材料分析测试复习题总结
材料测试技术课后题答案

大功率转靶衍射仪与普通衍射仪相比,在哪两方面有其优越性?答:①提高X射线强度:②缩短了试验时间2、何为特征X射线谱?特征X射线的波长与(管电压)、(管电流)无关,只与(阳极材料)有关。
答:由若干条特定波长的谱线构成。
当管电压超过一定的数值(激发电压V激)时产生。
不同元素的阳极材料发出不同波长的X射线。
因此叫特征X射线。
什么是Ka射线?在X射线衍射仪中使用的是什么类型的X射线?答:L壳层中的电子跳入K层空位时发出的X射线,称之为Ka射线。
Ka射线的强度大约是K 6射线强度的5倍,因此,在实验中均采用Ka射线。
Ka谱线又可分为Kal和Ka 2, K a 1的强度是K a 2强度的2倍,且Kal和Ka 2射•线的波长非常接近,仅相差0.004A左右,通常无法分辨,因此,一般用Ka来表示。
但在实际实验中有可能会出现两者分开的情况。
AI是面心立方点阵,点阵常数a=4.049A,试求(111)和(200)晶面的面间距。
计算公式为:dhkl=a (h2+k2+l2)-l/2答:dlll=4.049/(12+12+12)-l/2=2.338A:d200=4.049/(22)-l/2=2.0245A说说不相干散射对于衍射分析是否有利?为什么?答:有利。
不相干散射线由于波长各不相同,因此不会互相干涉形成衍射,所以它们散布于各个方向,强度一般很低,它们在衍射工作中只形成连续的背景。
不相干散射的强度随sin 0/'的增大而增强,而且原子序数越小的物质,其不相干散射愈大,造成对衍射分析工作的不利影响。
6、在X射线衍射分析中,为何要选用滤波片滤掉KB射线?说说滤波片材料的选取原则。
实验中,分别用Cu靶和M。
靶,若请你选滤波片,分别选什么材料?答:(1)许多X射线工作都要求应用单色X射线,由于Ka谱线的强度高,因此当要用单色X 射线时,一般总是选用Ka谱线。
但从X射线管发出的X射线中,当有Ka线时,必定伴有KB 谱线及连续光谱,这对衍射工作是不利的,必须设法除去或减弱之,通常使用滤波片来达到这一目的。
材料测试与表征总结

最常见表面分析技术为三种:XPS、AES和SIMS。
(1)AES —空间分辨率最高。
适合做导体和半导体材料表面的微区成分、化学态和元素分布分析;(2)XPS —破坏性最小,化学信息丰富,定量分析较好。
适合做导体和非导体,有机和无机体材料的表面成分和化学态分析。
(3)SIMS—灵敏度最高。
可以做导体和非导体,有机和无机体材料中H、He以及元素同位素分析。
此三种技术相互补充,相互配合,可获得最有用的搭配。
AES俄歇电子能谱:1、俄歇电子能谱(AES)当采用聚焦电子束激发源时,亦称为:扫描俄歇微探针( SAM)AES分析是以e束(或X-射线束)为激发源, 激发出样品表面的Auger电子, 分析Auger电子的能量和强度,可获元素种类、含量与分布、以及化学态等信息。
2、AES的主要特点与局限性:主要特点:(1)由于e束聚焦后其束斑小,AES的分辨率高,适于做微区分析:可进行点分析,线和面扫描。
(2)仅对样品表面2nm以浅的化学信息灵敏。
(3)俄歇电子的能量为物质特有,与入射粒子能量无关。
(4)可分析除H和He以外的各种元素,轻元素的灵敏度较高.(5)AES可分析元素的价态。
由于很难找到化学位移的标准数据,因此谱图的解释比较困难。
(6)可借助离子刻蚀进行深度分析,实现界面和多层材料的剖析,深度分辨率较XPS更好。
局限:(1)e束带电荷,对绝缘材料分析存在荷电影响。
(2)e束能量较高,对绝热材料易致损伤。
