有机合成化学3-基团的保护与基团的反应性转换
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大学有机化学有机合成全面总结
OH
α -氰 醇
α -羟 基 酸
应用范围：醛、甲基脂肪酮 、C8以下环酮
2. 增加二个碳原子的反应
R MgX + CH2 CH2 O
R CH2CH2 H3O+ RCH2CH2OH OMgX
3. 增加多个碳原子的反应
① R-C CH NaNH2 R-C CNa R/X R-C C-R/
其中：R/ 为伯卤代烃 X 为Cl、Br、I
H2O / OH- PX3 Mg
NH3 R-NH2
R-MgX
R-X
① ②
CO2 H3O+
R-COOH
H3O+
NaCN
R-CN
R-NH2 R-NHR
[H]
R-CH2NH2
R-X
R-NR2
2. 羧酸及其衍生物的转换
R-COCl
NH3
R-CONH2
R/OH
R-COOH
NH3
R-COOR/
R/OH
(RCO)2O
H2SO4 H2O
① (BH3)2 ② H2O2 /
OH-
R-CH-CH3（符合马氏规则） OH
R-CH2CH2OH（反马氏规则）
[H]
② R-C=O H（R/） [ O ]
R-CH-OH H（R/）
[ H ] = LiAiH4 、NaBH4 、 H2 / Ni、Pt、Pd等
③ R-COOR/ [ H ] R-CH2OH + R/OH [ H ] = LiAiH4 、C2H5OH + Na 、 H2 / Ni、Pt、Pd等
R-NH2
● 碳环的合成
① 双烯合成（D-A反应）
X△
-X
有机合成课件保护基团
要点二
详细描述
在有机合成中，酮是一种常见的反应物和产物，但它的羰 基容易受到氧化和还原等反应的影响。为了保护酮的羰基 ，可以使用各种保护基团，如甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧 羰基等。这些保护基团可以与酮形成稳定的化学键，从而 避免酮参与不必要的反应。
THANKS
谢谢
详细描述
在有机合成中，羧酸是一种常见的反应物和产物，但它的羧基容易受到脱羧和氧化等反应的影响。为了保护羧酸 ，可以使用各种保护基团，如甲酯、乙酯、丙酯等。这些保护基团可以与羧酸形成稳定的化学键，从而避免羧酸 参与不必要的反应。
醛基保护基团的应用实例
总结词
醛基保护基团能够保护醛免受氧化和还原等反应的影响。
保护。
硅氧基
如三甲基硅氧基，常用 于醇的保护，易于脱去
。
磷酸酯基
如磷酸三乙酯、磷酸三 丁酯等，适用于醇的保
护，并可耐强酸。
氨基保护基团
乙酰基
常用于伯胺的保护。
苯磺酰基
适用于仲胺和叔胺的保护，可 在酸性条件下脱去。
甲磺酰基
适用于仲胺的保护，可在酸性 条件下脱去。
丙酮肟基
适用于伯胺的保护，可在酸性 条件下脱去。
羧基保护基团
甲酯基
常用于羧酸的保护，可在碱性条件下脱去。
苯甲酯基
适用于不活泼羧酸的保护，可在碱性条件下 脱去。
乙酯基
适用于羧酸的保护，可在碱性条件下脱去。
氨基甲酸酯基
适用于羧酸的保护，可在酸性或碱性条件下 脱去。
醛基保护基团
烯丙基
常用于醛的保护。
苯甲酰基
适用于醛的保护，可在酸性条件下脱 去。
乙酰基
亲核加成反应
在形成氮-保护基团时，通常发 生亲核加成反应，即试剂进攻有 机物中的硝基、磺酸酯等基团，
现代有机合成中的保护基
R O O ＋HX －HX R H O
+
O X－
R O
O ＋ H
C
+
X－
