某LED芯片产业项目废水处理工艺设计及改进措施

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浅谈半导体行业生产废水处理

浅谈半导体行业生产废水处理

浅谈半导体行业生产废水处理作者:李春平来源:《中国科技博览》2017年第03期[摘要]近些年随着经济水平的逐渐提高,我国各项发展项目正在进行积极稳定的开展,这对于国家现代化建设具有积极的影响作用。

在国家的发展过程中,半导体行业是受到较为重视的一项内容,但是在半导体快速发展与进步的同时,还存在一些有待进一步解决的问题。

其中半导体行业生产废水处理就是我国下一阶段需要进行解决的基本内容,只有将废水处理进行必要的完善,才能使我国半导体行业的生产竞争能力更强。

本研究将对我国半导体行业生产废水处理进行细致的分析与思考,并提出合理的解决措施。

[关键词]半导体行业;生产废水处理;含氟废水;含铜废水;含氨废水中图分类号:271.7 文献标识码:A 文章编号:1009-914X(2017)03-0249-01前言:在我国发展的过程中,半导体行业是新出现并快速进步的一个生产行业,半导体在我国建设中具有重要的作用,主要应用于电子机械制造中。

提高半导体行业的生产水平对于我国未来的发展具有重要的意义,半导体在未来将会显著的扩大应用范围。

目前半导体行业生产中所产生的废水主要有三大类,含氟废水、含铜废水以及含氨废水,这三种废水对于我国生态环境均具有较为严重的影响,所以加强半导体行业生产废水处理是我国未来发展中的基本目标。

1.我国半导体行业生产废水处理的基本概况1.1 我国半导体行业生产废水处理的背景在我国发展初期经济水平处于较为落后的状态,与其他发达国家相比具有较大的差距,所以这使得我国发展速度以及生产水平均处于较为落后的状态。

近几年随着经济水平的不断好转,我国现代化建设正在积极稳定的进行,在现代化建设中出现了一批又一批新的生产行业,其中半导体行业就是其中一种重要的发展行业。

半导体行业在进行生产的过程中会随着产生一定的废水,废水中主要存在半导体生产过程中的原料元素,例如氟、铜、氮等,这些元素过量排放入河流中会使水源受到较为严重的污染,所以进行半导体行业生产废水处理成为我国面临的一项重要问题。

论三星半导体公司闪存芯片生产废水处理工程

论三星半导体公司闪存芯片生产废水处理工程

论三星半导体公司闪存芯片生产废水处理工程笔者在本文结合三星(中国)半导体有限公司闪存芯片生产过程中产生废水的特点,采用“水质分质—混凝—酸化—厌氧反应器—A/O—MBR—芬顿氧化—混凝”的工艺方法进行废水处理。

本文将像简单阐述废水处理过程中的分质预处理、深度处理流程的工艺流程和工艺设计内容。

实际处理结果表明这种废水处理方法效果理想,经过处理的废水水质优于国家排放标准。

标签:芯片生产废水;分质预处理;深度处理;中水回用引言伴随电子产品的快速发展,三星芯片产业发展迅速,产量快速增长,产量的提高也增加了废水排放。

制造芯片所产生的废水和大部分生活污水、工业废水不同,芯片废水中含有大量纳米级微小颗粒、有机物等成分,处理难度大,污染严重。

为了减小芯片废水产生的污染,芯片公司通常会把废水进行处理后再进行排放。

污水处理不仅增加了企业运行成本,更是增加了污水处理厂的处理负担,因此为了提高废水处理的效益,降低废水的污染,三星采用了先物化预处理、再生化深度处理的新型组合工艺来处理芯片生产废水。

一、芯片废水处理工程简介1、废水水质、水量经过化验可知芯片废水主要被划分为:含铜废水、有机废水、含氟废水、酸碱废水。

结合芯片废水的可生化性较差,因此在进行芯片废水处理时我们采用“水质分质—混凝—酸化—厌氧反应器—A/O—MBR—芬顿氧化—混凝”的办法,可以提高芯片废水的可生化性。

2、排放标准查阅相关资料可知芯片废水经过处理后当中的COD、氟化物及氨氮含量标准为:COD≤300 mg/L、氟化物≤20 mg/L、总铜≤0. 5 mg/L、氨氮≤25 mg/L、pH 值为6 ~9。

