X射线光电子能谱数据处理及分峰步骤

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20111129-XPS课程-数据处理及分峰步骤

20111129-XPS课程-数据处理及分峰步骤

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C 1s分峰拟合-step 5-2
• 对激活的峰进行设置 ¾ 选择Peak Type (对应s,p,d,f轨道) ¾ 输入S.O.S(spin orbit splitting,p,d,f轨道) ¾ 输入Positon(根据鼠标确定位置) ¾ 输入FWHM (full width at half maximum)半高峰宽
检测的谱图采用相同的洛伦兹-高斯函数比
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C 1s分峰拟合-step 6
• 选好所需拟合的峰 个数及大致参数 后,点Optimise All 进行拟合
• 观察拟合后总峰与 原始峰的重合情 况,如不好,可以 多次点进行优化
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C 1s分峰拟合-step 7
• 参数查看 • 分别点选每一个小
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C 1s分峰拟合-step 9
• 删除空白行的dat数据导入Origin
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分峰拟合举例1-O 1s
• 样品:导电,不需荷电校正 • 2个结果:刻蚀30s,再刻蚀4min • pdf格式图谱:suwt-A-O 1s-pe 80-et-30s
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C 1s分峰拟合-step 4-2
• Shirley+Linear:一般默认 ¾0表示只有shirley计算背底,
¾正值表示高结合能端直线比例较高,适用于 谱图在高结合能端背底能量较强,
¾负值相反,适用于谱图高结合能端背底能量 较弱
¾Optimise用于当shirley背底某些点高于信号强 度,程序会自动增加slope值直到shirley背底低 于信号强度

X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS)

X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS)

半导体工业
晶体缺陷分析、界面性质研究 等。
环境科学
大气污染物分析、土壤污染研 究等。
X射线光电子能谱分析的优缺点
1 优点
提供元素化学状态信息、非破坏性分析、高表面敏感性。
2 ห้องสมุดไป่ตู้点
样品需真空处理、分析深度有限、昂贵的设备和维护成本。
总结和展望
X射线光电子能谱分析是研究材料表面的有力工具。未来,随着仪器和技术的 不断进步,XPS将在更多领域发挥重要作用。
X射线光电子能谱分析方 法及原理(XPS)
X射线光电子能谱分析(XPS)是一种表面分析技术,通过测量材料的X射线光 电子能谱来研究材料的电子结构和化学组成。
X射线光电子能谱分析的基本 原理
XPS基于光电效应,探测材料与X射线相互作用所放出的光电子。通过测量光 电子能量和强度,可以推断材料表面元素的化学态。
X射线光电子能谱分析的仪器和实验设备
XPS仪器
包含X射线源、光电子能谱仪 和数据处理系统。
电子枪
产生高能电子束,用于激发材 料表面。
光电子能谱仪
测量光电子的能量和角度,用 于分析材料的电子结构。
X射线光电子能谱分析的样品准备方法
1 表面清洗
去除杂质和氧化层,以确保准确测量。
2 真空处理
在超高真空条件下进行实验,避免气体影响。
3 固定样品
使用样品架或夹具将样品固定在仪器中。
X射线光电子能谱分析的数据处理和解 析方法
峰面积计算
根据光电子峰的面积计算元素含量。
能级分析
通过分析光电子的能级分布,推断材料的化学状态。
谱峰拟合
将实验谱峰与已知标准进行拟合,确定元素的化学态和含量。
X射线光电子能谱分析的应用领域