但 是 各 种 保 护 基 的 典 型 的 脱 除 条 件 也 有 区 别。 三 苯 甲 基 醚 (Trityl) 在 弱 酸 性 条 件 下 可 以 除 去, 但 是 实 践 中 有 一 个 缺 点 是 往 往 反 应 不 干 净, 存 在 碳 正 离 子 的 副 反 应, 需 要 一 些 辅 助 试 剂, 如 还 原 剂 Et3SiH 等； 苄 基 酯 和 醚 的 酸 性 断 裂 需 要 HBr-HOAc； 叔 丁 基 醚、 酯 和 氨 基 甲 酸 酯 需 要 CF3COOH-CH2Cl2 体 系 等。 C-O 键 的 断 裂 也 并 不 一 定 要 经 过 碳 正 离 子 阶 段， 例 如 Lewis 酸 对 碳 氧 键 的 断 裂。 惰 性 的 甲 基 醚 用 TMSI10，BBr3 或 BF3-thiolane 可 以 较 好 地 去 保 护。 芳 香 体 系 中， 在 甲 基 醚 共 同 存 在 时， 异 丙 基 醚 可 以 用 BCl3 选 择 性 除 去11。
有 机 合 成 中 的 保 护 基
19
第 三 章
有 机 合 成 中 的 保 护 基
本 章 将 主 要 介 绍 官 能 团 的 保 护， 包 括 醇 羟 基、 二 醇、 醛、 酮、 羧 酸、 氨 基 和 碳 碳 不 饱 和 键 等 的 保 护 和 去 保 护。 对 某 些 情 况 下 多 官 能 团 的 选 择 性 上 保 护 和 去 保 护 在 这 里 也 将 作 一 些 简 要 介 绍。
H MeO 68% H H OTMS O O NaI, TMSCl MeCN, rt HO H OH O O
+
O X－
R O
O ＋ H
C
+
X－
但 是 各 种 保 护 基 的 典 型 的 脱 除 条 件 也 有 区 别。 三 苯 甲 基 醚 (Trityl) 在 弱 酸 性 条 件 下 可 以 除 去, 但 是 实 践 中 有 一 个 缺 点 是 往 往 反 应 不 干 净, 存 在 碳 正 离 子 的 副 反 应, 需 要 一 些 辅 助 试 剂, 如 还 原 剂 Et3SiH 等； 苄 基 酯 和 醚 的 酸 性 断 裂 需 要 HBr-HOAc； 叔 丁 基 醚、 酯 和 氨 基 甲 酸 酯 需 要 CF3COOH-CH2Cl2 体 系 等。 C-O 键 的 断 裂 也 并 不 一 定 要 经 过 碳 正 离 子 阶 段， 例 如 Lewis 酸 对 碳 氧 键 的 断 裂。 惰 性 的 甲 基 醚 用 TMSI10，BBr3 或 BF3-thiolane 可 以 较 好 地 去 保 护。 芳 香 体 系 中， 在 甲 基 醚 共 同 存 在 时， 异 丙 基 醚 可 以 用 BCl3 选 择 性 除 去11。
有 机 合 成 中 的 保 护 基
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第 三 章
有 机 合 成 中 的 保 护 基
本 章 将 主 要 介 绍 官 能 团 的 保 护， 包 括 醇 羟 基、 二 醇、 醛、 酮、 羧 酸、 氨 基 和 碳 碳 不 饱 和 键 等 的 保 护 和 去 保 护。 对 某 些 情 况 下 多 官 能 团 的 选 择 性 上 保 护 和 去 保 护 在 这 里 也 将 作 一 些 简 要 介 绍。
H MeO 68% H H OTMS O O NaI, TMSCl MeCN, rt HO H OH O O
有机合成化学3-基团的保护与基团的反应性转换
在 多 羟 基 底 物 上， tBuCOCl 可 以 选 择 性 地 保 护 伯 羟 基。
OHOH PivPCivlC(1l e(1qe)q)
HOHO