二、工艺设计1、分质预处理为了减轻芯片废水处理过程中生化工艺的复核,保证芯片废水处理效果到达标准,因为在芯片废水处理的一开始我们要将芯片废水进行分质预处理。

芯片废水中的含铜废水处理方法有化学沉淀法、离子交换法、电解法等。

这三个方法中化学沉淀法因为其投资小,处理成本低的优点被大部分企业采用。

芯片废水深度处理工艺

芯片废水深度处理工艺

芯片废水深度处理工艺主要包括以下步骤:
1.预处理:通过物理或化学方法去除废水中的大颗粒物质、油脂
等杂质,以减轻后续处理的负担。

2.混凝沉淀:加入混凝剂(如PAC、PAM等),使废水中的悬浮物、
胶体物质等聚集成大颗粒沉淀下来,从而降低废水的浊度和悬
浮物含量。

3.酸碱中和:通过加入酸或碱,调整废水的pH值,使其呈中性
或接近中性,以便进行后续处理。

4.深度处理:采用高级氧化、生物处理、膜分离等技术,进一步
去除废水中的有机物、氨氮、重金属等污染物。

其中,高级氧化技术包括芬顿氧化、臭氧氧化等,可以破坏有机物的结构,使其更易于生物降解;生物处理技术则利用微生物的代谢作用,将有机物转化为无害物质;膜分离技术则通过物理筛分作用,去除废水中的悬浮物、溶解物等。

具体工艺的选择需要根据废水的性质、处理要求以及当地的环境保护要求来确定。

在实际应用中,可能需要根据实际情况对工艺进行调整和优化,以达到最佳的处理效果。

某半导体电子元器件项目废水系统设计方案分析

某半导体电子元器件项目废水系统设计方案分析

某半导体电子元器件项目废水系统设计方案分析【摘要】:某半导体电子元器件项目生产过程中产生一般清洗废水、一般有机废水、含银废水、含氰废水、含镍废水、脱银废水、含铜废水、废气处理废水及冷却塔废水9种废水,废水分质收集,部分处理后回用。

园区设置有效容积不小于810m³的事故应急池,截存事故废水。

同时,污水和雨水总管出园区前设置切换阀,事故状态下,紧急切换阀门,将截存的废水收集至事故应急池,以保障事故废水不外泄,达到环保相关要求。

【关键词】:半导体废水;分质处理;废水收集;事故应急池1项目概况该项目建设地点位于安徽省某市,占地面积18938.72㎡,建筑面积32284.30平方米。

项目新建年产1亿条蚀刻引线、3000万条冲压类引线和700万件金属掩膜板生产线,单位作业面积产值约3万元/平方米。

主要建筑有主厂房(丙类)、化学品库(甲类)、废水处理站、综合楼等。

该项目产生9种工艺废水,废水总排放量为1915m³/d,一旦泄漏,将对地下水和土壤等带来严重影响;另外,如处置不当,遇明火后可能引发严重的火灾或爆炸[1]。

2排水方案设计园区内雨、污分流,废水分类收集、分质处理。

该项目排水主要是生产废水、生产废液和员工办公污水。

生产废水包括一般清洗废水、一般有机废水、含银废水、含氰废水、含镍废水、脱银废水、含铜废水、废气处理废水及冷却塔废水。

一般清洗废水及有机废水部分回用,剩余废水进入综合废水处理系统处理达标后经市政污水管网排入污水处理厂;含银、镍、氰废水全部回用于对应的生产线;电镀废水经回收利用后,浓液进入蒸发系统,结晶盐作为危废,委托有资质单位处理。

含铜废液经铜电解系统回收铜后,剩余废液输送至综合废水处理系统处理;显影废液、脱膜废液、碱性废液、除油废液、一般有机废液经预处理后,进入污水处理站综合废水处理系统处理;含氰废液及含氰废气处理系统更换浓水经破氰系统处理后进入 MVR蒸发系统;含银废液、脱银废液经银电解系统处理后进入 MVR 蒸发系统;含锡废液、含镍废液进入 MVR 蒸发系统;MVR 蒸发系统蒸馏水回用于生产线,产生的结晶盐作为危险废物交有资质单位处置。

