CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施
CMOS集成电路闩锁效应的形成机理和对抗措施研究

CMOS集成电路闩锁效应的形成机理和对抗措施研究
钱敏
【期刊名称】《苏州大学学报(自然科学版)》
【年(卷),期】2003(019)004
【摘要】以反相器电路为例,介绍了CMOS集成电路的工艺结构;采用双端pnpn 结结构模型,较为详细地分析了CMOS电路闩锁效应的形成机理;介绍了在电路版图级、工艺级和电路应用时如何采用各种有效的技术手段来避免、降低或消除闩锁的形成,这是CMOS集成电路得到广泛应用的根本保障.
【总页数】8页(P31-38)
【作者】钱敏
【作者单位】苏州大学,电子信息学院,江苏,苏州,215006
【正文语种】中文
【中图分类】TN433
【相关文献】
1.CMOS集成电路闩锁效应抑制技术综述 [J], 董丽凤;李艳丽;王吉源
2.高温CMOS集成电路闩锁效应分析 [J], 柯导明;陈军宁;周国祥;代月花;高珊;孟坚;赵海峰
3.基于CMOS集成电路闩锁效应理论的实践 [J], 樊海霞;朱纯仁
4.CMOS电路结构中的闩锁效应及其防止措施研究 [J], 龙恩;陈祝
5.CMOS集成电路闩锁效应抑制技术 [J], 董丽凤;李艳丽;王吉源
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CMOS电路中的闩锁效应

闩锁效应的简介基于CMOS技术的集成电路,是目前大规模(LSI)和超大规模(VLSI)集成电路中广泛应用的一种电路结构,相对于传统的双极型、NMOS和PMOS集成电路而言,其主要的优点是低功耗、较佳的噪声抑制能力、很高的输入阻抗等。
虽然CMOS电路具有以上众多优点,然而隐含于体硅CMOS(指在硅衬底上制作的CMOS)结构中的闩锁效应不但是CMOS电路的主要失效机理,也是阻碍CMOS 电路集成度提高的主要因素之一。
闩锁效应就是指CMOS器件所固有的寄生双极晶体管(又称寄生可控硅,简称SCR)被触发导通,在电源和地之间形成低阻抗大电流的通路,导致器件无法正常工作,甚至烧毁器件的现象。
这种寄生双极晶体管存在CMOS器件内的各个部分,包括输入端、输出端、内部反相器等。
当外来干扰噪声使某个寄生晶体管被触发导通时,就可能诱发闩锁,这种外来干扰噪声常常是随机的,如电源的浪涌脉冲、静电放电、辐射等。
闩锁效应往往发生在芯片中某一局部区域,有两种情况:一种是闩锁只发生在外围与输入、输出有关的地方,另一种是闩锁可能发生在芯片的任何地方,在使用中前一种情况遇到较多。
CMOS电路闩锁效应的形成机理寄生双极晶体管介绍带有寄生双极型晶体管的N阱CMOS结构剖面图如图1所示。
由图1可以看出,CMOS反相器结构带有纵向的PNP和横向的NPN双极型晶体管。
N阱和P衬底分别起两个作用,N阱既是纵向PNP管的基区,又是横向NPN管的集电区;同样,P衬底既是横向NPN管的基区,又是纵向PNP管的集电区。
在集电极——基极结和集电极接触之间,每个集电区都会产生电压降,它可以用一个集电极电阻来模拟。
在图1中,R S1表示从衬底接触到横向NPN管的本征基区的电阻,R S2表示T1的本征基区到T2集电区的电阻,R W1表示T2的本征基区到T1集电区的电阻,R W2表示从N阱接触到纵向PNP管T2的本征基区的电阻。
图1 N阱CMOS反相器剖面图闩锁效应的触发提取图l中寄生双极晶体管以及寄生电阻,得到如图2所示的四层正反馈PNPN结构。
CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施

CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施CMOS(互补金属氧化物半导体)集成电路是以CMOS技术制造的集成电路的一种。
闩锁效应是指当CMOS集成电路的输入电平处于一些特定范围时,输出电平会被锁定在一些特定状态,不受输入电平的变化影响。
闩锁效应的形成机理主要涉及CMOS技术中的晶体管、电荷积聚效应和电荷泄漏。
在CMOS集成电路中,晶体管是主要的工作元件,分为N型和P型晶体管。
当输入电压达到一定水平时,N型晶体管的栅电压会高于阈值电压,导致导通。
同时,P型晶体管的栅电压会低于阈值电压,导致截止。
然而,当输入电平处于特定范围时,一个P型晶体管的输出电平可能会反向传导至一个N型晶体管的输出端。
这样,输入电平的变化不会在输出端引起电平变化,从而导致闩锁效应的形成。
此外,在CMOS技术中,电荷积聚效应是另一个导致闩锁效应的原因。
由于晶体管的栅电极电容非常小,当输入电平超过一定值时,栅电极的电荷会得到积聚。
随着电荷的积聚,晶体管的截止状态会得到巩固,使其变得更难以改变。
这也会导致闩锁效应的形成。
对于闩锁效应的对抗措施,可以从电路设计上进行优化,以减少或消除闩锁效应。
一种常用的对抗措施是增加输入电阻。
通过增加输入电阻,可以降低输入电平的变化对晶体管输出端电流的影响,从而减少闩锁效应的发生。
另一种对抗措施是使用级联电路设计。
级联电路将多个CMOS晶体管连接起来,使其共同工作。
在这种设计中,晶体管的输出电平受到多个输入电平的影响,而不是单个输入电平。
这可以减小闩锁效应的发生概率。
此外,优化电流和电压的选择也可以减小闩锁效应的影响。
通过调整电流大小和电压水平,可以减少晶体管的栅电极电荷积聚效应,从而降低闩锁效应的发生。
最后,使用更高的供电电压也是一种对抗闩锁效应的方法。
通过增大供电电压,可以提高CMOS集成电路的工作稳定性,从而降低闩锁效应的可能性。
综上所述,CMOS集成电路闩锁效应形成机理与对抗措施主要包括晶体管的工作状态、电荷积聚效应和电路设计的优化等因素。
CMOS电路结构中的闩锁效应及其防止措施研究

Re e r h o t h — u fe ti s a c n La c — p Ef c n CM O S a d t e Pr v n i n n h e e to
LoNG En. CHEN u Zh
( h n d ies yo fr t n T c n lg ,C e g u 6 0 2 , hn ) C e g uUnv ri f nomai eh oo y h n d 12 5 C ia t I o
龙 恩 , 祝 陈
( 成都 信 息工程 学院 , 成都 四川
摘
602 ) 125
要 : MO cl g 论 下器件特征 尺 寸越 来越 小 , C SS a n 理 i 这使得 C S电路 结构 中的 闩锁 效应 日 MO
益突 出。 闩锁是 C S电路 结构 所 固有 的寄 生效应 , 种寄 生的双 极 晶体 管一旦被 外界 条件 触发 , MO 这 会在 电源与地之 间形成 大 电流通 路 , 导致 器件 失 效 。首先 分析 了 C S电路 结构 中效 应 的产 生机 MO 理 及其 触发 方式 , 得到 了避免 闩锁 效应的条件 。然后 通过 对 这 些条件 进 行分 析 , 版 图、 艺等方 从 工Leabharlann 1 1 闩锁 效应 简介 .
