纳米压印技术
纳米压印技术进展及应用
纳米压印技术进展及应用一、概述纳米压印技术，作为一种前沿的微纳加工技术，近年来在科研与工业界引起了广泛的关注。
该技术通过机械转移的方式，将模板上的微纳结构高精度地复制到待加工材料上，从而实现了对材料表面的纳米级图案化。
与传统的光刻技术相比，纳米压印技术不仅具有超高的分辨率，而且能够大幅度降低加工成本，提高生产效率，因此在微电子、生物医学、光学等众多领域展现出了广阔的应用前景。
纳米压印技术的发展历程可追溯至20世纪90年代中期，由美国普林斯顿大学的_______教授首次提出。
随着研究的深入和技术的不断完善，纳米压印技术已经逐渐从实验室走向了产业化。
纳米压印技术已经能够实现对各种材料的微纳加工，包括硅、金属、聚合物等，并且在加工精度和效率方面均取得了显著的进步。
在应用领域方面，纳米压印技术已经在半导体器件制造、生物医学传感器、光学元件制造等多个领域取得了成功的应用案例。
在半导体器件制造中，纳米压印技术可用于制造微处理器、存储器等微纳器件，提高器件的性能和可靠性；在生物医学领域，纳米压印技术可用于制造仿生材料、生物传感器等，为疾病的诊断和治疗提供新的手段；在光学领域，纳米压印技术可用于制造微纳透镜、光纤等光学元件，提高光学系统的性能。
纳米压印技术作为一种新型的微纳加工技术，具有广泛的应用前景和巨大的市场潜力。
随着技术的不断进步和应用领域的不断扩展，纳米压印技术将在未来发挥更加重要的作用，推动科技和工业的快速发展。
1. 纳米压印技术的定义与基本原理纳米压印技术，作为一种前沿的微纳加工技术，正逐渐在微电子、材料科学等领域展现出其独特的优势。
该技术通过机械转移的方式，实现了对纳米尺度图案或结构的高效、精确复制，为制备具有纳米特征的结构和器件提供了强有力的手段。
纳米压印技术的基本原理在于利用压力和热力学效应，将具有纳米结构的模具上的图案转移到待加工材料表面。
制备一个具有所需纳米结构的模具，这一步骤通常依赖于电子束或光刻技术等高精度加工方法。
纳米压印概念
纳米压印概念纳米压印是一种新兴的纳米加工技术，也被称为“纳米印刷”。
它利用纳米级的印刷技术，可以在纳米尺度上进行精确的图案制作和复制。
纳米压印技术是一种重要的制备纳米结构材料的方法，具有很高的潜力和广阔的应用前景。
纳米压印的原理是利用压印模具对待加工表面进行压力作用，通过控制压力、温度和时间等参数，将模具上的图案或结构传递到被压制物体上，形成纳米级的结构。
纳米压印可以实现高分辨率、高精度的图案复制，其制备的纳米结构材料具有优异的物理、化学和光学性能。
纳米压印技术可以广泛应用于纳米器件的制备和表面纳米结构的制作。
在纳米电子学领域中，纳米压印可以用于制备纳米级晶体管、纳米线阵列和纳米电极等元器件。
在光学领域中，纳米压印可以制备具有特定光学性质的纳米结构，用于制造光学元件、光子晶体和纳米光学器件等。
在生物医学领域中，纳米压印可以制备具有特定形态和功能的纳米生物材料，用于药物传递、细胞培养和生物传感器等应用。
此外，纳米压印还可以用于制备纳米级图形、纳米标记和纳米阵列等领域。
纳米压印技术具有很多优点。
首先，它可以在大范围内实现纳米结构的高效制备，具有高度的可扩展性和可重复性。
其次，纳米压印可以制备复杂多样的纳米结构，包括多层薄膜、纳米线和纳米孔等。
此外，纳米压印技术还可以在多种材料上实现纳米结构的制备，如金属、半导体和聚合物等。
最后，纳米压印技术相对于传统的制备方法，具有低成本和高效率的优势。
然而，纳米压印技术也存在一些挑战和限制。
首先，纳米压印的模具制备和维护成本较高，需要使用昂贵的设备和材料。
其次，在纳米压印过程中，材料的性质和变形机制会对纳米结构的形成和复制产生影响，需要仔细控制制备条件。
此外，纳米压印技术对材料的选择和性能有一定要求，不适用于所有材料和结构的制备。
纳米压印技术在科学研究和工业生产中都具有重要的应用价值。
在科学研究方面，纳米压印可以帮助研究者深入理解纳米尺度下材料的物理和化学特性，推动纳米科学的发展。
纳米压印在光伏器件中的应用
常见的光伏器件
•
硅光电池
太阳能电池
光敏二极管
光敏二极管结构原理图
三：纳米压印在光伏器件制造中 的应用
3.1太阳能电池发展现状：现在国内外的太阳能电池
行业都围绕着提高太阳能电池的光转换效率和减低 成本这两个目标展开工作。晶体硅高效太阳能电池