X射线光电子能谱(XPS)数据处理方法

X射线光电子能谱(XPS)数据处理方法
利用XPS鉴定维生素B12中的少量的Co。
优点及特点
固体样品用量小,不需要进行样品前处理,避免了引入 或丢失元素所造成的错误分析 表面灵敏度高,一般信息深度10nm 分析速度快,可多元素同时测定
给出原子序数3-92的元素信息,以获得元素成分分析
给出元素化学态信息,进而分析出元素的化学态或官能团 样品不受导体、半导体、绝缘体的限制等 是非破坏性分析方法。结合离子溅射,可作深度剖析
能谱图
C 1s
40000
Intensity(cps)
20000
N 1s O 1s
0 -200 0 200 400 600 800 1000 1200
Binding Energy(eV)
分峰拟合
生成text: 选择要进行拟合的数据点,copy至txt文本中, 即ABC三列数据(其中B列为空的,只包含两列数据)
分峰拟合
拟合:Optimise All
数据输出:Data中的Export(spetrum),存为.dat格式的ASCII文件
X射线光电子能谱(XPS)
XPS
XPS是一种基于光电效应的电子能谱,也叫做化学分析电子能谱(ESCA)。
基本构造
样品 光电子 能量 分析器
探测器 X射线源 AlK或MgK 数据处理 系统
基本原理
爱因斯坦光电定律: Ek = h-Eb-
用途
元素的定性分析。
根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。
元素半定量分析。
根据光电子谱线强度(光电子峰的面积)反应原子的含量或相对浓度 。
固体表面分析。
包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面 电子的电子云分布和能级结构等 。

xps分峰原则

xps分峰原则

xps分峰原则导言:1. 什么是XPS?X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy,简称XPS)是一种表面分析技术,它通过测量物质中光电子的能量和强度,分析材料的化学成分、电子态和化学键状况等信息。

2. 什么是XPS分峰?在XPS谱中,光电子的能量被划分为多个峰,每个峰代表一种特定的化学元素或电子态,通过分析这些峰的位置和形状,可以确定材料中的化学成分、组成和性质。

主体:3. XPS分峰原则的基本步骤a. 能量校正:根据电子能级和光源能量的关系,进行能量校正以提高峰的准确性和可靠性。

b. 能量与强度分析:通过分析光电子峰的位置和峰强度,可以确定样品中不同元素的相对含量和化学键的状态。

c. 峰形分析:通过分析峰的形状,可以揭示样品中的化学键态和电子态的信息。

d. 化学状态分析:通过对已知化学键态的标准样品进行比对,可以确定样品中各种元素的化学状态和化学键的形成。

4. XPS分峰原则的重要参数a. 峰位置:峰的能量位置可以表示化学元素的存在,并提供了定性和定量分析的依据。

b. 峰强度:峰的强度和峰面积可以反映样品中元素的相对含量,通过峰强度的比较可以进行定量分析。

c. 峰宽:峰的宽度反映了样品中化学键的状态和电子态的分布情况,宽峰可能表示存在多种化学键状态。

d. 峰形:峰的形状提供了样品中化学键态和电子态的信息,可以进行分子结构和表面特性的定性分析。

5. XPS分峰原则的应用领域a. 表面化学分析:XPS可以定性和定量地分析材料的表面成分和化学键的状态,广泛应用于材料科学、化学和表面科学研究领域。

b. 杂质检测:XPS可以检测材料中微量杂质的存在,并追踪其来源和影响,对于材料的纯度和稳定性评估具有重要意义。

c. 薄膜分析:XPS可以对薄膜的表面和界面进行分析,研究薄膜的成分、结构和性能。

d. 生物医学研究:XPS可以对生物样品的化学组成和表面特性进行分析,对于生物医学领域的研究具有重要意义。

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种用来表征材料表面元素化学状态和电子能级分布的表征技术。

它利用X射线照射材料表面,测量和分析材料表面光电子的能谱,通过分析能谱图可以得到有关材料的化学组成、表面化学键的种类和键长、元素的电子与核心电子之间的相互作用等信息。

本文将对X射线光电子能谱分析技术的原理、仪器设备及应用领域进行详细介绍。

X射线光电子能谱分析的原理可以用以下几个步骤来概括:首先,用X射线照射材料表面,激发材料表面的原子和分子。

然后,从激发的原子和分子中发射出光电子。

这些光电子的能量与产生它们的原子或分子的能级差有关。

最后,测量和分析这些光电子的能谱,从而得到材料表面的化学组成和电子能级分布信息。

为了进行X射线光电子能谱分析,需要使用专门的仪器设备,包括X射线源、能量分辨光电子能谱仪和电子能谱仪。

X射线源通常使用非常亮的单晶或多晶X射线管。

光电子能谱仪用来测量光电子的能谱,并将所获得的信号转化为能谱图。

电子能谱仪则用来检测、放大和记录电子能谱图。

X射线光电子能谱分析可以在多个领域应用,具有广泛的研究意义和实际应用价值。

在材料科学领域,它可以用来表征材料表面的成分和化学状态,研究材料的性质和行为;在表面科学领域,它可以研究表面的形貌和变化,探索表面的特性和反应;在催化剂和材料化学领域,它可以分析催化剂的表面状态和反应过程;在电子器件和光学器件领域,它可以研究界面和界面化学反应的机理等。