(3)定量分析的准确度不高3、从Auger电子能谱图可以看出:(1)峰位(能量),由元素特定原子结构确定;(2)峰数,由元素特定原子结构确定(可由量子力学估计);(3)各峰相对强度大小,也是该元素特征;以上3点是AES定性分析的依据,这些数据均有手册可查.4、AES具有五个有用的特征量:①特征能量;②强度;③峰位移;④谱线宽;⑤线型。
由AES的这五方面特征,可获如下表面特征:化学组成、覆盖度、键中的电荷转移、电子态密度和表面键中的电子能级等。
(2021年整理)ch06x射线衍射分析原理材料分析测试答案

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154nm )照射Ag (f .c .c )样品,测得第一衍射峰位置2=38,试求Ag 的点阵常数。
解:查教材91页表6-1,面心立方(f .c .c )晶体的第一衍射峰的干涉指数为(111)。
由立方晶系晶面间距公式222L K H ad HKL ++=和布拉格方程λθ=sin 2HKL d ,可得)(409.0 111)2/38sin(2154.0 sin 2222nm nm L K H a ≈++=++⋅=θλ答:Ag 的点阵常数a =0。
石墨分析实验报告总结(3篇)

第1篇一、实验背景石墨作为一种重要的碳质材料,在工业、科研等领域具有广泛的应用。
本实验旨在通过对石墨样品的分析,了解其化学组成、结构特性以及相关性能,为石墨的进一步研究和应用提供数据支持。
二、实验目的1. 确定石墨样品的化学组成。
2. 分析石墨的结构特性。
3. 评估石墨的性能指标。
4. 探讨石墨的制备方法和应用前景。
三、实验方法本实验主要采用以下方法进行石墨分析:1. 化学分析方法:通过X射线荧光光谱(XRF)和原子吸收光谱(AAS)等手段,对石墨样品进行化学组成分析。
2. 结构分析方法:采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)等手段,对石墨的结构特性进行分析。
3. 性能分析方法:通过电学测试、力学测试等方法,评估石墨的性能指标。
4. 制备方法研究:探讨不同制备方法对石墨性能的影响。
四、实验结果与分析1. 化学组成分析:XRF和AAS结果表明,石墨样品主要由碳元素组成,并含有少量杂质,如硅、铝、铁等。
2. 结构特性分析:XRD和SEM结果表明,石墨样品具有良好的层状结构,层间距约为0.34纳米。
石墨烯层间存在少量缺陷,如石墨烯层间的空隙、石墨烯层内的杂质等。
3. 性能指标分析:电学测试结果显示,石墨样品的电阻率为0.05Ω·m,导电性能良好。
力学测试结果显示,石墨样品的弯曲强度为150MPa,具有良好的力学性能。
4. 制备方法研究:通过对比不同制备方法制备的石墨样品,发现微机械剥离法制备的石墨样品具有更好的结构特性和性能。
五、实验结论1. 本实验成功地对石墨样品进行了化学组成、结构特性和性能指标分析。
2. 石墨样品具有良好的层状结构,层间距约为0.34纳米,并含有少量杂质。
3. 石墨样品具有良好的导电性能和力学性能。
4. 微机械剥离法制备的石墨样品具有更好的结构特性和性能。
六、实验讨论1. 本实验采用多种分析方法对石墨样品进行了全面分析,为石墨的进一步研究和应用提供了数据支持。
材料分析测试方法期末总结

材料分析测试方法期末总结一、测试方法的基础概念在深入讨论测试方法之前,我们首先需要了解一些基本概念。
1. 测试目标:测试目标是测试活动的核心,它描述了测试所要达到的目标和结果。
常见的测试目标包括验证软件是否符合需求、发现软件中的缺陷以及评估软件的质量等。
2. 测试策略:测试策略是指定测试方法和测试过程的一组决策。
