光谱测试系统(透射、反射、吸收、荧光、PL、拉曼、紫外可见红外)

元 件
□ 宽光谱范围全自动光谱扫描
□ 系统由激发光源部分、样品室部分、分光部分、探测部分、信号采集处理部分、软件部分组成
□ 采用了高通光效率、低杂散光水平的单色仪和优化的光路
光
□ 采用锁相放大器进行信号的处理，大大的提高了系统的信噪比
电
□ 系统经过多年技术积累和客户的成功使用经验，具有很高的可靠性
探
785nm 等
□薄膜厚度测量，厚度范围：10nm-50um，1nm 分辨率
光
□采用氘灯溴钨灯复合光源
学
□自动装载、卸载、定位，每 25 片一包
平
台
光 学 元 件
六、LE-SP-SR 光电探测器光谱响应度测量系统 Spectral Response Measurement System
光
应用范围
电
□本系统专门用于测试光电探测器及各种光电转换材料和器件的光谱响应曲线。针对太阳能电池领域，可以测试太阳能电池的
器
□宽光谱范围，覆盖了紫外可见和红外
□结构设计紧凑，高分辨率
主要规格
光
□光谱范围：200-1100nm（Up to 2200nm 可选）
机
□采用低噪声线阵 CCD，2048 象素
产 品
□适合晶圆尺寸：2 英寸、4 英寸、6 英寸、8 英寸
□多种激光波长可选：266nm、325nm、375nm、405nm、532nm、658nm、
测
□ 采用模块化设计，使用灵活，便于功能扩展和升级
弱
&
□ 可实现样品原位测量
信
□ 可升级做显微的 PL 光谱测试
号
处
□ 可升级做 EL 电致发光测量
理
□ 可升级做电场调制光谱
□ 可升级做透射、反射光谱测试
太 阳
五、PL 谱扫描成像仪 PL Mapping System
能
电 池
PL 谱扫描成像仪 PL Mapping System
1um@442nm（TEM00 Mode，100X 物镜）
光
□PL& Raman 扫描成像可选，可实现 1um 步距的分辨
学
平
□光谱范围：300-500nm（标配）；400-700nm（可选）
台
主要规格
□激光器：30mW@325nm,110mW@442nm,TEM00 模
□分别针对于 325nm 和 442nm 的高性能激光线截止滤光片
测 试
PL 光谱是被大家所接受的一种非接触、非破坏性的材料特性分析手段，并广泛地用于半导体的开发和工序控制。通过晶圆的室
仪
温 PL 谱可以给出合金成分均匀性、材料品质以及在基底、磊晶层、器件结构中的缺陷等重要信息。PL 谱扫描仪广泛用于科研、R&D、
器
生产和质量控制领域。
空间分辨的 PL 光谱也是太阳能电池领域的重要分析工具，特别是开发和生产基于合金的薄膜太阳能电池（如 ClGs or CdTe）
： 光谱仪器 光谱测试系统 Spectral Measurement Systems
光
光谱测试系统 Spectral Measurement System
谱 仪
器
Total Solution 我们致力于为您提供完备的光谱测量解决方案
一、LE-SP-ES 发射光谱／光源测量系统 Emission Spectra and Light Source Measurement System
减少了杂散光的影响
□ 选用高灵敏度探测器光电倍增管和 TE 致冷型铟镓砷探测器
□ 可配合锁相放大器和光学斩波器，极大提高了系统的信噪比
光
机
□ 激发源：氙灯 （另外有氘灯、汞灯、激光器、X 射线等光源可选）
产 品
□ 可同时做激发谱及发射谱,对于未知材料提供了更有效的分析
□ 模块化设计，结构灵活，方便升级
光
七、 LE-SP-Raman 拉曼光谱测量系统 Raman Measurement System
谱 仪
Ramboss 显微拉曼和 PL 谱扫描成像测试系统
器
应用范围
Micro Raman&PL Mapping System
□材料科学、半导体材料等
光
□纳米技术
源
□化学、医药、生物医学
和 激
□碳工业，如碳纳米管的表征和类金刚石薄膜的品质控制
□BX41 显微镜体
光
□显微物镜：40X 紫外物镜；10X 和 100X 可见光近红外物镜； 500mm、750mm 高分辨率的光谱仪可选）
器
理数据，而 PL 谱扫描成像仪可满足客户的这些需要。它通过对激光激发情况的高级控制使 PL 数据与电致发光（EL）测试信息精确
匹配，提升了批次外延层生长的回馈速度，从而可对 LED（尤其是绿光 InGaN LED）的量产进行精确预测。传统绿光 LED 波光的测