总结起来,X射线光电子能谱分析是一种非常重要的表征技术,可以提供关于材料表面的成分、化学状态和电子能级分布等信息。

通过XPS技术,可以探索材料的性质、表面的形貌以及材料的化学反应机理等,对于材料科学、表面科学、催化剂和电子光学器件等领域的研究和应用具有重要意义。

X射线光电子能谱(XPS)谱图分析

X射线光电子能谱(XPS)谱图分析

X射线光电⼦能谱(XPS)谱图分析⼀、X光电⼦能谱分析的基本原理X光电⼦能谱分析的基本原理:⼀定能量的X光照射到样品表⾯,和待测物质发⽣作⽤,可以使待测物质原⼦中的电⼦脱离原⼦成为⾃由电⼦。

该过程可⽤下式表⽰:hn=Ek+Eb+Er (1)其中:hn:X光⼦的能量;Ek:光电⼦的能量;Eb:电⼦的结合能;Er:原⼦的反冲能量。

其中Er很⼩,可以忽略。

对于固体样品,计算结合能的参考点不是选真空中的静⽌电⼦,⽽是选⽤费⽶能级,由内层电⼦跃迁到费⽶能级消耗的能量为结合能Eb,由费⽶能级进⼊真空成为⾃由电⼦所需的能量为功函数Φ,剩余的能量成为⾃由电⼦的动能Ek,式(1)⼜可表⽰为:hn=Ek+Eb+Φ(2) Eb=hn-Ek-Φ(3)仪器材料的功函数Φ是⼀个定值,约为 4 eV,⼊射X光⼦能量已知,这样,如果测出电⼦的动能Ek,便可得到固体样品电⼦的结合能。

各种原⼦,分⼦的轨道电⼦结合能是⼀定的。

因此,通过对样品产⽣的光⼦能量的测定,就可以了解样品中元素的组成。

元素所处的化学环境不同,其结合能会有微⼩的差别,这种由化学环境不同引起的结合能的微⼩差别叫化学位移,由化学位移的⼤⼩可以确定元素所处的状态。

例如某元素失去电⼦成为离⼦后,其结合能会增加,如果得到电⼦成为负离⼦,则结合能会降低。

因此,利⽤化学位移值可以分析元素的化合价和存在形式。

⼆、电⼦能谱法的特点(1)可以分析除H和He以外的所有元素;可以直接测定来⾃样品单个能级光电发射电⼦的能量分布,且直接得到电⼦能级结构的信息。

(2)从能量范围看,如果把红外光谱提供的信息称之为“分⼦指纹”,那么电⼦能谱提供的信息可称作“原⼦指纹”。

它提供有关化学键⽅⾯的信息,即直接测量价层电⼦及内层电⼦轨道能级。

⽽相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互⼲扰少,元素定性的标识性强。

(3)是⼀种⽆损分析。

(4)是⼀种⾼灵敏超微量表⾯分析技术,分析所需试样约10-8g即可,绝对灵敏度⾼达10-18g,样品分析深度约2nm。

XPS分峰的分析实例

XPS分峰的分析实例

材料X射线光电子能谱数据处理及分峰的分析实例例:将剂量为1 107ions/cm2,能量为45KeV的碳离子注入单晶硅中,然后在1100C退火2h进行热处理。

对单晶硅试样进行XPS测试,试对其中的C1s高分辨扫瞄谱进行解析,以确定各种可能存在的官能团。

分析过程:1、在Origin中处理数据图1将实验数据用记事本打开,其中C1s表示的是C1s电子,299.4885表示起始结合能,-0.2500表示结合能递减步长,81表示数据个数。

