化为了电能,从而实现了太阳能电池的工作。

总之,硅太阳能电池的工作原理是利用光的能量激发半导体中的电子和空穴,利用P-N结产生电势差和电流,将太阳能光线转化为电能。

太阳能电池单晶硅

太阳能电池单晶硅

太阳能电池单晶硅
太阳能电池单晶硅是目前最常见的太阳能电池类型之一。

它由单晶硅制成,具有较高的转换效率和较长的使用寿命,广泛应用于家庭光伏发电系统、商业光伏电站、太阳能灯、太阳能电池板等领域。

太阳能电池单晶硅的制作工艺比较复杂,需要经过多个步骤才能完成。

下面是太阳能电池单晶硅的制作过程:
1. 硅单晶体生长:将硅原料熔化,然后通过种晶的方式让硅原子在晶体种子上逐渐生长,最终形成硅单晶体。

2. 切割硅片:将硅单晶体切割成厚度为0.3-0.4mm的硅片,通常采用金刚石线锯进行切割。

3. 清洗硅片:用酸洗液对硅片进行清洗,去除表面的氧化物和杂质。

4. 晶体硅片制备:将硅片放入炉中,在高温下进行扩散、氧化等处理,形成PN结。

5. 制作电极:在硅片表面涂上铝等金属,形成正负极。

6. 焊接:将多个硅片按照一定方式组合起来,形成太阳能电池板。

太阳能电池单晶硅的转换效率在20%左右,比其他太阳能电池类型高。

但由于制作过程复杂,成本较高,因此在大规模应用中仍存在一定的限制。

晶体硅太阳电池制造技术

晶体硅太阳电池制造技术

晶体硅太阳电池制造技术
晶体硅太阳能电池是目前应用最广泛的太阳能电池之一,其制造技术主要包括以下几个步骤:
1. 制备硅单晶材料:通过在高温环境下,将硅原料(通常为冶炼硅或多晶硅)融化并凝固形成硅单晶,然后切割成薄片。

2. 清洁处理:将硅单晶薄片进行严格的清洁处理,去除表面的杂质和有害物质。

3. 电池片制造:将清洁处理后的硅单晶薄片进行P型和N型掺杂,形成PN结构。

这一步骤一般采用扩散法、离子注入法或液相浸渍法。

4. 捕获和反射层涂覆:在电池片的前表面涂覆反射层,以提高光的利用率。

同时,在电池片的背面涂覆捕获层,以提高光的吸收。

5. 金属化和焊接:将电池片表面涂覆导电金属(通常为铝)和更薄的阳极面涂覆导电金属(通常为银),然后使用焊接技术将电池片连接成电池组。

6. 封装和测试:将电池组封装在透明的玻璃或塑料基板中,以保护电池组不受外界环境的影响,并进行电气性能测试和质量控制。

这些步骤是晶体硅太阳能电池制造的基本流程,具体制造技术还有其他细节和改进方法,以提高电池的效率和稳定性。

晶硅太阳能电池制造工艺-工艺流程以及工序简介

晶硅太阳能电池制造工艺-工艺流程以及工序简介
7.丝网印刷背电场
2)、工序简介
目前硅太阳能电池制造工序主要有:
制绒清洗工序 扩散工序 PECVD工序 丝网印刷工序 烧结工序 Laser刻蚀工序 测试分选工序
1. 制绒清洗工序
(a).单晶制绒---捷佳创
目的与作用:
(1)去除单晶硅片表面的机械损伤层和氧 化层。
(2)为了提高单晶硅太阳能电池的光电转 换效率,根据单晶硅的各向异性的特性, 利用碱(KOH)与醇(IPA)的混合溶液在单 晶硅表面形成类似“金字塔”状的绒面, 有效增强硅片对入射太阳光的吸收,从而 提高光生电流密度。
1)、硅太阳能电池的制造工艺流程:
清洗制绒
扩散
周边刻蚀
印刷电极PECVD去磷玻璃烧结分选测试
检验入库
1.原料硅片清洗制绒 12.测试分选
11.激光 10.烧 结 9.丝网印刷正电极 8.烘 干
2.高温扩散(液态扩散) 3.去磷硅玻璃(去PSG) 4.沉积减反射膜(PECVD)
5.丝网印刷背电极 6.烘 干
去除磷硅玻璃的目的、作用:
1. 磷硅玻璃的厚度在扩散中工艺难控制,且其工艺窗口太小,不稳 定。
2. 磷硅玻璃的折射率在1.5左右,比氮化硅折射率(2.07左右)小, 若磷硅玻璃较厚会降低减反射效果。
3. 磷硅玻璃中含有高浓度的磷杂质,会增加少子表面复合,使电池 效率下降。
2. 扩散(POCl3液态扩散)
(b). 多晶制绒---RENA InTex
3Si 2HNO3 18HF 3H2SiF6 0.45NO 1.35NO2 0.1N2O 4.25H2 2.75H2O
目的与作用:
(1)去除单晶硅片表面的机械损 伤层和氧化层。
(2)有效增加硅片对入射太阳光 的吸收,从而提高光生电流密度,提高 单晶硅太阳能电池的光电转换效率。