它描述了如何选择测试用例、测试技术和测试环境等,并确定了测试的优先级和风险。
3. 测试技术:测试技术是指用于执行测试活动的方法和工具。
常见的测试技术包括白盒测试、黑盒测试、灰盒测试等。
4. 测试用例:测试用例是一组输入、执行条件和预期结果的组合。
它描述了在特定条件下执行软件的步骤和结果,并用于评估软件功能的正确性和完整性。
5. 缺陷:缺陷是指软件中的错误或问题。
它可能导致软件无法正确执行预期功能,或者引发不可预料的行为。
二、常见的测试方法在软件开发过程中,有多种不同类型的测试方法被广泛应用。
下面是几种常见的测试方法:1. 单元测试:单元测试是对软件中最小可测试单元进行测试的方法。
它通常由开发人员在编写代码时进行,以确保代码的正确性和可靠性。
2. 集成测试:集成测试是将模块或子系统集成在一起进行测试的方法。
它的目标是验证这些模块或子系统在集成时是否可以正确地协同工作,并且预期功能是否得以实现。
3. 系统测试:系统测试是对整个系统进行全面测试的方法。
它的目标是验证软件是否符合需求规格说明书的规定,以及在实际使用环境中是否可靠、稳定和安全。
4. 验收测试:验收测试是在软件开发完成后,由用户或客户进行的最终测试。
它的目标是验证软件是否满足用户需求,并根据预定的验收标准来判断软件是否可以交付使用。
5. 故障注入测试:故障注入是一种测试方法,通过向软件中引入人为设计的故障来评估软件的可靠性和稳定性。
它可以帮助发现并修复软件中的潜在缺陷。
三、测试方法的重要性和应用测试方法在软件开发过程中起着非常重要的作用。
材料分析测试方法考点总结

材料分析测试方法考点总结1.化学成分分析化学成分分析是材料分析测试的基础内容之一、它可以通过测定材料中的元素含量来确定材料的化学成分。
常用的化学成分分析方法包括:火花光谱分析、光谱分析、质谱分析、原子光谱分析等。
2.物理性能测试物理性能测试是评估材料力学性质的重要手段。
包括材料的硬度、强度、韧性、弹性模量等。
常用的物理性能测试方法有:拉伸试验、硬度测试、冲击试验、压缩试验、剪切试验等。
3.微观结构分析微观结构分析是检测材料内部组织和晶体结构的重要方法。
常用的微观结构分析方法包括:显微镜观察、扫描电子显微镜(SEM)观察、透射电子显微镜(TEM)观察、X射线衍射(XRD)分析等。
4.表面分析表面分析是研究材料表面化学组成、结构和形貌的重要手段。
主要包括表面形貌观察和分析、表面成分分析、表面组织分析等。
常用的表面分析方法有:扫描电子显微镜(SEM)观察、能谱分析(EDS)、X射线光电子能谱(XPS)分析、原子力显微镜(AFM)观察等。
5.热分析热分析是通过对材料在不同温度下的热响应进行测定和分析,来研究材料热性能的一种方法。
典型的热分析方法包括:热重分析(TGA)、差热分析(DTA)、差示扫描量热分析(DSC)等。
6.包装材料测试包装材料测试是对包装材料的物理性能、化学性能、机械性能、耐久性能等进行测试评估的一种方法。
常用的包装材料测试方法有:抗拉强度测试、撕裂强度测试、温湿度测试、冲击测试、水汽透过性测试等。
7.表征技术表征技术是通过测定和分析材料的性质和性能,来获得材料的各种特征和参数的方法。
常用的表征技术包括:拉曼光谱、红外光谱、紫外-可见分光光度计、液相色谱-质谱分析等。
总结而言,材料分析测试方法主要涵盖了化学成分分析、物理性能测试、微观结构分析、表面分析、热分析、包装材料测试和表征技术。
掌握这些测试方法,可以有效评估和控制材料的质量、性能和性质,为材料科学和工程提供有力支持。
材料现代分析测试方法总结(2)

名词解释:晶带:晶体中,与某一晶向[uvw]平行的所有(HKL)晶面属于同一晶带,称为[uvw]晶带。