从15842开始表示是光电子强度。

从15842以下数据选中Copy到Excel软件B列中,为光电子强度数据列。

同时将299.4885Copy到Excel软件A列中,并按照步长及个数生成结合能数据,见图2图2将生成的数据导入Origin软件中,见图3。

图3此时以结合能作为横坐标,光电子强度作为纵坐标,绘出C1s谱图,检查谱图是否有尖峰,如果有,那是脉冲,应把它们去掉,方法为点Origin 软件中的Data-Move Data Points,然后按键盘上的↓或↑箭头去除脉冲。

本例中的实验数据没有脉冲,无需进行此项工作。

将column A和B中的值复制到一空的记事本文档中(即成两列的格式,左边为结合能,右边为峰强),并存盘,见图4。

图42、打开XPS Peak,引入数据:点Data--Import (ASCII),引入所存数据,则出现相应的XPS谱图,见图5、图63、选择本底:点Background,因软件问题,High BE和Low BE的位置最好不改,否则无法再回到Origin,此时本底将连接这两点,Type可据实际情况选择,一般选择Shirley 类型,见图7。

图74、加峰:点Add peak,出现小框,在Peak Type处选择s、p、d、f等峰类型(一般选s),在Position处选择希望的峰位,需固定时则点fix前小方框,同法还可选半峰宽(FWHM)、峰面积等。

各项中的constraints可用来固定此峰与另一峰的关系。

xps分峰处理

xps分峰处理

xps分峰处理
摘要:
1.什么是XPS分峰处理
2.XPS分峰处理的作用
3.XPS分峰处理的方法
4.XPS分峰处理的实例
5.XPS分峰处理的结果及分析
正文:
XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy,X射线光电子能谱)是一种表征材料表面化学组成和电子状态的分析技术。

在XPS分析中,通常会涉及到分峰处理,以便获取更多关于材料表面信息。

那么,什么是XPS分峰处理呢?
XPS分峰处理是指在XPS谱图中,将高能电子束入射到材料表面时所发生的俄歇电子、光电子和二次电子等信息进行分离和识别的过程。

这个过程可以帮助我们了解材料的化学组成、键结构、氧化态等表面特性。

因此,XPS分峰处理在材料研究、表面分析等领域具有重要作用。

XPS分峰处理的方法主要有以下几种:
1.能量过滤:通过设置不同能量范围,将不同类型的电子信号分开。

2.角度过滤:利用电子在材料表面的反弹特性,通过设置不同入射角度,实现电子信号的分离。

3.结合能量和角度过滤:综合运用能量和角度过滤方法,进一步提高分峰效果。

下面,我们通过一个实例来说明XPS分峰处理的具体应用。

在某次实验中,我们使用XPS对一种新型材料的表面进行了分析。

首先,对该材料的XPS谱图进行分峰处理,得到不同能量范围内的光电子峰、俄歇电子峰和二次电子峰。

然后,根据这些峰的形状、位置和强度等信息,我们可以推断出该材料的化学组成、键结构和氧化态等表面特性。

通过XPS分峰处理,我们可以得到更加详细的材料表面信息,从而为材料的研究和应用提供有力支持。

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4、加峰:
点Add peak,出现小框,在Peak Type处选择s、p、d 、f等峰类型(一般选s),在Position处选择希望的峰位, 需固定时则点fix前小方框,同法还可选半峰宽(FWHM) 、峰面积等。各项中的constraints可用来固定此峰与另一 峰的关系,如Pt4f7/2和Pt4f5/2的峰位间距可固定为3.45,峰 面积比可固定为4:3等。点Delete peak可去掉此峰。然后 再点Add peak选第二个峰,如此重复。

2、阅读一切好书如同和过去最杰出的 人谈话 。18:2 0:2518: 20:2518 :203/2 2/2022 6:20:25 PM

3、越是没有本领的就越加自命不凡。 22.3.22 18:20:2 518:20 Mar-22 22-Mar-22

4、越是无能的人,越喜欢挑剔别人的 错儿。 18:20:2 518:20: 2518:2 0Tuesday, March 22, 2022
点Data――Export (spectrum),则将拟合好的数据存盘 ,然后在Origin中从多列数据栏打开,则可得多列数据,并 在Origin中作出拟合后的图。