量是在加工完晶圆后对其进行电气测量，但 PL 谱扫描成像仪却可在晶圆加工前预言 LED 的性能，为外延片生产工艺优化控制提供
四、LE-SP-PL PL 光致发光测试系统（常温和低温）Photoluminescence Measurement System
光
应用范围
学
□ 测试半导体材料或其它发光特性材料在激光激发下产生的荧光光谱。常见系统采用紫外或近紫外激光激发半导体材料（III-V
平
台
族如 GaN 等，II-VI 族如 ZnO、CdTe 等）产生荧光，或用可见和红外激光器激发稀土掺杂的玻璃或晶体材料产生荧光，通过
2
： 光谱仪器 光谱测试系统 Spectral Measurement Systems
的领域，PL 谱扫描成像仪的应用非常广泛。PL 光谱提供了能带结构和半导体的合金成份的详细信息，通过这些信息，我们可以高精
光 谱
度地分析出缺陷的密度和能级。
仪
随着外延材料产量增加、限度变窄，客户们对测量工具的要求不仅是提供精确的测量，还包括缩短达成良品率所用时间必需的处
光
□宝石、地质和矿物鉴别分析
器
□司法刑侦科学
□艺术品和古董油漆和颜料的分析和修复
□食品科学和食品安全
光
主要特色
机
□325nm UV 激发 PL Mapping
产 品
□442nm 激发显微 Raman 光谱
□两个 CCD 相机用于 1600X 和 10000X 样品监测
□光斑分辨率：1um@325nm（TEM00 Mode，40X UV 物镜）
仪
器
应用范围
□通用的 PL 光谱分析，III-V 族等半导体材料的 PL 光谱分析，荧光光谱测试；
□针对 LD 激光二极管、LED 发光二极管、Epi-Wafer 外延片、太阳能电池等的扫描光谱成像检测；
光
□另外还可以测试薄膜厚度（可选功能）；
源
主要特色
和 激
□高性能，高性价比
光
□高速自动系统（特别适合大规模生产使用）
光 机 产 品
光 学 平 台
光 学 元 件
光 电 探 测 弱 信 号 处 理
太 阳 能 电 池 测 试 仪 器
3
&
： 光谱仪器 光谱测试系统 Spectral Measurement Systems
光 谱
Maple-X 系列 高速 PL 谱扫描成像仪 High Speed PL Mapping System
光
了关键数据反馈。除了 LED，PL 谱成像仪还适用于多种光电子材料（如高密度 DVD 和蓝光光碟用 UV 激光二极管）的制备过程。
源
PL 谱扫描成像仪通过集成的反射光谱仪，我们可以同时测得薄膜厚度图像，因此仅仅一个工具就提供了复杂的材料特性分析。
和 激
光
器
Maple 系列 PL 谱扫描成像仪 Micro/Macro PL Mapping System
球面光学元件光谱分析
太
□ 校正线性度：99.8%
平面光学元件光谱分析仪
阳 能
电
池
测
试
仪
器
&
1
： 光谱仪器 光谱测试系统 Spectral Measurement Systems
光
谱 仪
三 、LE-SP-FL 荧光光谱测量系统 Fluorescence Photometer
器
应用范围
□ 测试材料的荧光发射谱和激发谱。荧光检测技术广泛用于材料科学领域(各种发光材料、荧光粉、半导体材料、稀土材料、
分光辐射度计 Spectroradiometer
光 机
产
品 应用范围
□ LED、灯、光纤输出等辐射源和呈色特性量测；
主要规格及特色
□ 波长准确度：±0.5nm;
光
□ 特色：追溯 NIST 标准，符合各式光源量测应用；
学
平
□ 检测内容：光通量、色度、CIE 色度坐标；
台
□ 光谱范围：380-780nm；
主要规格
□光谱范围：250-1700nm（Up to 2.2um 可选） □系统空间分辨率：约 10um（1um 可选） □适合晶圆尺寸：2 英寸,4 英寸 □工作距离：30.5mm（Z 轴可调） □XY 电动样品台，最大速率：30mm/sec □激光波长可选范围：266-1064nm □各种 ND 滤光片实现激光能量可调范围：2%-99% □含激光线窄带滤光片和截止滤光片
对其荧光光谱的测量，分析该材料的能带结构等特征。
主要规格及特色
□ 测试光谱范围：200—5000nm（可根据要求选择）
光
□ 激光器波长：224nm、248nm、266nm、325nm/442nm、488/514nm、532nm、946nm、1064nm 等可选