和各类薄膜太阳能电池也是全球新型太阳能电池的 研发热点。薄膜太阳能电池研究主要集中在非晶质 薄膜电池，碲化镉薄膜电池和多晶硅薄膜电池上。 而且现在已证明将纳米压印技术应用到太阳能电池 的制造中是提高太阳能电池的性能的有效方法之一。
3.2：利用纳米压印技术制造增透膜来提升 太阳能电池的性能
• 制造太阳能电池的材料通常具有较高的折射率，当太阳光入射到表面时，会 引起菲涅尔反射，造成太阳光的损失。据统计，在不使用防反射膜的情况下， 超过30%的入射光将会损失。因此，最大限度的减少反射从而提高效率一直 是一个重要的研究方向。
• 现在可以采用室温纳米压印技术，用铝氧化物膜作为掩模，采用UV纳米压印 技术（紫外固化纳米压印技术），将一种纳米尺度的多孔氧化铝掩模图案转 移到光刻胶上，从而使防反射膜具有蛾眼结构并将其应用到单晶硅太阳能电 池等多种太阳能电池中（图1）。这种有蛾眼结构的防反射膜可以在很宽的光 谱范围类有效地减少菲涅尔反射，使太阳能电池的损失减少。据实验计算， 这种放射膜的表面反射率将降到4%左右（图2），且在波长为425—— 1200nm间，可以提高太阳能电池19%的光电转换效率（图3）。
：热压纳米压印技术
热压纳米压印技术的基本步骤是：压印—— 脱模——反应离子刻蚀去残胶。具体步骤如 下：①压印——在衬底上涂覆一层聚合物材 料，再用印模在一定的温度和压力下去压印 聚合物涂层；②脱模——趁聚合物涂层仍然 软化将印模从中拔出；③反应离子刻蚀去残 胶——通过进一步的处理去除残留的聚合物 涂层，暴露出衬底材料的表面。
纳米压印技术
2.3 软模板压印（SCIL）
软模板压印技术主要是为了解决在大面积基底 上使用硬质石英模板实现大面积均匀压印这一问题
由于使用很低的压力，很难在 大面积基底上实现均匀的接触
采用常规（PDMS）软模在大面积的直接接触过程中 也需要一定的压力去产生形变来配合基底的 不平整表面，均匀接触和压力下模板的变形成为 一种不可调和的矛盾
1.3 关键工艺步骤
• 1.模板制造 • 2.压印过程（模板处理，加压，脱模过 程） • 3.图形转移过程 • 4.相关材料研究（模板材料，衬底材料， 纳米压印胶）
2. 纳米压印工艺
2.1 热压印
• 首先在某一衬底 上涂一层胶，然 后在一定温度， 一定压力下，把 模板用机械力压 在胶上，降温后 把模板脱出，形 成所需图案。
2.4 逆压印技术
把光刻胶涂在模板上，然后在压在衬底 上利用这种方法非常容易实现多层压印 2.5 滚筒压印技术 把压印技术和滚轴印刷技术结合起来， 实现几平方米面积高产量压印
2. 纳米压印技术应用领域及 前景
应用领域 1.光刻技术替代者 2.集成电路领域 3.光学领域
制作高密度亚波长光栅，应用在金属起偏器上； 制备光子晶体等
4.存储领域
希捷公司采用热压印技术制备高密度光盘位 存储器
5.生物领域
目前，许多发达国家都把纳米压印 技术列入重点发展领域，很多公司都 在投入大量人力、物力开展纳米压印 设备制造，模板制造以及纳米压印的 应用的。纳米压印技术在中国虽然起 步很晚，但进展非常迅速，相信随着 社会的发展和进步，我国的在纳米压 印技术上会更上一层楼。
纳米压印技术
主要内容
1.纳米压印技术简介
1.1 压印技术 1.2 纳米压印技术 1.3 纳米压印关键工艺步骤 2.纳米压印工艺 2.1 热压印技术 2.2 紫外光固化压印（步进-闪光工艺） 2.3 软模板压印技术（SCIL） 2.4 逆压印技术 2.5 滚筒压印技术 3.纳米压印技术应用领域及前景
纳米压印技术
①
③
微 接 触
②
纳米压印技术 以上
• 首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。升温并达到 此热塑性材料的玻璃化温度Tg（Glass transistion temperature）之上。热 塑性材料在高弹态下，黏度降低，流动性增强，随后将具有纳米尺度的 模具压在上面，并施加适当的压力。热塑性材料会填充模具中的空腔， 在此过程中，热塑性材料的厚度应较模具的空腔高度要大，从而避免模 具与衬底的直接接触而造成损伤。模压过程结束后，温度降低使热塑性 材料固化，因而能具有与模具重合的图形。随后移去模具，并进行各相 异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用 刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底 进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金 属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥 离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。