集成电路芯片生产废水氨氮处理工艺_钟鸣

集成电路芯片生产废水氨氮处理工艺_钟鸣

由于工农业的发展、人口增加及城市化水平 不断加快,大量含氨氮(NH3-N)的生活污水和工 业废水被排入天然水体中。存在于水中的NH -N对
3
人体和水生物均有一定的毒害作用,相关文献曾报 道对鱼类的致毒剂量为 2.6×10-2 mg/L。氨氮还是高 耗氧性物质,每毫克 NH3-N 氧化成 NO3--N 要消耗 4.57 mg 的 DO,较高的氨氮浓度会直接导致水质 的黑臭。作为一种无机营养物质,NH3-N 还是引起 海洋、湖泊、河流及其它水体富营养化的重要原因。
硝化槽:在此单元中曝气量是非常重要的, 本系统采用的是鼓风曝气系统。充氧和混合是通过 曝气设备来实现,曝气的好坏决定了活性污泥法的 能耗和处理的效果。要达到好的处理效果,选择 的曝气设备应与曝气池的构造相匹配。传统的鼓风 曝气系统是由空气净化器、鼓风机、空气输配管 系统和浸没于混合液中的扩散器组成,扩散器是整 个鼓风曝气系统的关键部件,它是将空气分散成空 气泡,增大空气和混合液之间的接触界面,将空
1 工艺流程及设备
该生化处理采用的是两组并列进水的氨氮生化 处理工艺,主要设备包括氨氮排水中和槽、氨氮 排水中继槽、活性炭塔、脱氮槽 1、硝化槽、脱 氮槽 2、再曝气槽和生物沉淀槽,最终 PH 调整槽 和监视槽,以及相配套的搅拌机,曝气风机和输 送泵等设备。该例生化法氨氮废水处理系统采用甲 醇为碳源,废磷酸为营养液,用 NaOH 和硫酸来
The Treatment of Ammonia Nitrogen Effluent Discharged from IC Production
Zhong Ming
Abstract The treatment and operation management of ammonia nitrogen effluent discharged form IC production by means of biochemical activated slurry was explained. Keywords Ammonia nitrogen effluent; Biochemical activated slurry system; Nitrofication; Denitrification

污水处理技术方案

污水处理技术方案

半导体有限公司废水处理技术方案二○一○年十月十五日一、工程概况随着国家半导体照明工程的发展,国内LED产业具有广阔的发展前景。

目前LED正处于半导体照明应用的初期,它被广泛地用于大屏幕显示、交通信号灯、手机背光源等,并开始应用于城市美化亮化、景观灯、地灯、手电筒、汽车用灯、指示牌等特殊照明领域。

随着单个LED光通亮和发光效率的提高,即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LCD显示器背光源等市场广阔。

拟建项目一期工程,将安装30台MOCVD设备及芯片生产配套设备,形成外延片72万片/a(蓝、绿光),芯片150亿粒/年的生产能力。

本方案供各位领导、专家审定,不足之处敬请批评指正。

二、设计依据1、原水水量分析各类生产废水水量:氨氮废水35m3/d;酸性废水15m3/d。

2、原水水质分析根据业主提供的资料,参考相似生产工艺废水水质,该类废水主要水质指标估计如。

3、排放执行标准根据相关部门关于本项目环境保护设施的要求,处理后出水水质应达到六圩污水处理厂接管标准。

三、工艺设计1、设计依据1.1 业主的《设计委托书》;1.2 建设单位提供废水水量、水质数据及其它相关资料;1.3 环保部门对污染治理的指示与要求;1.4 《室外排水设计规范》(GBJ14-87)有关规定;1.5 《污水综合排放标准》(GB8978-1996)有关规定;1.6 环境工程手册《水污染防治卷》相关设计参数与技术要求。

1.7 《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002);1.8 《建筑给水排水设计规范》(GBJ15-88);1.9 《给水排水管道工程施工及验收规范》(GB50268-97);1.10 《建筑设计防火规范》(GBJ16-87,2001版);1.11 有关土建、电气设计规范。

2、设计原则本方案设计的主要原则:2.1 执行国家关于环境保护的基本国策,遵守国家有关法规、政策、规范和标准;2. 2 根据原有构筑物特点和进水水量水质特征,采用国内外技术先进可靠、高效节能、管理方便的污水处理工艺。