PyP-Cy-HC2HC2lC2 l2
0 ~0 2~52o5CoC
OHOH 909%0%
OHOH
HOHO
OO OO
脱保护：可通过碱性水解除去(K2CO3, Et3N, i-Pr2NEt et al ) 保 护 基 的 水 解 活性 为：tBuCO < PhCO < MeCO < ClCH2CO
Jones ）及还原剂（LiAlH4 ）都非常稳定 ➢ 多羟基存在时可选择性保护 ➢ 广泛用于糖及核苷酸中醇羟基的保护
BrBr
BnBBnrB, rN, aNHa,HD, MDMF F
OHOHHH OHOH
-70-7-04-04o0CoC 979%7%
BrBr
OOHHHH
——优先保护伯醇
OOCCHH2P2Phh
SS SS
83% 83%
H3HC3OCO
OO
HO O
OCOHC3H3 H
b. 苄醚（ROBn） 保护: BnBr/NaH/cat. Bu4NI 、BnBr/Ag2O/DMF 脱保护：10% Pd-C氢解、钠/液氨（不影响双键）
特点： ➢ 对于多数弱酸、碱、氧化剂（PCC、PDC、Dess-Martin periodinate,
(2) H3O
R' (1) R'MgX
HI, H2O
R-C-C(H22) CHH32OOR''
OHR'
R-C-CH2CH2OR''
OH
有机化学专业硕士研究生培养方案070303
有机化学专业硕士研究生培养方案（070303）一、培养目标为了适应我国社会主义建设事业的需要，培养德、智、体全面发展的有机化学专业人才，所培养研究生应达到如下水平：1、具有高度的政治理论水平和觉悟，认真学习邓小平理论，坚持四项基本原则，能够用辩证唯物主义观点观察和分析事物。
遵纪守法，有良好的道德品质和团结合作精神。
爱祖国，爱人民，热爱社会主义，乐意为我国的社会主义建设服务。
2、具有严谨的治学态度，实事求是的科学精神，坚实的理论基础和广泛的专业知识以及熟练的实验技能。
能够独立进行科学研究，勇于探索、创新，刻苦勤奋，并能胜任高等学校有机化学的教学工作。
能够熟练地阅读英文专业书刊，并能用英文撰写有机化学方面的研究论文，具有一定的综合运用外语能力。
3、身心健康。
二、研究方向本专业主要研究方向：A、有机合成化学B、药物化学与药物设计C、绿色化学三、学习年限学习年限为三年。
一般用一年或一年半时间完成硕士学位的必修课和选修课，至少获得35学分；约用两年或一年半时间从事科学研究，完成硕士学位论文，并通过论文答辩。
如果研究生能在较短的时间内将规定的课程学完，获得足够的学分，并提前通过论文答辩者，可提前毕业。
必要时，研究生经批准也可适当延长学习时间，但最多不得超过一年。
四、课程设置1、公共课1）自然辩证法概论1学分 2）英语 5学分3）中国特色社会主义理论与实践研究2学分2、学科基础课1）实验设计与数据处理 3学分2）现代化学实验技术 3学分3）模拟化学方法2学分3、专业主干课①有机合成化学 3学分②糖与核苷化学 2.5学分③有机波谱分析 2.5学分4、选修课1）天然药物化学 2学分 2)物理有机化学 2学分3）有机合成设计技巧 2学分 4）核酸化学 2学分5）专利申报与应用 2学分 6）不对称催化2学分7）超分子化学 2学分 8）金属有机化学2学分9）药物分析 3学分 10）分离技术概论 2学分11）配位化学 3学分 12）生物无机化学 2学分13）高分子化学 3学分 14）文献检索与科技论文写作2学分15）有机试剂在分析化学中的应用 2学分 16）生物化学 2学分17）实验安全与环境 1学分 18）有机与药物化学专论 3学分五、考核方式研究生的公共课、学科基础课和专业主干课均为必修课，为考试课程，采取试卷的形式进行笔试（可以根据课程实际情况采取闭卷考试，或定时、独立完成的开卷考试）。