辐射的吸收:辐射通过物质时,其中某些频率的辐射被组成物质的粒子(原子、离子或分子等)选择性地吸收,从而使辐射强度减弱的现象。
辐射被吸收程度对ν或λ的分布称为吸收光谱。
辐射的发射:物质吸收能量后产生电磁辐射的现象。
辐射的散射:电磁辐射与物质发生相互作用,部分偏离原入射方向而分散传播的现象光电离:入射光子能量(hν)足够大时,使原子或分子产生电离的现象。
光电效应:物质在光照射下释放电子(称光电子)的现象又称(外)光电效应。
点阵消光:因晶胞中原子(阵点)位置而导致的|F|2=0的现象系统消光:晶体衍射实验数据中出现某类衍射系统消失的现象。
结构消光:在点阵消光的基础上,因结构基元内原子位置不同而进一步产生的附加消光现象,称为结构消光。
衍射花样指数化:确定衍射花样中各线条(弧对)相应晶面(即产生该衍射线条的晶面)的干涉指数,并以之标识衍射线条,又称衍射花样指数化(或指标化)。
背散射电子:入射电子与固体作用后又离开固体的总电子流。
特征X射线:射线管电压增至某一临界值,使撞击靶材的电子具有足够能量时,可使靶原子内层产生空位,此时较外层电子将向内层跃迁产生辐射即是特征X 射线。
俄歇电子:由于原子中的电子被激发而产生的次级电子,在原子壳层中产生电子空穴后,处于高能级的电子可以跃迁到这一层,同时释放能量。
当释放的能量传递到另一层的一个电子,这个电子就可以脱离原子发射,被称为俄歇电子。
二次电子:入射电子从固体中直接击出的的原子的核外电子和激发态原子退回基态时产生的电子发射,前者叫二次电子,后者叫特征二次电子。
X射线相干散射:入射光子与原子内受核束缚较紧的电子发生弹性碰撞作用,仅其运动方向改变没有能量改变的散射。
X射线非相干散射:入射光子与原子内受到较弱的电子或者晶体中自由电子发生非弹性碰撞作用,在光子运动方向改变的同时有能量损失的散射。
最新公路水运试验检测考试 材料(集料)专业 沥青混合料 考试知识点总结

沥青混合料1、马歇尔、浸水马歇尔试验操作过程?⑴试验操作方法和步骤(2)试验步骤(3)浸水马歇尔试验方法⑭试验结果计算2、沥青混合料密度试验方法及步骤?试验方法一:表干法——沥青混合料毛体积密度测定⑫试验结果计算试验方法二:水中重法——沥青混合料表观密度的测定⑫试验结果计算试验方法三:蜡封法——沥青混合料毛体积密度的测定⑪试验方法与步骤3、沥青混合料车辙试验方法?⑪目的与适用范围⑫试验方法与步骤试验过程:.⑬试验结果计算4、沥青与矿料粘附性试验方法(水煮法、浸水法)?⑪试验目的和适用范围.试验方法一:水煮法(适用于大于13.2mm粒径的粗集料) 提示:1。
试验方法二:水浸法(适用于小于13.2mm 粒径的集料)5、沥青含量测试方法有几种?6、沥青混合料配合比设计内容?7、矿料级配调试原则?8、沥青混合料配合比设计步骤?①目标配合比设计阶段。
②生产配合比设计阶段。
③生产配合比验证阶段。
9、最佳沥青用量OAC1和OAC2确定方法?10.沥青技术性质(针入度、软化点、延度、含蜡量)试验步骤、结果整理、精度要求?11. 沥青密度测试方法?1、马歇尔、浸水马歇尔试验操作过程?⑴试验操作方法和步骤准备工作①制备符合要求的马歇尔试件,一组试件的数量最少不得少于4个。
②量测试件的直径及高度:用卡尺测量试件中部的直径,用马歇尔试件高度测定器或用卡尺在十字对称的4个方向量测离试件边缘10mm处的高度,准确至O.1mm,并以其平均值作为试件的高度。
如试件高度不符合63.5mm±1.3mm或95.3mm±2.5mm要求或两侧高度差大于2mm 时,此试件应作废。
③将恒温水槽调节至要求的试验温度,对粘稠石油沥青或烘箱养生过的乳化沥青混合料为60℃±1℃。