模具 高分子热塑性材料 ①衬底 ③
热 塑
②
④
填充模具
各向异性刻蚀
紫外固化——S-FIL (Step-Flash Imprint Lithography)
• 采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶 采用低粘度、光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要 压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖 的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充 模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生 聚合和固化成型。最后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽 比的结构。最后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。
纳米压印技术
ห้องสมุดไป่ตู้念
纳米压印技术
纳米压印及其加工技术摘要：纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。
米压印可望成为一种工业化生产技术, 从根本上开辟了各种纳米器件生产的广阔前景。
讲解了纳米压印相关技术种类，技术发展程度，及未来发展方向和应用前景。
关键词：纳米压印；影响因素；产业化发展7月16日，王旭迪老师在我校格物楼二楼学术报告厅开展一场主题报告，本次报告主题为“纳米压印及其加工技术”。
我专业80余人参加了此次报告会。
王老师讲解了纳米压印技术的分类、原理，以及此项技术的发展历程和应用前景。
一、纳米压印的技术方法纳米压印技术最早由Stephen Y Chou教授在1995年率先提出,这是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术。
纳米压印技术的定义为:不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形,而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。
纳米压印技术是一种目前在国际上引起普遍关注的具有超高分辨率的新纳米光刻方法, 可以在柔性聚合物等薄膜上形成分辨率小于10nm 的大面积三维人工结构。
纳米压印分为两步: 压印和图形的转移。
将模版与基片进行对准, 基片由硅片和聚合物形成的抗蚀层组成。
通常热压印中抗蚀层为传统光刻胶聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA) ,且压印前已经均匀固化在硅片上。
然后加压,使模版上的微细图形转移到抗蚀剂上。
最后进行脱模分离, 使模版与抗蚀层分离。
后续工艺为采用反应离子刻蚀(RIE)将残余层除去。
这就完成了整个压印过程。
传统纳米压印技术主要有三种:热塑纳米压印技术、紫外固化压印技术和微接触纳米压印技术。
1.1 热塑纳米压印技术热塑纳米压印技术主要的工艺流程:制备高精度掩模板,一般采用硬度大和化学性质稳定的SiC、Si3N4、SiO2,利用电子束蚀刻技术或反应离子蚀刻技术来产生图案；利用旋涂的方式在基板上涂覆光刻胶,常见的是PMMA和PS；加热至光刻胶的玻璃化转换温度(T g)之上50℃～100℃,然后加压(500kPa～1 000kPa)于模板并保持温度和压力一段时间,液态光刻胶填充掩模版图形空隙；降低温度至T g以下后脱模,将图形从模板转移到基片上的光刻胶；采用反应离子刻蚀去除残留光刻胶,就将图形转移到基板上。
纳米压印技术
高保真度
几乎无差别的将掩模板上的图形转移到wafer上.