硅基太阳能电池的制备与表征

硅基太阳能电池的制备与表征

硅基太阳能电池的制备与表征硅基太阳能电池是目前最常见的太阳能电池之一。

它们被广泛应用于计算机芯片和太阳能板等领域。

本文将介绍硅基太阳能电池的制备和表征方法。

制备方法硅基太阳能电池通常使用P型硅和N型硅制成。

这两种硅的掺杂不同。

P型硅被掺杂为氧化铝,铜或锋,以提高材料的电子“空穴”浓度。

N型硅被掺杂为磷,锗或砷,以提高电子浓度。

这些材料之间的界面构成了PN结。

为了使PN结产生电流,需要将它们放在阳光下。

这些材料被包含在硅基太阳能电池的层中。

硅基太阳能电池有两个主要的层 - 发射层和基底层。

发射层通常使用氧化硅或氮化硅制成,可以提高太阳能电池的效率。

基底层通过化学沉积或气相沉积形成。

在太阳能电池制造的后期,还需要添加其他材料,如金属和导电聚合物,以增强其电导率和保护性。

这些材料可以使用蒸发,溅射或电化学沉积等方法结合到太阳能电池中。

表征方法表征硅基太阳能电池的一个主要参数是开路电压(Voc)。

Voc 是太阳能电池的开路电势,即在不连接负载时,太阳电池的电压。

在理想情况下,太阳能电池的Voc等于其带隙功函数。

带隙功函数是太阳能电池光生成电势的最高值。

另一个主要的参数是短路电流(Isc)。

Isc是太阳能电池产生的最大电流值,即当太阳能电池的正负极短路连接时的电流值。

Isc通常与光照的强度成正比。

填充因子(FF)通常被用于评估太阳能电池的效率。

FF是太阳能电池输出电流和输出电压的乘积,除以Isc和Voc的乘积的百分比。

太阳能电池的效率可以通过以下公式计算:效率=(Isc ×Voc × FF)/ P0,其中P0是归一化光照下的光功率密度。

结论硅基太阳能电池的制备和表征是太阳能电池领域的基础。

通过控制硅的掺杂,太阳能电池的效率可以得到改善。

而通过表征太阳能电池的关键参数,效率可以得到评估和改进。

随着技术的不断进步,硅基太阳能电池将成为未来的主流太阳能电池之一。

晶体硅太阳能电池的制造工艺流程

晶体硅太阳能电池的制造工艺流程

晶体硅太阳能电池的制造工艺流程一、硅材料的准备首先,需要获取高纯度的硅材料作为太阳能电池的基础材料。

常用的硅材料有硅硷、多晶硅和单晶硅。

这些材料一般通过熔炼、洗涤和纯化等工艺步骤进行准备,以确保材料的纯度和质量符合要求。

二、硅片的制备在准备好的硅材料中,首先需要将硅材料熔化并形成硅棒。

硅棒可以采用单晶硅棒或多晶硅棒,通过将硅材料放入熔炉中进行熔化并慢慢降温,以获得纯度高的硅棒。

接下来,通过使用切割机将硅棒切割成很薄的硅片。

这些硅片称为硅片,硅片的厚度通常为几十微米到几百微米。

三、电池片的制备在硅片制备好后,需要对硅片进行一系列的加工工艺,以形成能够转化太阳能的电池片。

首先,通过在硅片表面涂上磷化剂,然后将硅片放入磷化炉中进行磷化反应,使硅片表面形成一层钙钛矿薄膜。