闩锁效应就是指 C O 器件所固有的寄生双极 M S
晶体 管 ( 又称 寄 生 可控 硅 , 简称 S R) 触 发 导 通 , C 被
在 电源与地 之 间形成 低 阻抗 大 电流 通路 , 导致 器 件
今 C S成 为 V S 键 工 艺 的 同 时 , 硅 C O MO LI关 体 M S
( 指在硅 衬底上 制作 的 C S 结构 中的 闩锁 效应 成 MO )
CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施

CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施CMOS集成电路闩锁效应(Latch-up)是在一些特定条件下,CMOS集成电路中出现的一种运行异常现象。
它会导致电路无法正常工作,甚至损坏芯片。
对于CMOS集成电路设计和制造而言,了解闩锁效应的形成机理以及对抗措施是非常重要的。
闩锁效应的形成机理主要涉及PNPN结构的象限配置,以及局部正反馈的产生。
CMOS集成电路中的PNPN结构由n型管和p型管组成,分别对应一个npn三极管和一个pnp三极管。
当其中一种条件下,比如供电电压的波动或外部干扰信号,使得pn结上的电流增大,就会激发起正反馈作用,导致三极管一直打开或闭合,形成闩锁效应。
为了对抗闩锁效应,有以下几种常见的对策:1. 提高结深度和扩散方案:通过增加pn结的深度,增加p区和n区之间的区域,减小PNPN结构的面积和容易触发的几率。
此外,改善扩散工艺,使得掺杂浓度更加均匀,有助于减小闩锁效应的发生。
2.加强电源线对地的维护:电源线是造成闩锁效应的一个重要因素。
在设计中,可以合理布局电源线,并采用多个电源接线点,增加供电的稳定性。
此外,还可以增加电容和电感器等器件,来稳定电源线上的电压。
3.降低闩锁敏感结的肖特基二极管串联电阻:闩锁效应主要定位于肖特基二极管的连接区域。
通过加大二极管连接区域的面积,可以使得串接电阻增大,从而降低闩锁效应的发生。
4.引入集成电阻:在PNPN结周围引入集成电阻,可以通过分散电流和电压,避免PNPN结同时触发。
5.添加防护电路:在CMOS集成电路中,可以添加专门的防护电路来对抗闩锁效应。
例如,引入大功率电阻,用于消除过电压激发;引入自动重置电路,用于自动恢复正常工作。
总结来说,闩锁效应是CMOS集成电路中一种可能出现的异常现象,会导致电路无法正常工作。
为了抵御闩锁效应,可以通过加强结深度和扩散方案、提高电源线对地的维护、降低闩锁敏感结的肖特基二极管串联电阻、引入集成电阻和添加防护电路等措施来降低其发生的概率。
闩锁效应及版图设计注意事项

闩锁效应的产生原理
NPN管
PNP管
PNPN结构
闩锁效应原理分析
In
Out
N+ P+ Rwell
P+ Q1N+ N+ Nhomakorabea+
Nwell
Q2
P- epi
P+sub
Rsub
闩锁效应的产生原理
OUT Q1
Rwell 衬底
P阱 Rsub Q2
输入信号不得超过电源电压,防止寄生三极管的发射结正偏,如果超过电源电压,应该加上限流电阻;
产生闩锁效的条件 由于受噪声或外界信号影响使得两个寄生三极管的发射结处于正偏;
存在正反馈条件,即两个寄生三极管的电流放大倍数βNPNβPNP>1;
电源所提供的最大电流大于寄生PNPN结构(可控硅)导通所需要的维持电 流。
工艺设计级抗闩锁措施
闩锁效应的避免措施
外延衬底:将器件制作在重掺杂衬底上的 低掺杂外延层中,降低Rsub.