电子制造企业废水处理技术改进

电子制造企业废水处理技术改进

电子制造企业废水处理技术改进随着电子制造工业的迅速发展,废水处理问题也日益凸显出来。

电子制造企业在生产过程中产生的废水含有大量有害物质,如果不加以适当处理,将对环境造成严重污染。

因此,电子制造企业需要不断改进废水处理技术,以实现废水资源化利用,减少对环境的影响。

一、问题概述电子制造企业废水处理存在的主要问题包括废水中有机物和重金属离子含量高,废水中的酸和碱性物质浓度大,以及处理技术相对成熟度不高等。

二、改进方案1. 废水预处理针对废水中的有机物和重金属离子含量高的问题,可以采用物理化学方法进行预处理。

通过沉淀、吸附、离子交换等方法,将废水中的有机物和重金属离子去除或减少至合理范围。

2. 中和处理废水中酸性或碱性物质浓度大的问题可以通过中和处理来解决。

将废水中的酸性物质与碱性物质按适当比例混合,使其中和,达到中性水平,减少对环境的危害。

3. 微生物处理在废水处理中引入微生物技术,可以有效降解废水中的有机物质。

通过微生物的生理代谢作用,将废水中有机物质转化为非有机物质,达到废水去除有机物的目的。

4. 膜分离技术膜分离技术是一种高效的废水处理技术,通过超滤、微滤、纳滤等膜处理方法,将废水中的溶解物、悬浮物和胶体颗粒进行分离,实现废水的净化和回收利用。

三、改进效果采用上述改进方案后,电子制造企业废水处理技术将得到显著改进。

废水中的有机物和重金属离子将得到有效去除或减少,减轻对环境的污染。

同时,废水中的酸碱性物质得到有效中和,减少对水体的损害。

微生物处理和膜分离技术的应用,将大大提高废水处理的效率和废水回收利用率。

四、改进前的问题与现状在电子制造企业废水处理过程中,由于技术条件的限制以及处理设备的老化,废水处理效果不佳,无法彻底去除有机物和重金属离子。

废水中酸碱性物质的pH值不稳定,难以达到中性水平。

处理过程中存在高耗能、排放二次污染等问题。

五、改进后的技术应用通过废水预处理、中和处理、微生物处理和膜分离技术的应用,可以实现废水处理过程的高效处理和资源化利用。

怎么处理半导体(LED)废水

怎么处理半导体(LED)废水

怎么处理半导体(LED)废水
1、国内LED产业具有广阔的发展前景,LED半导体照明应用,广泛地用于大屏幕显示、交通信号灯、手机背光源等,并开始应用于城市美化亮化、景观灯、地灯、手电筒、汽车用灯、指示牌等特殊照明领域。

随着单个LED光通亮和发光效率的提
LED
2、
3、
4、酸碱废水排放:主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水,采用化学中和法处理。

含砷废水:主要来自背面减薄及划片/分割工序,采用化学沉淀法处理。

一般废水:排放方式均为连续排放,主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类,采用生化法去除。

含氟废水:主要清洗废水中含有HF,使用混凝沉淀去除。

5
5.1、
PH值
处理工艺
酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应,达到工艺要求后进入有机废水调节池。

人工收集到含氟废水收集池,加药剂进行沉淀。

上清液达标排放,污泥排入污泥浓缩池处理。

利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能,向池内投加厌氧性水解菌,池
内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质,为后继处理单元提供部分水解处理服务。