有机合成中的常用保护基
三甲基硅氧醚（TMS-OR）
形成保护
TMS-Cl、TMS-OTf、HMDS[(Me3Si)2NH]
胺催化：吡啶、三乙胺、二异丙基乙基胺、咪唑、DBU
常用溶剂：THF、DCM、MeCN、DMF、Py 遇水不稳定，暂时性保护基
脱除保护
水、饱和NaHCO3溶液、 K2CO3的甲醇溶液 HOAc、酸性树脂 FeCl3 、BF3.Et 2O
取代甲基酯 乙酯、乙基酯 烯丙基酯 硅烷酯类 酰胺 。。。
87
六、氨基的保护
含孤对电子
易取代反应和氧化反应 氨基甲酸酯（肽、蛋白质的合成）
酰胺（生物碱、核苷酸的合成）
磺酰胺 N-烷基 亚胺
88
1.酰胺类保护法
常用酰化试剂：酰氯、酸酐 稳定性好，较强的酸、碱溶液和加热水解 稳定性顺序：PhCONHR>CH3CONHR>HCONHR; CH3CONHR>ClCH2CONHR>Cl2CHCONHR>Cl3CCONHR>F3CCONHR
有机合成中的常用保护基
硅烷类
常用的保护基团
TMS、TES、TBDMS、TBDPS，DIPS、DPS、TIPDS 保护羟基、羧基、氨基（不常用）
F-脱保护
缩醛类
保护羟基、羰基
酯类
保护羟基、羧基的常用方法
酰胺类
保护氨基
酸脱除保护
质子酸、Lewis酸
常用的脱保护基方法
碱脱除保护
酯类水解
氢化脱除保护
有取代基的环状缩醛水解速率小于没有取代基的相应的环状缩醛。
非环状缩醛比环状缩醛容易水解
66
0.003M HCl的二氧六环-水溶液中(7:3)，30oC下的相对水解速率：
[化学]有机合成 官能团引入转换和保护
• 乙炔及末端炔烃中的炔氢较活泼，它 可以与活泼金属`强碱`强氧化剂及有机金 属化合物反应。 • 常用的炔氢保护基为三甲硅基。将炔 烃转变为格氏试剂后同三甲基氯硅烷作用 。即可引入三甲硅基。该保护基对于金属 有机试剂`氧化剂很稳定。可在使用这类 试剂的场合保护炔基。
2．羟基的保护
• 羟基是一个活性基团，它能够分解格氏试 剂和其他有机金属化合物，本身易被氧化， 叔醇还容易脱水，并可以发生烃基化和酰基 化反应。所以在进行某些反应时，若要保留 羟基，就必须将它保护起来。 醇羟基常用的保护方法有3类：
1. NBS
2. NMe3
3. OH -
CH2NMe3 OH
+
O
+ CH2 NMe3 ¶ þ ¼ × ± ½ 二甲苯
OH
-
O
2. 裂解反应：
X R O H :B R O
X = leaving group, e.g. : -OSO2C6H4CH3-p , -OSO2CH3
例：
OTos H H H OTos H
3．氨基的保护
伯胺和仲胺很容易被氧化，且易发生烃 基化，酰基化以及与醛酮羰基的亲核加成反 应。在合成中常采用： （１）氨基质子化 （２）变为酰基衍生物 （３）变为烃基衍生物等方法将氨基保护起 来
3.1
质子化
此方法仅用于防止氨基的氧化，因为理论上说 采用氨基质子化，即占据氮尚未共用电子对，以阻 止取代反应的发生。这是对氨基保护最简单的法。
6.5 卤素
6.6 硝基与氰基
6.7 羰基
6.8 羧基
参考文献： 1、有机合成化学及近代技术，徐家业著，西安石油学院出版社. 2、有机合成，黄宪编，高等教育出版社，1992年第一版. 3、有机合成讲义，许杏祥编，中科院上海有机所，1998年. 4、现代有机合成化学，吴毓林等编，科学出版社，2001年. 5、现代杂环化学选论，史真著，陕西科技出版社，1998年.