这一步骤的目的是增加太阳能的吸收能力。

接着,需要在硅片上涂覆一层导电膜。

最常用的导电膜是铝或铝合金,在硅片表面蒸镀一层铝膜。

该层铝膜将形成电场,使得硅片的上下两面形成正负两极。

最后,通过将硅片放入扫描激光器中进行图案化处理,将电池片分成多个小的电池单元,形成电池片。

四、组装在制造完电池片后,还需要将电池片组装成最终的太阳能电池模块。

电池片通过焊接或粘贴在玻璃基板上,并加上前电极和后电极,形成电池模块。

同时,还需将电池模块封装起来,以保护电池片并增加光的吸收。

最后,经过严格的测试和质量检查,太阳能电池模块将会被装配成太阳能电池板,并投入市场使用。

总结起来,晶体硅太阳能电池的制造工艺流程主要包括硅材料的准备、硅片的制备、电池片的制备和组装。

这些步骤涉及到多种物理、化学和加工工艺,需要高技术水平和严格的质量控制。

不断的研发和创新使得晶体硅太阳能电池在效率和可靠性方面得到了不断的提升。

第4章 硅太阳能电池的设计

第4章 硅太阳能电池的设计

重减小扩散长度,但是由于电极区域并不参与载流子的生成,因此它对载流子的
收集的影响并不大。
此外,当高复合率的电池表面非常接近于p-n结时,要使复合的影响达到最 小,就必须尽可能的增加掺杂的浓度。
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
&4.3.4
减少复合效应-表面复合
类似的方法也使用在减少背表面复合率对电压和电流的影响上,如果背
表面与pn结的距离小于扩散长度。
速消失,以使得更多的载流子通过电池,提高前置电流。因此,必须有长的 扩散长度才能尽量减少复合并获得高电压。而扩散长度怎取决于电池材料的 类型、制造电池片的过程和掺杂的情况。
• 高掺杂导致低扩散长度,因此需要找到长扩散长度(它同时影响着电流和电
压)与高电压之间的平衡。
&4.3.3减少复合效应
复合引起的电压损失
&4.2.1
光学特性-光的损耗
下面将介绍几种能减少光损失的方法:
尽量使电池顶端电极覆盖的面积达到最小(尽管可能导致串联电阻增加)。
减反射膜的厚度为入射光的波长的四分之一。对于折射率为n1薄膜材料,入
射光波长为λ0,则使反射最小化的薄膜厚度为d1: d1=λ0/4n1 如果减反射膜的折射率为膜两边的材料的折射率的几何平均数,反射将被进 一步降低
以都能起到减小反射的效果。
绒面结构对入射光的影响
&4.2.3
光学特性-表面制绒
一块单晶硅衬底可以沿着晶体表面刻蚀便能达到制绒效果。 如果表面能恰当符合内部原子结构的话,硅表面的晶体结构将变成由金字塔构 成表面。
单晶硅制绒表面的电子显微镜扫描照片。
&4.2.3
光学特性-表面制绒
刻蚀多晶硅表面时,单晶硅的制绒方法都不能使用,因为只有在由<111> 晶体表面构成的表面才能完成有效的形态。 而多晶硅表面上,只有一小部分面积才有<111>方向。但是多晶硅制绒可 以使用光刻技术和机械雕刻技术,即使用切割锯或激光把表面切割成相应的 形状。