④将马歇尔试验仪的上下压头放入水槽或烘箱中达到同样温度。
将上下压头从水槽或烘箱中取出擦试干净内面。
为使上下压头滑动自如,可在下压头的导棒上涂少量黄油。
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材料分析测试方法复习题第一部分简答题:1. X 射线产生的基本条件答:①产生自由电子;②使电子做定向高速运动;③在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。
2. 连续X 射线产生实质答:假设管电流为10mA ,则每秒到达阳极靶上的电子数可达6.25x10(16)个,如此之多的电子到达靶上的时间和条件不会相同,并且绝大多数达到靶上的电子要经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hv (i )的光子序列,这样就形成了连续X 射线。
3. 特征X 射线产生的物理机制答:原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K 、L 、M 、N 等不同能级的壳层上,而且按能量最低原理从里到外逐层填充。
当外来的高速度的粒子动能足够大时,可以将壳层中某个电子击出去,于是在原来的位置出现空位,原子系统的能量升高,处于激发态,这时原子系统就要向低能态转化,即向低能级上的空位跃迁,在跃迁时会有一能量产生,这一能量以光子的形式辐射出来,即特征X 射线。
4. 短波限、吸收限答:短波限:X 射线管不同管电压下的连续谱存在的一个最短波长值。
吸收限:把一特定壳层的电子击出所需要的入射光最长波长。
5. X 射线相干散射与非相干散射现象答: 相干散射:当X 射线与原子中束缚较紧的内层电子相撞时,电子振动时向四周发射电磁波的散射过程。
非相干散射:当X 射线光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。
6. 光电子、荧光X 射线以及俄歇电子的含义答:光电子:光电效应中由光子激发所产生的电子(或入射光量子与物质原子中电子相互碰撞时被激发的电子)。
荧光X 射线:由X 射线激发所产生的特征X 射线。
俄歇电子:原子外层电子跃迁填补内层空位后释放能量并产生新的空位,这些能量被包括空位层在内的临近原子或较外层电子吸收,受激发逸出原子的电子叫做俄歇电子。
7. X 射线吸收规律、线吸收系数答:X 射线吸收规律:强度为I 的特征X 射线在均匀物质内部通过时,强度的衰减与在物质内通过的距离x 成比例,即-dI/I=μdx 。
线吸收系数:即为上式中的μ,指在X 射线传播方向上,单位长度上的X 射线强弱衰减程度。
8. 晶面及晶面间距答:晶面:在空间点阵中可以作出相互平行且间距相等的一组平面,使所有的节点均位于这组平面上,各平面的节点分布情况完全相同,这样的节点平面成为晶面。
晶面间距:两个相邻的平行晶面的垂直距离。
9. 反射级数与干涉指数答:布拉格方程 表示面间距为d ’的(hkl )晶面上产生了n 级衍射,n 就是反射级数λθn Sin d ='2:干涉指数:当把布拉格方程写成: 时,这是面间距为1/n 的实际上存在或不存在的假想晶面的一级反射,若把这个晶面叫作干涉面,其间的指数就叫作干涉指数10.衍射矢量与倒易矢量答:衍射矢量:当束X 射线被晶面P 反射时,假定N 为晶面P 的法线方向,入射线方向用单位矢量S0表示,衍射线方向用单位矢量S 表示,则S-S0为衍射矢量。