第三章 有机药物官能团的引入 转换和保护
SH RCH 2 CHR' CN RCH 2 CHR' OOCR'
NH3 LiAIH 4 H 2 / Pd Zn/ HCI NaSR'
RCH 2 CHR' NH 2 RCH 2 CHR'
RCH 2 CH 2 R'
_ NaC= CR'
SR' RCH 2 CHR' C _ CR' = RCH 2 CHR' I RCH 2 CHR' R'
后三种卤代试剂均好的选择性。
例如：
O S O
Cl
+
HO
SO 2 CI 2
hv
+
CH3
(i - Pr) 2 NCI
or H 2 SO 4 / H 2 O
HO Cl
+
[(CH 3 ) 2 CH 2 ] 2
（2）烯丙基化合物和烷基芳烃α―卤代
烯丙基化合物的α―卤代是合成不饱和卤 代烃的重要方法。 此反应也属于自由基历程。 使用的溴化剂为N―溴代丁二酰亚胺 （NBS）。
NaOH /(Me) 2 SO 4 (CH 3 ) 3 SiI
ROH
DMF
ROCH 3
ROH
CHCI 3
②叔丁醚ROC(CH3)3 ：
将醇的二氯甲烷溶液或悬浮液在H2SO4或 BF3-H3PO4复合物中，在室温与过量的异 丁烯作用可得到叔丁醚。 脱保护基通常用无水CF3COOH或HBr– CH3COOH溶液。 当分子中存在对酸敏感的基团时不适用。
+
C
C
[O] RCOOH RCHO
[O] RCH 2 OH C [O] RCOR' OH C
制药工艺学元英进课后答案(2)
第一章论绪第二章1-1：分析制药工艺在整个制药链中的地位与作用。
答：制药工艺学的工程性和实用性较强，加之药品种类繁多，生产工艺流程多样，过程复杂。
即使进行通用药物的生产，也必须避开已有专利保护，要有自主知识产权的工艺。
制药工艺作为把药物产品化的一种技术过程是现代医药行业的关键技术领域，在新药的产业化方面具有不可代替的作用；制药工艺学是研究药的生产过程的共性规律及其应用的一门学科，包括制配原理，工艺路线和质量控制，制药工艺是药物产业化的桥梁与瓶颈，对工艺的研究是加速产业化的一个重要方面。
1-2．提取制药、化学制药、生物技术制药的工艺特点是什么，应用的厂品范围是什么？答：提取制药工艺的特点：以化工分离提取单元操作组合为主，直接从天然原料中用分离纯化等技术制配药物；应用的产品范围包括：氨基酸、维生素、酶、血液制品、激素糖类、脂类、生物碱。
化学制药工艺的特点:生产分子量较小的化学合成药物为主，连续多步化学合成反应，随即分离纯化过程；应用产品范围包括；全合成药物氯霉素，半合成药物多烯紫杉醇，头孢菌素C等。
生物技术制药工艺特点：生产生物技术制药、包括分子量较大的蛋白质、核酸等药物。
化学难以合成的或高成本的小分子量药物。
生物合成反应（反应器，一步）生成产物，随后生物分离纯化过程；应用的产品范围包括：重组蛋白质、单元隆抗体、多肽蛋白质、基因药物、核苷酸、多肽、抗生素等。
1-3化学制药产品一定申报化学制药吗？生物技术制药产品一定申报生物制药吗？为什么？举例说明。
答：化学制药产品和生物制药产品均不一定申报化学药物和生物制药制品：有些药物的生产工艺是由化学只要和生物技术制药相互链接有机组成的。
如两步法生产维生素C，首先是化学合成工艺，之后是发酵工艺，最后是化学合成工艺；有些药物经过化学合成工艺，最后是生物发酵工艺，如氢化可的松。
1-4从重磅炸弹药物出发，分析未来制药工艺的趋势。
答：重磅炸弹药物是指年销售收入达到一定标注，对医药产业具有特殊贡献的一类药物。
化学键官能团基团之间的相互影响
物质特征性质 例2、A 为烃，B 为烃的含氧衍生物。由等物质的量的 A和B组成的混合物0.05mol 在0.125mol的氧气中恰 好完全燃烧 , 生成0.1mol CO2 和 0.1mol H2O。试通 过计算回答： 1) 从分子式的角度看，该混合物组合有______种可能 2) 一定量以任意比混合的A、 B气体, 使之完全燃烧 。 ①若耗氧量一定，则A、B分子式为_______ , _____ ②生成CO2和H2O的 n 一定 , 则A 、B分子式为__ ,__ 3）取a mol 以任意比混合的A、B气体 , 在过量O2中完 全燃烧 ①若耗氧量为定值 ,则该值为______mol ②若产 物CO2 的量为定值 , 则产物水的质量范围为______