X 端闩如CM加锁果O限 效 满S流应足管电及处阻版于>来图闩实设锁现计状R,。注态即su意。可b事形项成正Q反2馈回路,一旦正反馈回路形成0,.7此V时即使R外s界u触b发信Q 号消2失,两只触体寄发管生信仍晶体号能管消保仍失持能,导保两通持导只,通寄C,M生O晶S
闩如锁果效 满应足及版>图设计,注正即意常可事形工项成作正状反态馈回路,一旦正反馈回路形成,此时即使闩外界锁触效发应信的号产消生失,两只管寄处生于晶闩体管锁仍状能态保。持导通,
绝缘体硅外延结构(SOI):在表层和衬底之间 加入一层绝缘层,消除寄生PNPN结构,从根本 上避免了闩锁效应。
电路应用级抗闩锁措施
闩锁效应的避免措施
《CMOS集成电路闩锁效应》第一章 引言

《CMOS集成电路闩锁效应》第一章:引言内容简述:主要介绍集成电路工艺制程技术的发展过程,集成电路工艺制造技术从最初的BJT 工艺制造技术发展到CMOS工艺制造技术,同时器件也从最初的BJT发展的MOSFET。
由于体CMOS集成电路中所固有的寄生NPN和寄生PNP会组成的电路,它在一定的条件下被触发而形成低阻通路,从而产生大电流,并且由于正反馈电路的存在而形成闩锁,导致CMOS集成电路无法正常工作,甚至烧毁芯片,通常把该现象称为闩锁效应。
闩锁效应存在于体CMOS集成电路中,它一直是CMOS集成电路可靠性的一个潜在的严重问题,随着CMOS工艺技术的不断发展,工艺技术日趋先进,器件的特征尺寸越来越小,并且器件间的间距也越来越小,集成电路的器件密度越来越大,集成电路的闩锁效应变得越来越严重,特别是在IO电路中。
本章侧重介绍闩锁效应出现的背景和概况。
第一章:引言--------------------------------------------------------------------------------------------1.1 闩锁效应概述--------------------------------------------------------------------------------------1.1.1闩锁效应出现的背景----------------------------------------------------------------------1.1.2闩锁效应简述--------------------------------------------------------------------------------1.2 闩锁效应概况--------------------------------------------------------------------------------------1.3 小结----------------------------------------------------------------------------------------------------1.1闩锁效应概述1.1.1 闩锁效应出现的背景[1]最早出现的集成电路工艺技术是双极型工艺技术,它也是最早应用于实际生产的集成电路工艺技术。
CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施

CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施————————————————————————————————作者:————————————————————————————————日期:2目录摘要: (1)0 前言 (1)1 闩锁效应产生背景 (2)2 CMOS反相器 (2)2.1 反相器电路原理 (2)2.2反相器工艺结构 (3)3 闩锁效应基本原理 (4)3.1 闩锁效应简介 (4)3.2 闩锁效应机理研究 (4)3.3 闩锁效应触发方式 (6)4 闩锁措施研究 (6)4.1 版图级抗栓所措施 (6)4.2 工艺级抗闩锁措施 (7)4.3 电路应用级抗闩锁措施 (9)5 结论 (9)参考文献: (10)III / 13个人收集整理,勿做商业用途CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施摘要:CMOS Scaling理论下器件特征尺寸越来越小,这使得CMOS电路结构中的闩锁效应日益突出。
闩锁是CMOS电路结构所固有的寄生效应,这种寄生的双极晶体管一旦被外界条件触发,会在电源与地之间形成大电流通路,导致器件失效。
闩锁效应已成为CMOS集成电路在实际应用中主要失效的原因之一。
本文以反相器电路为,介绍了CM0S集成电路的工艺结构;采用双端PNPN结构模型.较为详细地分析了CM0S电路闩锁效应的形成机理;给出了产生闩锁效应的必要条件与闩锁的触发方式,介绍了在电路版图级、工艺级和电路应用时如何采用各种有效的技术手段来避免、降低或消除闩锁的形成,这是CMOS集成电路得到广泛应用的根本保障。