纳米压印可望成为一种工业化生产技术，从根本上解决各种纳米器件
生产。
2020/3/13
7
微纳科学技术
一.为什么研究纳米压印技术
应用领域：
半导体加工 作量子磁碟 DNA 电泳芯片 GaAs 光检测器 波导起偏器 硅场效应管 2020/3/13
纳米压印技术
(Nanoimprint Lithography)
微纳加工技术及微纳器件
段智勇 2020/3/13
微纳科学技术
主要内容
1. 为什么要研究纳米压印技术.
2. 纳米压印技术实现的方式.
3. 纳米压印技术亟待解决的问题.
4. 课题组研究工作及进展.2020/3132微纳科学技术
一.为什么研究纳米压印技术
2. 图形转移(pattern transfer)
在一块基片(通常是硅片) 上“涂”( spin :旋覆) 上一层聚合物(如 PMMA ，聚甲基丙烯酸甲脂)。
已刻有目标纳米图形的硬“印章”(如二氧化硅“图章”) 在一定的 温度(必须高于聚合物“软化”温度(glass - transition temperature) ，和压力下去“压印”(imprint ) PMMA 涂层。
2020/3/13
Appl. Phys. Lett., 67 (21), 3114 (1995).
14
微纳科学技术
二.纳米压印技术实现方式
超声纳米压印技术
热压印的改进，利用超声波加热介质聚合物。 中国台湾清华大学首次提出。
2020/3/13
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微纳科学技术
二.纳米压印技术实现方式
纳米压印光刻技术
纳米压印光刻技术纳米压印技术是美国普林斯顿大学华裔科学家周郁在20世纪1995年首先提出的。
这项技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,已被证实是纳米尺寸大面积结构复制最有前途的下一代光刻技术之一。
目前该技术能实现分辨率达5nm以下的水平。
纳米压印技术主要包括热压印、紫外压印以及微接触印刷。
纳米压印技术是加工聚合物结构最常用的方法,它采用高分辨率电子束等方法将结构复杂的纳米结构图案制在印章上,然后用预先图案化的印章使聚合物材料变形而在聚合物上形成结构图案。
1、热压印技术纳米热压印技术是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的方法。
该技术在高温条件下可以将印章上的结构按需复制到大的表面上,被广泛用于微纳结构加工。
整个热压印过程必须在气压小于1Pa的真空环境下进行,以避免由于空气气泡的存在造成压印图案畸变,热压印印章选用SiC材料制造,这是由于SiC非常坚硬,减小了压印过程中断裂或变形的可能性。
此外SiC化学性质稳定,与大多数化学药品不起反应,因此便于压印结束后用不同的化学药品对印章进行清洗。
在制作印章的过程中,先在SiC表面镀上一层具有高选比(38&1)的铬薄膜,作为后序工艺反应离子刻蚀的刻蚀掩模,随后在铬薄膜上均匀涂覆ZEP抗蚀剂,再用电子束光刻在ZEP抗蚀剂上光刻出纳米图案。
为了打破SiC的化学键,必须在SiC上加高电压。
最后在350V的直流电压下,用反应离子刻蚀在SiC表面得到具有光滑的刻蚀表面和垂直面型的纳米图案。
整个热压印过程可以分为三个步骤：(1)聚合物被加热到它的玻璃化温度以上。
这样可减少在压印过程中聚合物的粘性,增加流动性,在一定压力下,就能迅速发生形变。
但温度太高也没必要,因为这样会增加升温和降温的时间,进而影响生产效率,而对模压结构却没有明显改善,甚至会使聚合物弯曲而导致模具受损。
同时为了保证在整个压印过程中聚合物保持相同的粘性,必须通过加热器控制加热温度不变。
纳米压印技术原理
纳米压印技术原理引言：纳米压印技术是一种用于制备纳米结构的先进工艺，它可以在纳米尺度上对材料进行加工和制造。
本文将介绍纳米压印技术的原理及其应用。
一、纳米压印技术的定义纳米压印技术是一种通过对材料施加压力，将纳米尺度的图案或结构转移到另一材料表面的加工方法。