3) C+2Na→H2↑ 且 C + H2 → 产物（M=90）
4) D+Na → 1/2H2↑，且D + H2 → 产物（M=90） 5) E+Na → 1/2H2↑， E + H2 不能发生加成反应 6) F+ Na → 1/2H2↑，可以发生银镜反应
二、利用计算进行有机物结构简式推断
计算型——由分子量→分子式→不饱和度
一、固有知识推断有机物的结构简式
2、框架图式——根据分子式确定→（Ω）； 关注 反应条件、产物性质、上下求索、左右逢缘；
例1：按下图所示流程生产某高分子涂料。其中M（C3H4O）和 A都可以发生银镜反应；N和M的分子中碳原子数相等；A的烃 基上一氯取代位置有三种。
+ CO、H 2 丙烯
O2 A
H2 催
2、框架图式——根据分子式确定→（Ω）； 关注 反应条件、产物性质、上下求索、左右逢缘； 例2、化合物A、B、C有如下转化关系，已知 I 和J 都是羧酸类 物质，C 物质中不含氧元素。
3) C+2Na→H2↑ 且 C + H2 → 产物（M=90）
4) D+Na → 1/2H2↑，且D + H2 → 产物（M=90） 5) E+Na → 1/2H2↑， E + H2 不能发生加成反应 6) F+ Na → 1/2H2↑，可以发生银镜反应
二、利用计算进行有机物结构简式推断
计算型——由分子量→分子式→不饱和度
一、固有知识推断有机物的结构简式
2、框架图式——根据分子式确定→（Ω）； 关注 反应条件、产物性质、上下求索、左右逢缘；
例1：按下图所示流程生产某高分子涂料。其中M（C3H4O）和 A都可以发生银镜反应；N和M的分子中碳原子数相等；A的烃 基上一氯取代位置有三种。
+ CO、H 2 丙烯
O2 A
H2 催
2、框架图式——根据分子式确定→（Ω）； 关注 反应条件、产物性质、上下求索、左右逢缘； 例2、化合物A、B、C有如下转化关系，已知 I 和J 都是羧酸类 物质，C 物质中不含氧元素。
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HH OH OH
OH OH
CO Me Me CO Me OBn CO OBn OBn 2 2 2 OBn OBn OBn Pd-C,EtOH EtOH Pd-C, Pd-C, EtOH O O O H H H OH OH OH rt,2 2hr hr rt, rt, 2 hr 72% 72% 72%
保护: 三苯基氯甲烷(TrCl)/吡啶(Py)/4-二甲胺基吡啶（DMAP）
脱保护： HCOOH-H2O、 HCOOH-tBuOH、0.1 M HCl/MeCN 等， 也 可 用 Na/NH3(l) 还 原 方 法
OO HN HN OO N N HOH HOH 2C 2CO O TrCl/Py TrCl/Py OO HN HN OO N N TrOH TrOH 2C 2C OO
CCOOH HOCH C CCOOH HOCH C CCOOH HOCH C CCOOH HOCH 2 2 2 2C
②
3
2) 缩醛和缩酮类衍生物 缩醛酮——二醇的保护 特点： 在中性、碱性介质中较稳定。 对铬酸酐/吡啶等氧化剂、氢化铝锂等还原剂及催化氢化均稳定。 广泛用于甾类、甘油酯、糖类中1,2-及1,3-二羟基的保护。 保护：用丙酮(1,2-二醇)、环己酮、苯甲醛(1,3-二醇)或其烯醇醚（2甲氧基丙烯）等在酸（HCl、p-CH3C6H4SO3H、无水ZnCl2）催化下 进行。
保护基的基本条件 1. 2. 3. 4. 5.