关键词: CM0S集成电路;闩锁效应;功耗;双端pnpn结;可控硅Study on the mechanism of Latch-up effect in CMOSIC and its countermeasuresWangxinAbstract: Device channel length become more and more short under CMOS Scaling,such that latch-up effect in CMOS structure is stand out increasingly.Latch—up is a parasitic effect in CMOS circuits.Once the parasitic BJT is triggered,there will be high current from VDD to GND,which makes the chip invalidation. Latch—up phenomenon become the main reason of CMOS IC applied.Based on inverter,the structure of CMOS IC are presented ,The model of pnpn diodeis took to analyze the mechanism of Latch—up effect in CMOS IC. The necessary conditions and the trigger mode of the latch-up are given. Many means are introduced to how to avoid,decrease or eliminate the Latch—up effect in layout,technological process andcircuits application level .It guarantee the wide utilization for CMOS IC.Key words: CMOS IC;Latch—up effect;power dissipation;pnpn diode;thyristor.0 前言CMOS(Complementary Metal—Oxide—Semiconductor)集成电路是目前大规(LSI)和超大规模(VLSI)集成电路中广泛应用的一种电路结构,1963年由万雷(Wanlass)和萨支唐(Sah)提出[]1,它是将NMOS(N沟道MOS)和PMOS(P沟道MOS)组台所形成的逻辑器件.CMOS电路的主要优点是它只有在逻辑状态转换时(例如从0到1)才会产生较大的瞬态电流,而在稳定状态时只有极小的电流流过,当它应用于数字逻辑电路时,功率损耗可以大幅减少,通常只有几个纳瓦[]3,2.当每个芯片上的器件数目增多时,功率消耗变成一个主要限制因素,低功率消耗就成为1个人收集整理,勿做商业用途CMOS电路最吸引人的特色.此外,CMOS结构还有较佳的噪声抑制能力、很高的输人阻抗等特性.相对于传统的双极型、NMOS、PMOS结构的集成电路而言,其优越性是毫无疑问的,随着集成电路复杂度的增加,制造工艺技术由NMOS工艺转到了CMOS工艺对先进集成电路而言,CM0S技术是最主要的技术.实际上,在ULSI(甚大规模集成电路)电路中,唯有CMOS能胜任。
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CMOS反相器为CMOS逻辑电路的基本单元,其结构如图1所示在CMOS反相器中,增强型P沟MOS管与增强型N沟MOS管的栅极连接在一起,作为此反相器的输入端;它们的漏极也连接在一起作为反相器的输出端.N管的源极与衬底接点均接地,而P管的源极与衬底则连接至电源供应端( )。当输人电压为低电平时(即 =0),N管关闭,P管导通,输出端通过P沟道充电至 ;当输入电压逐渐升高,使栅极电压等于Vdd时,N管导通,P管关闭,输出端将通过P沟道放电至零电势可见该结构实现了反相器的功能.
③当出现穿通、场穿通时,低阻通路一般发生在电源和地线之间,或者发生在电源和衬底发生器之间。在源一漏发生雪崩击穿的情况下,低阻通路发生在电源和信号线之间,或者发生在信号线和衬底发生器之间。这些来源于穿通、场穿通或漏结雪崩的电流,一旦PNPN结构的电流达到用取消被激发晶体管旁路电阻形成的三极管结构计算的开关转换电流时,至少会发生瞬时闩锁,若总电流也能达到四极管结构开关转换电流,即闩锁将维持下去 。
CMOS集成电路闩锁效应形成机理和对抗措施
摘
CMOS Scaling理论下器件特征尺寸越来越小,这使得CMOS电路结构中的闩锁效应日益突出。闩锁是CMOS电路结构所固有的寄生效应,这种寄生的双极晶体管一旦被外界条件触发,会在电源与地之间形成大电流通路,导致器件失效。闩锁效应已成为CMOS集成电路在实际应用中主要失效的原因之一。
图2 P阱COMS反相器工艺剖面图
3
3.1闩锁效应简介
闩锁效应就是指CMOS器件所固有的寄生双极晶体管(又称寄生可控硅,简称SCR)被触发导通,在电源与地之间形成低阻抗大电流通路,导致器件无法正常工作,甚至烧毁器件的现象。这种寄生双极晶体管存在CMOS器件内的各个部分,包括输入端、输出端、内部反相器等.
Key words:CMOS IC;Latch—up effect;power dissipation;pnpn diode;thyristor.