这种技术可以制备出具有纳米特征的结构，具有广泛的应用前景。
二、纳米压印技术的原理纳米压印技术的原理基于压力和热力学效应。
具体步骤如下：1. 制备模具：首先，需要制备一个具有所需纳米结构的模具。
常用的制备方法包括电子束或光刻技术。
2. 涂覆材料：将需要加工的材料涂覆在基板表面。
3. 压印过程：将制备好的模具与涂覆材料的基板接触，并施加一定的压力。
通过压力的作用，模具上的纳米图案被转移到材料表面。
4. 固化和脱模：在压印过程中，涂覆材料可能会发生流动，因此需要对其进行固化以保持所需的纳米结构。
然后，将模具从基板上脱离。
三、纳米压印技术的特点1. 高分辨率：纳米压印技术可以制备出具有纳米级别分辨率的结构，可以满足多种应用的需求。
2. 高效性：纳米压印技术具有高效的加工速度，可以在短时间内制备大面积的纳米结构。
3. 可重复性：纳米压印技术可以实现高度重复性制备，保证产品的一致性和可靠性。
4. 灵活性：纳米压印技术适用于不同类型的材料，包括有机材料、无机材料和生物材料等，具有广泛的应用领域。
四、纳米压印技术的应用纳米压印技术在许多领域都有广泛的应用，包括：1. 光学领域：纳米压印技术可以制备出具有特殊光学性质的结构，用于制备纳米光学器件和光学传感器等。
2. 电子领域：纳米压印技术可以制备出具有特定电子性质的结构，用于制备纳米电子器件和纳米电路等。
3. 生物医学领域：纳米压印技术可以制备出具有特定生物特性的结构，用于制备生物芯片和生物传感器等。
结论：纳米压印技术是一种重要的纳米加工技术，具有高分辨率、高效性、可重复性和灵活性等特点。
它在光学、电子和生物医学等领域有着广泛的应用前景。
纳米压印工艺
纳米压印工艺嘿，朋友们！今天咱来聊聊纳米压印工艺，这可真是个神奇又有趣的玩意儿啊！你想想看，纳米级别的操作，那得多精细呀！就好像在一个超级小的世界里玩拼图游戏。
纳米压印工艺呢，就像是一个超级厉害的艺术家，能在那么小的尺度上创造出精美的图案和结构。
咱平常生活里用的好多高科技产品，说不定都有纳米压印工艺的功劳呢！比如说一些电子设备的芯片呀，那上面的线路可复杂了，纳米压印工艺就能把那些精细的线路给完美地印出来。
这就好比是在给芯片这个小“宝贝”化妆，让它变得更漂亮、更厉害！纳米压印工艺可不简单哦！它需要很高的技术和精度。
这可不是随便谁都能玩得转的，得有专业的设备和厉害的技术人员才行。
他们就像是一群神奇的魔法师，能把纳米世界变得丰富多彩。
做纳米压印工艺就像是盖房子，得先有个好的设计图纸，然后再一点一点地把材料堆上去，最后建成一座漂亮的大厦。
在纳米世界里也是一样，要先设计好图案，然后通过各种手段把图案印到材料上。
这中间可不能出一点差错，不然整个作品可就毁了呀！而且哦，纳米压印工艺还在不断发展呢！就像我们人会不断学习进步一样，它也越来越厉害。
以后说不定能做出更多更神奇的东西来，那我们的生活不就变得更加美好啦？想想看，未来的世界里，到处都是用纳米压印工艺制造出来的高科技产品，那该有多酷呀！我们的手机会变得更薄更轻，功能却更强大；我们的电脑会跑得更快，处理信息的能力更强。
哎呀呀，这可真是让人期待啊！朋友们，纳米压印工艺真的是一个非常有前途的技术呀！它就像是一颗闪闪发光的星星，照亮了我们未来的科技之路。
让我们一起期待它能给我们带来更多的惊喜和奇迹吧！不用怀疑，它肯定能做到的！原创不易，请尊重原创，谢谢!。
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三种技术的比较
热压印
紫外压印
微接触，好，不 好，差）
温度（高温，室温） 60 50 40 30 20 10 0
压力p/kN 最小尺寸/nm
多次压印（越高越好，好，不 好，差）
深宽比（微接触压印为无）
应用
纳米压印光刻已被用于制造用于电，光， 光子和生物应用的器件。
截至2007年10月，东芝是唯一一家经过验证的纳米压印光刻技术，面向22nm及以上的 公司。