6.
引入保护基的试剂稳定、来源经济且毒性较小 引入的保护基不带有或不引入手性中心 保护基在设定的整个反应条件下是稳定的 保护基的引入或脱除，条件温和，收率近定量 脱出保护后，保护基部分与产物容易分离
有时还可以将保护基转换为其他官能团。
呼之即来，挥之即去。 切莫请神容易，送神难。
需要保护的基团有-OH, C=O, -COOH, -NH2, C=C, 活性C-H等。
3.1.1 羟基(—OH)的保护
1. 醇羟基的保护
醇羟基的保护可将其转化为醚、混合缩醛酮或酯类；前者对氧化 剂或还原剂都有相当的稳定性。 1) 醚类衍生物 (ROR’) a. 甲醚（ROCH3） 保护: NaH/MeI or (Me)2SO4 、 Ag2O/MeI、CH2N2/硅胶 /HBF4 优点：保护基易引入，对酸、碱、氧化剂或还原剂均很稳定。 缺点：难于脱去保护基
MeOOC HO
COOMe OH
MeO
OMe MeOOC O
COOMe O
HOH2C LiAlH4 O
CH2OH O
TsOH
OCH3 OH OH TsOH O O
脱保护：稀酸（质 子 酸 和 Lewis 酸）水解，rt; 或加热；苄叉 基可用氢解的方法除去
2 CH 2OH CH CH OH 2OH CH OH 2OH CH 2 2 CH-OH CH-OH CH-OH CH-OH CH-OH CH-OH CH 2OH CH 2OH CH CH OH 2OH 2 CH 2OH CH OH
10%Pd-C Pd-C 10% 10% Pd-C O O O o o o H H H 25 C, C,3 3hr, hr,78% 78% 25 25 C, 3 hr, 78% OH OH OH
c. 三苯甲基醚（ROCPh3）
特点： 对碱及其他亲核试剂稳定。 多羟基化合物中选择性的保护伯醇羟基
反应选择性
区域选择性（regioselectivity）
立体选择性（stereoselectivity）
化学选择性（chemoselectivity）：不是用保护或活化策略， 反应试剂对于不同官能团或处于不同环境的相同官能团进 行选择性反应 。
区域选择性（regioselectivity）：讨论同一官能团不同部 位的反应。指当反应的取向有可能产生几个异构体时， 只生成或主要生成一个产物的反应。 立体选择性（stereoselectivity） ：是指同一反应物在特 定反应中，可能产生几种立体异构体，其中一个立体异 构体占优势。 立体专一性反应：是指立体化学上有差别的反应物，给 出立体化学上相关的有差别的产物，即一种异构体只能 给出相应的立体产物。
e. 四氢吡喃醚(ROTHP) 优点：对碱、格氏试剂、氢化铝锂、烃化剂和酰化剂均稳定。 缺点： 增加一个不对称碳，使得NMR谱的解析较复杂。 保护: 二氢吡喃/H+ 酸性催化剂CSA 、 POCl3 、PTSA 、TMSI 、PPTS等 脱保护： HOAc-THF-H2O (4:2:1)/45oC、 PTSA或PPTS/MeOH 、 酸 性 离 子 交 换 树 脂/MeOH等酸性条件
CO Me CO Me CO Me 2 2 2 O OBn O O OBn OBn O O O H H H OH OH OH
O O 18%HCOOH HCOOH O 18% 18% HCOOH inMeOH MeOH in in MeOH
CO Me CO Me CO Me 2 2 2 HO HO HO
脱保护: 浓HI 、 BF3 or BBr3/CH2Cl2、 Me3SiI/CHCl3
R CH3 O R CH3 R CH 3 O O (CH3)3Si I (CH3 Si II (CH ))3 Si 3 3
OO
H2 O CH3I + ROSi(CH3)3 H2 O ROH + (CH3)3SiOH H O 2 + (CH CH I + ROSi(CH ) ROH+ (CH3 SiOH CH3 I + ROSi(CH3 3 )3 ROH ))3 SiOH 3 3 3 3