0
CMOS(Complementary Metal—Oxide—Semiconductor)集成电路是目前大规(LSI)和超大规模(VLSI)集成电路中广泛应用的一种电路结构,1963年由万雷(Wanlass)和萨支唐(Sah)提出 ,它是将NMOS(N沟道MOS)和PMOS(P沟道MOS)组台所形成的逻辑器件.CMOS电路的主要优点是它只有在逻辑状态转换时(例如从0到1)才会产生较大的瞬态电流,而在稳定状态时只有极小的电流流过,当它应用于数字逻辑电路时,功率损耗可以大幅减少,通常只有几个纳瓦 .当每个芯片上的器件数目增多时,功率消耗变成一个主要限制因素,低功率消耗就成为CMOS电路最吸引人的特色.此外,CMOS结构还有较佳的噪声抑制能力、很高的输人阻抗等特性.相对于传统的双极型、NMOS、PMOS结构的集成电路而言,其优越性是毫无疑问的,随着集成电路复杂度的增加,制造工艺技术由NMOS工艺转到了CMOS工艺对先进集成电路而言,CM0S技术是最主要的技术.实际上,在ULSI(甚大规模集成电路)电路中,唯有CMOS能胜任。
关键词:CM0S集成电路;闩锁效应;功耗;双端pnpn结;可控硅
Study on the mechanism of Latch-up effect in CMOS
IC and its countermeasures
Wangxin
Abstract:Device channel length become more and more short under CMOS Scaling,such that latch-up effect inCMOS structure is stand out increasingly.Latch—up is a parasitic effect in CMOS circuits.Once the parasitic BJT istriggered,there will be high current from VDD to GND,which makes the chip invalidation.Latch—up phenomenon become the main reason of CMOS IC applied.
2.2反相器工艺结构
图2为P阱CMOS反相器的工艺剖面图 。为了在CMOS应用中能同时将P沟道与N沟道MOSFET制作在同一片芯片上,需要将两管隔离.采用一额外的掺杂及扩散步骤在衬底中形成阱并施以反偏电压可起到隔离作用。阱中的掺杂种类与周围衬底不同,典型种类有P阱、N阱以及双阱.图2为使用P阱技术制作的CMOS反相器的剖面图.在此图中,P沟道与N沟道MOSFET分别制作于N型硅衬底以及P阱之中.
图3 图2的P阱结构的等效图图4PNPN双端器件的正向电流电压特性
在通常情况下, 和 之间产生一个阱—衬底PN结隔离,只有很小的二极管电流从之间流过。但当CMOS集成电路接通电源后,在一定的外界因素触发下(如大的电源脉冲干扰或输入脉冲干扰,特别是在辐射条件下), 和 之间产生一个横向电流 ,从而使P沟道MOSFET源区 周围的N型衬底电位低于p+源区。当这个电位差达到一定程度时(大于0.7V时,相当于对PNP管注入基极电流),横向PNP管将导通进入放大区。同样,P阱内的横向电流IRw产生压降使寄生的纵向NPN晶体管也导通进入放大区(相当于对NPN基极注入电流),这样就形成了一个正反馈的闭合回路,此时在外界的触发消失,在 和 之间也有电流流过,这就是在外界触发条件下闩锁效应形成的过程。由上述分析可知,CMOS电路寄生的双端PNPN器件,相当于一个由噪声引起的兼有电压触发和门级电流触发的可控硅器件。串联电阻Rs和Rw越大越容易引起闩锁,下面给出门级电流触发闩锁的条件。假设PNP晶体管的共射级放大倍数为 ,NPN晶体管的共射级放大倍数为 ,根据射,集,基的电流关系有 :
双端PNPN结有如图4所示的负阻特性,该现象就称为闩锁效应 .即双端PNPN结在正向偏置条件下,器件开始处于正向阻断状态,当电压达到转折电压 时,器件会经过负阻区由阻断状态进入导通状态.这种状态的转换,可以由电压触发( =0),也可以由门极电流触发( ≠O)实际电路工作时,闩锁主要归因于后者.由图可见,门级触发可以大大降低正向转折电压 。电路进人正向导通后,只要电路中的电流大于维持电流 ,器件将一直处于正向导通状态.一旦电流小于 ,器件将按原路恢复到正向截止状态.