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2)含氟 废水 :调节 池 +两 级 反应 池 +两 级 中 和
LED芯 片 产业 项 目产 生 的废 水 主 要 有 :酸 碱 废 水 、 池 +沉淀池 +排放 水池、有 机 废 水 等 ;另外 ,超 纯 水 制
3)含磷 废水 :调节 池 +两 级 反应 池 +两 级 中 和
和有 机 溶 剂 等 ,进 入 废 水 的 有 尘 埃 颗 粒 、有 机 溶
1)酸 碱 废 水 :调 节 池 +两 级 中 和 池 +排 放 水
剂 、金属 离 子 、无 机 酸 等 ;蚀 刻 工 艺 进 人 废 水 的 有 池 。
蚀 刻 液 (AL蚀 刻 液 )、无 机 酸 (氢 氟 酸 )等 。因 此 ,
1)废水 收集 系统采 用 密 闭管 路 输 送 ,当 产线 发 生事 故排放 时 ,废 水 均 通过 废 水 收集 系统 输送 至调 节池 暂存 ,纳人 废水处 理系统 统 一处理 。
2)废水 调 节 池 可容 纳 厂 区 2h废 水 产 生 量 ,相 应还 设计 了应 急池 ,应 急池 暂存 能力不 小 于 4h。
第 29卷 第 1期 2013年 1月
甘肃 科技
Vo1.29 No.1
Jan. 20l3
某 LED芯 片 产 业 项 目废 水 处 理 工 艺 设 计 及 改 进 措 施
尹 军 喜
(上 海 东 振 环 保 工 程 技 术 有 限 公 司 ,上 海 201203)
摘 要 :半导体技术 的飞速 发展是 当今世界高新技术产业 的一个趋势 ,国家近年来一 直 支持 和鼓励 LED产业 发展。 随着我 国产业结构调整 ,发展方式转变进程的加快 ,LED产业项 目呈东到长三 角地区 、西 到成 渝地 区、南 到珠三角 地 区 、北到环渤 海湾地区的布局。LED产业项 目投入运行 的同时也给该 地区带来 了环境影 响 ,生产过 程中产生 的废 水 需经过完善的工艺进行处理 ,并坚持 国家环保要求 的“清洁生产 ”、“达标排 放”、“总 量控 制”的原则。在此主要介绍 了一种 LED芯片产业项 目的废水 处理 工艺 设计及一些改进措施 。 关键词 :LED芯片产业项 目;废水处理 ;工 艺设计 ;改进措施 中 图 分 类 号 :TN312.8
处理 不 达标 时设 事故 回流重新 处理 ,确保 达 标排放 。 5)废水 处理 系统 均设 置 了 N+1方式 的 设备 备
用 ,一旦 设 备 出现故 障立 即启动 备用 泵 。
2 改进措施
2。1 废 水 系统 归类 改进 实 际运行 发 现超 纯水 制备 站 的多介 质过 滤器 反
溶剂 洗 涤 产生 少 量 有 机 废水 );针对 这 几 种 废水 选
超纯水 制 备站 的多介质 过 滤器反 洗排水 进入 了
择合 适 的废 水 处 理 工 艺 进 行 处 理 ,出 水 排 至 市 政 酸 碱废水 系统 一并处 理 ,混床 再 生 废 水进 人 了有 机
污水 厂 收 纳 。
由表 1可 知 ,废 水站 污染 物经 处理后 ,排放 浓度 达 到污水 处理 厂 进水 水 质 的 相应 要 求 ,可 纳 入 污水 处 理厂 处理 。 1.3 废 水处 理事 故控 制 策略
本 项 目的废 水处 理站 作为公 辅 系统 为 生产线 保 驾 护航 ,需确 保事 故 的风 险控制 ,同 时不能 影响 下游 接 纳系统 的正 常 运行 ,控 制策略 主要 如下 :
洗 排水 进人 了酸 碱 废 水 系统 存 在 一 定 问 题 ,有 时 水 质 发黑 。经 测量 为 多介 质 过 滤 器 的无 烟 煤 滤 料 清 洗 带 人废 水 ,而酸 碱 系统没 有沉淀 等 功能 ,无法 确保 出 水 水质 ,因此 ,多介质 过 滤器 的反洗 水可 归 为含 氟系 统 经絮 凝 沉淀后 再 达标 排 放 。实 际 运 行 还 发 现 ,当 多介质 过 滤器 的无 烟 煤 滤料 为新 添 加 滤 料 时 ,初 期 反 洗水 排 污三 、四 次均为 水质发 黑 ,后期 排污 达到 废 水 站 出水水 质 范 围 ,因此 ,多介 质过 滤器 反洗 水还 设 置 了一 支 管路 可直接 接至 排放水 池 达标排 放 。 2.2 废水处 理 工艺流 程 改进
LED芯 片制 造 主 要 工 艺 有 “清 洗一 蒸 镀 一 光
某 LED芯 片 产业 项 目产 生 的酸 碱 废 水 (A/A
刻一 蚀 刻 一 性 能 中测 一 补 底 一 切 割 一 检 验 ”等 步 Ww)、含 氟废水 (HF ww )、含磷 废 水 (AL ww )、有
骤 。其 中 ,清 洗工 艺 消 耗 超 纯 水 ,并 添 加 化 学 试 剂 机废水 (ORG ww),采 用 的处理 工艺流 程如 下 :
备 站 排 污废 水 主 要 有 :多 介 质过 滤器 反 洗 排 水 、混 池 +沉淀池 +排放 水池 。
床再生 废水 、RO浓缩 水用 于废 气洗 涤后 的排 水
4)有机 废水 :调节 池 +两级 中和池 +厌 氧 池 +
(氢 氟 酸废 气 洗 涤产 生 少量 含 氟 废 水 、挥 发性 有 机 好 氧池 +絮凝沉 淀池 +排放 水池 。
废 水系统 一并处 理 。
1 废水处理工艺设计
1.2 废水 污染 物处 理率 废 水站 进 水浓 度 、排 放浓 度 及 市政 污 水厂 进 水
1.1 废水 处理 工艺 流程
指 标对 比,见 表 1。
表 1 废 水 站 进 水 浓 度 、排 放 浓 度 及 市 政 污 水 厂进 水 指 标 对 比
3)废水 处理设 备 按 正 常用 电和 应 急用 电 分类 , 设置 了双 电源 ,应 急 电在 20s内启 动 ,确保 关键 设 备
第 l期
尹 军喜 :某 LED芯片产 业 项 目废 水处 理工 艺设 计及 改 进措施
37
不 断电 。 4)采用 了无 人 值守 全 自动在 线 控 制 方 式 ,系 统
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