硅太阳能电池制造工艺

硅太阳能电池制造工艺

硅太阳能电池制造工艺硅太阳能电池制造工艺是指将硅材料变成太阳能电池的过程,包括材料处理、单晶硅生长、硅片制备、器件制备等多个方面。

下面将对硅太阳能电池制造工艺进行详细介绍。

1. 材料处理硅太阳能电池制造的首要工艺就是材料处理。

硅太阳能电池采用的主要材料是单晶硅、多晶硅和非晶硅。

这些材料都需要经过一系列的处理工艺,如去氧化、赋氢、赋磷、溅射金属等。

其中,像赋磷,可以使得硅片的导电性更好,提高太阳能电池的转换效率。

2. 单晶硅生长单晶硅是制造太阳能电池的核心材料。

单晶硅的生长过程主要有两种方法,分别是典型的克尔宁(Czochralski)法和辊道法(Float-Zone)。

目前主流的生产工艺是克尔宁法。

这种方法利用硅的熔点和冷却过程来实现单晶的生长。

但是,克尔宁法的成本较高,缺点在于对硅晶体不均匀性的限制严格,易造成氧杂质和机械应力等缺陷。

辊道法则消除了这种限制,在晶体均匀性和质量上表现更好,但是较少使用。

3. 硅片制备硅片是太阳能电池的主要组成部分,是从单晶硅生长中得到的。

生长出的硅锭通常有200毫米到300毫米,必须被切割成更薄的硅片,以便在太阳能电池中使用。

这个过程被称为硅片制备,主要分为切割和封边两个步骤。

切割是指用硅锯将硅锭切成很薄的硅片。

然后这些硅片边缘用磨床和化学刻蚀加工成封边。

4. 器件制备在器件制备阶段,使用化学蚀刻裂解的方法在硅片表面形成p-n结,并在p-n结上放置电极,形成太阳能电池。

这个工艺叫做“光刻工艺”或“半导体光刻冲技术”。

通过上述工艺步骤,太阳能电池制造完毕,可以用于发电,促进可再生能源的利用。

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太阳能电池来说,所有的可
见光都能产生电子空穴对,
因此它们都能被很好地吸收。
表面反射 被电池的背面反射
2020/5/19
应用光伏学
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§ 4.2.1 光学特性 光的损耗
有很多减少光损失的方法:
尽量使电池顶端电极覆盖的面积达到最小(尽管这样可能 导致串联电阻的增加)。这一点在串联电阻一节中有详细 讨论 。
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应用光伏学
1
§ 4.1.1 基础太阳能电池设计
硅太阳能电池效率的演变
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应用光伏学
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§ 4.1.1 基础太阳能电池设计
理论上,光伏电池的最高转换效率能达到90%以上。然而,
这一数字的获得是以几个假设为前提的,这些假设在实际上很
难或根本不可能达到,至少在现今人类的科技水平和对器件物
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单晶硅制绒表面的电子显微镜扫描照片
应用光伏学
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§ 4.2.3 光学特性 表面制绒
2. 提高pn结收集光生载流子的能力。
3. 尽量减小黑暗前置电流。
4. 提取不受电阻损耗的电流。
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应用光伏学
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§ 4.2.1 光学特性 光的损耗
光的损耗主要以降低短
路电流的方式影响太阳能电 被顶端
池的功率。被损耗的光包括
电极所 阻挡
本来有能力在电池中产生电
子空穴对,但是被电池表面
反射走的光线。对于大多数
其能量相等的材料吸收了。为了获得这种理论效果,人们想出
一种由无限多层材料禁带宽度不同的电池叠加在一起的模型,
每一层都只吸收能量与其禁带宽度相等的光子。
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应用光伏学
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§ 4.1.1 基础太阳能电池设计
第二个因素是假设入射光有高聚光比。并假设温度和电阻
效应对聚光太阳能电池的影响很小,而光强的增加能适当增加
在电池上表面加减反射膜 表面制绒 增加电池的厚度以提高吸收(尽管任何在与pn结的Байду номын сангаас离大
于扩散长度的区域被吸收的光,都因载流子的复合而对短 路电流没有贡献) 通过表面制绒与光陷阱的结合来增加电池中光的路径长度
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应用光伏学