倒易矢量:从倒易点阵原点向任一倒易阵点所连接的矢量叫倒易矢量,表示为:r* = Ha* + Kb* + L c*11.结构因子的定义答:定量表征原子排布以及原子种类对衍射强度影响规律的参数,即晶体结构对衍射强度的影响因子12.原子散射因子随衍射角的变化规律答:随sin θ/λ 值减小,f 增大,sin θ=0时,f=Z论述题:一、推导劳埃方程和布拉格方程解:1。
推导劳埃方程:假定①满足干涉条件②X-ray 单色且平行如图:以α0为入射角,α为衍射角,相邻原子波程差为a(cos α-cos α0),产生相长干涉的条件是波程差为波长的整数倍,即:a(cos α-cos α0)=h λ式中:h 为整数,λ为波长。
一般地说,晶体中原子是在三维空间上排列的,所以为了产生衍射,必须同时满足:a(cos α-cos α0)=h λb(cos β-cos β0)=k λc(cos γ-cos γ0)=l λ 此三式即为劳埃方程。
2.推导布拉格方程式:假定①X-ray 单色且平行②晶体无限大且平整(无缺陷)如右图:光程差为2d sin θ,要出现衍射条纹,则有:2d sin θ=n λ (n=1,2…)此式即为布拉格方程。
二、以体心立方(001)衍射为例,利用心阵点存在规律推导体心和面心晶体的衍射消光规律三、证明厄瓦尔德球图解法等价于布拉格方程证明:根据倒易矢量的定义O*G=g ,于是我们得到k '-k=g上式与布拉格定律完全等价。
由O 向O*G 作垂线,垂足为D ,因为 g 平行于(hkl )晶面的法向N hkl ,所以OD 就是正空间中(hkl )晶面的方位,若它与入射束方向的夹角为θ,则有=sin θ即 g/2=ksin θ由于 g=1/d k=1/λ故有 2dsin θ =λθ=Sin nd '2同时,由图可知,k '与k 的夹角(即衍射束与透射束的夹角)等于是2θ,这与布拉格定律的结果也是一致的。
四、阐明消光现象的物理本质,并利用结构因子推导出体心和面心晶体的衍射消光规律解:参考P36-P42 由系统消光的定义<把因原子在晶体中位置不同或原子种类不同而引起的某些方向上的衍射消失的现象>知,消光的物理本质是原子的种类及其在晶胞中的位置。
由|F hkl =0| <=> 消光 可推出如下消汇丰银行规律①体心晶体 存在2个原子,坐标分别为(0,0,0),(1/2,1/2,1/2)则 F hkl = f + fe πi(h+k+l) 要消光,则有 h+k+l=2n+1 (n=0,1,2…).②面心晶体 存在4个原子,坐标分别为(0,0,0),(1/2,1/2,0) (1/2,0,1/2),(0,1/2,1/2)则 F hkl = f + fe πi(h+k) + fe πi(h +l) + fe πi(k+l) 要消光则必使F hkl =0,故消光规律为: h,k,l 不能同时为奇或h,k,l 不能同时为偶五、如何利用X 射线衍射方法研究晶体的有序—无序转变(举例说明)解:本题答案谨供参考!本题是利用X 射线衍射时,衍射线的出现与消失来研究晶体的有序—无序转变对于TiAl ,高温时为无序的体心立方晶体,低温时为有序的体心立方晶体。
无序时:Ti 或Al 占据A 或B 点的几率各为50%,f 平均=0.5f Ni +0.5f Al ;注:A 为顶点,B 为体心点有序时: Ti 100%占据A 位,Al 100%占据B 位,则 F hkl =f N i ±f Al则:F hkl =f N i -f Al ≠0,由本该消光的地方,重新出现衍射条纹,可判断无序向有序的转变,反之亦然。
六、如何使用角因子中洛仑兹因子研究晶体的尺寸解:利用布拉格公式2dsin θ=λ和晶面间距d 与晶格常数之间的关系(如:立方晶系d=a/(h 2+k 2+l 2)1/2)可以建立衍射束方向与晶胞尺寸的关系式。