本文以反相器电路为,介绍了CM0S集成电路的工艺结构;采用双端PNPN结构模型.较为详细地分析了CM0S电路闩锁效应的形成机理;给出了产生闩锁效应的必要条件与闩锁的触发方式,介绍了在电路版图级、工艺级和电路应用时如何采用各种有效的技术手段来避免、降低或消除闩锁的形成,这是CMOS集成电路得到广泛应用的根本保障。
②以使通过阻塞结的电流能达到定义的开关转换电流的水平。一般来说,双极管的导通都是由流过一个或两个发射极/基极旁路电阻的外部激发电流所引起的。
③偏置电源和有关的电路,必须能够提供至少等于PNPN结构脱离阻塞态所需的开关转换电流和必须能提供至少等于使其达到闩锁态的保持电流。
3.3闩锁效应触发方式
①输入或输出节点的上冲或下冲的触发,使第一个双极型晶体管导通,然后再使第二个双极型晶体管导通。当流人寄生PNPN结构的总电流达到开关转换电流时,闩锁就发生 。
②当流过阱一衬底结的雪崩电流、光电流及位移电流,同时通过两个旁路电阻 、 时,旁路电阻较大的晶体管先导通。然而要使闩锁发生,第二个双极型晶体管必须导通。同时通过PNPN结构的总电流必须达到开关转换电流 。
尽管CMOs结构的电路有众多优点,但它并非完美无缺.比如,它的工艺要求比NMOS复杂(需要额外的阱形成技术)、器件占用硅片面积比较大(相对于NMOs而言,难以小型化)更主要的是,CMOS结构会形成电路的闩锁 (又称闭锁、自锁、闸流效应),这是CMOS电路与生俱来的寄生效应,它会严重影响电路的功能,造成电路功能混乱甚至电路根本无法工作或烧毁.这是早期CM0S技术不能被接受的重要原因之一.
图1 CMOS反相器结构图
CMOS反相器的重要特性是,当输出处于逻辑稳态(即 或 )时,两个MOS管中仅有一个导通,因此由电源供应处流到地端的电流非常小,相当于器件关闭时的漏电流。事实上,只有在两个状态切换的极短时间内,才会有大电流流过(此时电路工作在放大区)因此与其它种类如N沟道MOSFET、双极型等逻辑电路相比,其稳态时的功率损耗非常低 。
Based on inverter,the structure of CMOS IC are presented,The model of pnpn diodeis took to analyze the mechanism of Latch—up effect in CMOS IC.The necessary conditions and thetrigger mode of the latch-up are given.Many means are introducedto how to avoid,decrease or eliminate the Latch—up effect in layout,technological process andcircuits application level.It guarantee the wide utilization for CMOS IC.
若 >1,则 。
这样,两个寄生晶体管同时工作,形成正反馈回路,加深可控硅导通,一股大的电流将由电源流向接地端,导致一般正常电路工作中断,甚至会由于高电流散热的问题而烧毁芯片。
CMOS电路中的寄生双极型晶体管部分出现闩锁,必须满足以下几个条件 :
①电路要能进行开关转换,其相关的PNPN结构的回路增益必须大于1。
3.2闩锁效应机理研究
CMOS电路的阱结构最主要的问题在于闩锁现象,它是由寄生的PNPN双端器件在一定的条件下形成的 。闩锁往往发生在芯片中某一局部区域,有两种不同的情况:一种是发生在外围与输入/输出有关的地方;另一种是发生在芯片的任何地方(如由辐射引起的闩锁),实际应用中较常遇到的是前一种情况。