总结
纳米压印技术是纳米尺寸大面积结构复 制的最 有前途的下一代技术之一 , 这种成 本低、效率高的纳米结构制作方法已逐渐应 用于生物医学、半导体加工和数据存储等领 域 , 因为传统热压印技术和紫外压印工艺存 在模板成本高、图形转移不稳定、压印效率 低等缺点。
是软光刻技术的 一种形式，通常使用 PDMS模板上的凹凸图案 压膜来在承印物的表面 通过面接触形成油墨自 组装单层膜的图案，就 类似纳米转移印刷的情
况
1. 模板制备 2. 生成PDMS压膜 3. 压膜上墨 4. 将压膜转移到承印物 5. 直接接触
说明：PDMS,比例为10:1的硅橡胶和硅橡胶固化剂
三种方法的对比
T-NIL步骤
聚合物被加热到它的玻璃化温度以 上。
施加压力
模压过程结束后 ,整个叠层被冷却 到聚合物玻璃化温度以下
脱模。脱模时要小心 ,以防止用力 过度而使 模具损伤。
说明：玻璃化温度，高聚物由高弹态转变为玻璃态的温度。
紫外纳米压印光刻(UV-NIL)
流程如下：被单体涂覆的衬底和透明印章装载到 对准机中 ,通过真空被固定在各自的卡盘中。当衬底和 印章的光学对准完成后 ,开始接触。透过印章的紫外曝 光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。接下来 的工艺类似于热压工艺。
紫外纳米压印光刻技术
ULTRAVIOLET NANOIMPRINT LITHOGRAPHY TECHNOLOGY
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目录：
➢ 介绍 ➢ 过程 ➢ 应用 ➢ 未来前景
介绍
纳米压印光刻（NIL）是制造纳
米尺度图案的方法。 它是一种简单的纳 米光刻工艺，具有成本低，产量高，分 辨率高。 它通过压印抗蚀剂的机械变形 和随后的工艺形成图案。 印记抗蚀剂通 常是在印迹期间通过热或UV光固化的单 体或聚合物制剂。 控制抗蚀剂和模板之 间的粘合以允许适当的释放。
分类
热塑性纳米压印光刻(T-NIL) 紫外纳米压印光刻(UV-NIL) 微接触印刷（μCP）
热塑性纳米压印光刻（T-NIL）
在标准的T-NIL工艺中，将薄的 抗蚀刻层（热塑性聚合物）,旋涂 在样品基底上。 然后将具有预定 义拓扑图案的模具与样品接触并 将它们在一定压力下压在一 起。 当加热到高于聚合物的玻璃 化转变温度时，模具上的图案被 压入软化的聚合物膜中。 冷却后， 模具与样品分离，图案抗蚀剂留 在基材上。 可以使用图案转移过 程（ 反应离子蚀刻 ）将抗蚀剂 中的图案转印到下面的基底。
对 于 电 子 设 备 ， NIL 已 被 用 于 制 造 MOSFET ， O-TFT ，单电子存储器。
对于光学和光子学，已经通过NIL制造亚波长谐振光栅 滤波器，表面增强拉曼光谱（SERS）传感器，波片，抗 反射结构，集成光子电路和等离子体激元器件进行了深 入研究。
注释：
OTFT: Organic thin film transistor有机薄膜晶体管 MOSFET: Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor金属氧化物半 导体场效电晶体
THANKS
最近紫外压印一个新的发展是提出了步进 - 闪 光压印。步进 - 闪光压印发明于 Austin（奥斯丁）的 Texas 大 学 ,它可以达到 10 nm 的分辨率。工艺如下 图所示
目标和结果
1. 石英印章接触压印 2. 进行UV曝光 3. 从基板分离印章 4. 清除残留层 5. 氧蚀剂蚀刻
微接触印刷（μCP）
未来前景
纳米压印光刻是一种简单的图案转印工艺，既
不受衍射也不受散射效应的限制，也不受二次电 子的限制，不需要任何复杂的辐射化学。 它也 是一种潜在的简单和便宜的技术。 然而，对纳 米尺度图案的延续性障碍是目前依赖于其他光刻 技术来生成模板。自组装结构可能为10纳米或更 小尺度的周期性图案的模板提供最终解决方案。