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§ 4.2.2 光学特性 减反射膜
加在太阳能电池上表面的减反射膜与在其他 光学器件(如相机镜头)上的膜相似。它们包含 了一层很薄的介电材料层,膜的厚度经过特殊设 计,光在膜间发生干涉效应,避免了像在半导体 表面那样被反射出去。这些避免被反射出去的光 与其它光发生破坏性干扰,导致被反射出电池的 光强为零。除了减反射膜,干涉效应还能在水面 上的油膜上看到,它能产生彩虹般的彩色带。
短路电流。因为开路电压VOC受短路电流的影响,VOC随着光 强呈对数上升。再者,因为填充因子也随着VOC的提高而提高, 所以填充因子同样随着光强的增加而提高。因光强的增加而额
外上升的VOC和FF使聚光太阳能电池获得更高的效率。
为获得最高效率,在设计单节太阳能电池时,应注意几项 原则:
1. 提高能被电池吸收并生产载流子的光的数量。
理的理解上很难达到。对于硅太阳能电池来说,其在一个太阳
照射下,比较实际的理论最高效率值大约为26%-28%。现今实
验室测得的硅太阳能电池的最高效率为24.7%。
理论值与实际测量值之间的差距主要来自两个方面因素。
首先,在计算理论最大效率时,人们假设所有入射光子的能量
都被充分利用了,即所有光子都被吸收,并且是被禁带宽度与
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§ 4.2.2 光学特性 减反射膜
(a)破坏性 干涉导致 反射光为 零
(b)建设性 干涉导致 所有的光 都被反射
所有光 传入半 导体
没有光 传入半 导体
使用厚度为四分之一波长的减反射膜来减少表面反射。
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应用光伏学
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§ 4.2.2 光学特性 减反射膜
减反射膜的厚度经过特殊设计,刚好为入射光波
§ 4.1.1 基础太阳能电池设计
太阳能电池的设计包括明确电池结构的参数以使 转换效率达到最大,以及设置一定的限制条件。这些 条件由太阳能电池所处的制造环境所决定。例如,如 果用于商业,即以生产最具价格优势的电池为目标, 则需要着重考虑制造电池的成本问题。然而,如果只 是用于以获得高转换效率为目标的实验研究,则主要 考虑的便是最高效率而不是成本。
表面制绒有几种方法。一块单晶硅衬底可以沿着晶体表面 刻蚀便能达到制绒效果。如果表面能恰当符合内部原子结构的 话,硅表面的晶体结构将变成由金字塔构成的表面。下图画出 了一个这样的金字塔结构,用电子显微镜拍摄的硅表面制绒。 这种制绒方式叫“随机型金字塔”制绒,通常在单晶硅电池制 造上使用。
右图便是组成单晶 硅太阳能电池制绒表面 的金字塔结构。
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应用光伏学
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§ 4.2.3 光学特性 表面制绒
在硅表面制绒,可以与减反射膜相结合,也可以单独使 用,都能达到减小反射的效果。因为任何表面的缺陷都能增 加光反弹回表面而不是离开表面的概率,所以都能起到减小 反射的效果。
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§ 4.2.3 光学特性 表面制绒
如果镀上多层减反射膜,能减少反射率的光谱范 围将非常宽。但是,对于多数商业太阳能电池来讲, 这样的成本通常太高。
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§ 4.2.2 光学特性 减反射膜
裸硅 (仅)覆盖玻璃的硅
覆盖有折射率为2.3的最优化抗反射膜玻璃的硅
Comparison of surface reflection from a silicon solar cell, with and without a typical anti-reflection coating.
长的四分之一。计算过程如下,对于折射率为n1的薄 膜材料,入射光真空中的波长为λ0,则使反射最小 化的薄膜厚度为
d1=λ0/(4n1) 如果减反射膜的折射率为膜两边的材料的折射率
的几何平均数,反射将被进一步降低。即
n1 n0n2
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§ 4.2.2 光学特性 减反射膜
尽管,通过上面的公式,选用相应厚度、折射率 的膜和相应波长的光,能使反射的光减少到零,但是 每一种厚度和折射率只能对应一种波长的光。在光伏 应用中,人们设计薄膜的厚度和反射率,以使波长为 0.6μm的光的反射率达到最小。因为这个波长的能量 最接近太阳光谱能量的峰值。
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