Ba(OH) Me Ba(OH) , Me 2, 2 2SO 4, 4, 2SO rt, 18h rt, 18h 88% 88% H3 CO H 3CO
OO
HO HO COOMe COOMe
COOMe COOMe
OH OH OH OH
S S
S S O O
O HO H
CH2N2, Et2O, CH2 N2, Etgel 2O, Silica Silica gel H3CO 83% H3CO 83%
3.1 基团的保护
X
RCOCH2CH2OH + R'MgX R''X
R'H + RCOCH2CH2OMgX
H2O
R'H + RCOCH2CH2OMgX
RR'C-CH2CH2OH
RCOCH H2O 2CH2OH
RCOCH2CH2
RCOCH + + R'MgX 2CH2OH RCOCH R'MgX 2CH2OHNa
Jones ）及还原剂（LiAlH4 ）都非常稳定
多羟基存在时可选择性保护 广泛用于糖及核苷酸中醇羟基的保护
BrBr
Br Br
BnBr, NaH, DMF BnBr, NaH, DMF
o -70-40 o C -70-40 C 97% 97%
——优先保护伯醇
HH OH OH
OCHPh 2Ph OCH 2
O H O // / H O H
THPO CH C CH THPO C CH THPO CH CH 2 2 2C CH
C H5 MgBr C H MgBr C 2 5 2 2H 5MgBr THFБайду номын сангаасTHF THF
THPO CH C CMgBr THPO C THPO CH CH CMgBr 2 2 2C CMgBr
O OH CO2Me COOBut O O O H OTBS excess Me3Si-Im 100oC, 90 min. 100% O O O H OTBS O OTMS CO2Me COOBut
优点：对催化氢化、氧化、还原反应稳定 缺点：对酸碱敏感，只能在中性条件下使用，且价格昂贵，多用于 实验室合成
OAc OAc OAc OAc
DHP(1.5 (1.5eq) eq) DHP PPTS(0.1 (0.1eq) eq) PPTS CH rt,100% 100% CH 2Cl 2,rt, 2Cl 2, O O
OO
OH OH
O O
O O
HC CCH OH HC OH HCCCH CCH 2 2 2OH CO CO ① 22 ① 2 ① CO ① 2 H O H O H O 3 ② 3 ② 3O ② H
OR' OR' OR OR
OR' OR' OR OR
CH2OH O TrCl/Py OH 1h OMe HO OH
CH2OTr O OH OMe HO OH
d. 三甲基硅醚（ROSiMe3） 保护: 三甲基氯化硅(TMSCl)和碱(吡 啶、 三 乙 胺、iPr2NEt、 咪 唑
或DBU )。
脱保护：HF / CH3CN 、 TBFA/THF（ 因Si-F的键结力甚强，大于SiO的键能）等
第三章 基团的保护与 基团的反应性转换
基团的保护与基团的反应性转换是指在一化合物分 子中为使其特定基团或位置发生预期反应，其它基团或 位置进行暂时性保护或暂时性极性改变的过程，待反应 完成生成新化合物所采取的一种策略。 反应的选择性（selectivity）是指一个反应可能在底物 的不同部位和方向进行，从而形成几种产物时的选择 程度。 化学选择性（chemoselectivity）
S
S
S
S
OCH H OCH3 3
O H
O
O
O
b. 苄醚（ROBn） 保护: BnBr/NaH/cat. Bu4NI 、BnBr/Ag2O/DMF 脱保护：10% Pd-C氢解、钠/液氨（不影响双键）
特点： 对于多数弱酸、碱、氧化剂（PCC、PDC、Dess-Martin periodinate,