对于立系为sin 2θ=λ(h 2+k 2+l 2)/4a 2,测写了衍射束的方向,便可推知晶胞尺寸。
洛仑兹因子便是一个只与衍射束方向(即布拉格角θ)有关的式子:1/(4sin 2θcos θ)以布拉格角θ为中介,通过洛仑兹因子便函要以研究晶体尺寸。
七、阐述多晶体X 射线衍射强度影响因素及其应用解:参考P42-P50 影响X 射线衍射强度的因素有如下5项:①结构因子②角因子包括极化因子和洛仑兹因子③多重性因子④吸收因子⑤温度因子。
应用:利用各影响因子对衍射强度的影响,可判断出晶胞内原子的种类,原子个数,原子位置。
结构因子:①消光规律的判断;②金属间化合物的有序度的判断。
角因子:利用谢乐公式研究晶粒尺寸大小;多重性因子:等同晶面对衍射强度的影响吸收规律:试样形状和衍射方向的不同,衍射线在试样中穿行的路径便不同,引起吸收效果的不一样。
温度因子:研究晶体的热运动,测定热膨胀系数等。
八、以立方晶系为例,分析利用XRD 测量点阵常数时为何采用高角度线条而不采用各个线条测量结果的平均值:答:对于立方晶系 2dsin θ=λ,222/l k h a d ++=⇒222sin 2l k h a ++⨯÷=θλθ的误差主要来源于Δθ Δ(sin θ)2dsin θ=λ dsin θ=λ/2 Δ dsin θ+dcos θ⨯Δθ=0Δa/a=Δd/d=-cos θ⨯Δθ 当θ=o 90时Δa/a=0故θ尽可能高 而对于外推法取θ=o 90九、给出物相定性分析与定量分析的原理及一般步骤。
答:定性分析:原理:目前所知结晶物质,之所以表现出种类的差别,是由于不同的物质个具有自己特定的原子种原子排列方式和点阵常数,进而呈现出特定的衍射花样;多相物质的衍射花样互不干扰、相互独立,只是机械的叠加;衍射花样可以表明物相中元素的化学结合态。
这样只要把晶体全部进行衍射或照相再将衍射花样存档,试验时,只要把试样的衍射花样和标准衍射花样相对比,从中选出相同者就可以确定了。
步骤:先求出晶面间距d 和相对强度I/I1后有以下三个程序:(1)根据待测相得衍射数据,得出三强面的晶面间距值d1、d2、d3.(2)根据d1值,在数值索引中检索适当d 组,找出与d1、d2、d3值复合较好的一些卡片。
(3)把待测相的三强线的d 值和I/I1值与这些卡片上各物质的三强线d 值和I//I1值相比较,淘汰不相符的卡片,最后获得与试验数据一一吻合的卡片,卡片上所示物质即为待测相。
(4)若待测试样为复相混合物时,需反复测试定量分析:原理87页十、讨论内应力对X- Ray 衍射线条的影响规律,并说明如何测定平面宏观残余应力宏观应力:使衍射峰左右移动微观应力:使衍射峰变宽超微观应力:使衍射峰的强度变弱平面宏观残余应力的测定:ϕ:样品表面法线与所测晶面法线的夹角 课本98页图6.332322122321323222121sin )sin (sin )cos (sin sin 1cos sin sin cos sin s s s s s a a a s a s a s a s ϕφϕφϕϕϕφϕφϕϕϕ-++=-====++=因为03=σ 所以 02003002212222123213122211/))(sin /1)](1/([/)(/)(sin cos /sin )sin )(cos 1(/)(/)(/)(d d d E d d d s d d d s Es s Es Es Es n n -+=-=-=+=++=-+-=-=-=ϕφϕϕφϕϕνσφσφσσϕφσφσνσσννσσνσσ所以第二部分1、分析电磁透镜对波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。