将拟合好的数据重新引回到Origin:

1、有时候读书是一种巧妙地避开思考 的方法 。22.3. 2222.3. 22Tues day, March 22, 2022
1
Counts pulse counting
0.1 6 0 0 0 0 0 401 2202.52 4127.08 2458.36 2559.72 2523.56 2553.48 2509.8
6、X轴:点A(X),再点右键,然后点set column values,出 现一个对话框,在from中填1,在to中填401(通道数),在 col(A)中填BE始-0.05*(i-1), 或直接填1486.6-KE始- 0.05*(i-1),最后点do it。
7、点Save XPS存图,下回要打开时点Open XPS就 可以打开这副图继续进行处理。
8、数据输出: 点Data――Print with peak parameters可打印带各峰参数 的谱图,通过峰面积可计算此元素在不同峰位的化学态的 含量比。
点Data――Export to clipboard,则将图和数据都复制到了 剪贴板上,打开文档(如Word文档),点粘贴,就把图和 数据粘贴过去了。
2、打开XPS Peak,引入数据:点Data----Import (ASCII),引入所存数据,则出现相应的XPS谱图。
3、选择本底:点Background,因软件问题, High BE和Low BE的位置最好不改,否则无法再回到 Origin,此时本底将连接这两点,Type可据实际
情况选择,一般选择Shirley 类型。
5、拟合:选好所需拟合的峰个数及大致参数后,点 Optimise region进行拟合,观察拟合后总峰与原始峰 的重合情况,如不好,可以多次点Optimise region。
6、参数查看:拟合完成后,分别点另一个窗口中的 Rigion Peaks下方的0、1、2等可看每个峰的参数, 此时XPS峰中变红的为被选中的峰。如对拟合结果不 region满意,可改变这些峰的参数,然后再点 Optimise。
7、此时即可以作出N1s谱图。 8、画出来的图有可能有一些尖峰,那是脉冲,应把它们去
掉,方法为点Data-Move Data Points,然后按键盘上的 或 箭头去除脉冲。
二、分峰步骤
1、将所拷贝数据转换成TXT格式:把所需拟合元素 的数据引入Origin后,将column A和B中的值复制 到一空的记事本文档中(即成两列的格式,左边 为结合能,右边为峰强),并存盘。如要对数据 进行去脉冲处理或截取其中一部分数据,需在 Origin中做好处理。

5、知人者智,自知者明。胜人者有力 ,自胜 者强。 22.3.22 22.3.22 18:20:2 518:20: 25Mar ch 22, 2022

6、意志坚强的人能把世界放在手中像 泥块一 样任意 揉捏。 2022年 3月22 日星期 二下午6 时20分 25秒18 :20:252 2.3.22

7、最具挑战性的挑战莫过于提升自我 。。20 22年3 月下午6 时20分 22.3.22 18:20 March 22, 2022

8、业余生活要有意义,不要越轨。20 22年3 月22日 星期二6 时20分 25秒18 :20:252 2 March 2022

9、一个人即使已登上顶峰,也仍要自 强不息 。下午 6时20 分25秒 下午6时 20分18 :20:252 2.3.22
X射线光电子能谱 数据处理及分峰步骤
2005.10.21
Region 1
一、在Origin中作图步骤: 1、打开文件,可以看到一列数据,找到相应元素(如
N1s)对应的Region (一个Region 对应一张谱图), 一个文件有多个Region。 2、继续向下找到Kinetic Energy,其下面一个数据为 动能起始值,即谱图左侧第一个数据。用公式
BE始=1486.6-KE始- 换算成结合能起始值,是 一个常数值,即荷电位移,每个样品有一个值在 邮件正文中给出。
2004 5 30 12 48 10
255 0
XPS Al K-alpha
1486.6 0 0 0 0 0
FAT 30 1E+37 4.453 0 0 0 0 0 N1s N1s -1 Kinetic Energy eV 1072.6 0.05 1
3、再下面一个数据是步长值,如0.05或0.1或1, 每张谱图间有可能不一样。
4、继续向下,可以找到401或801这样的数,该数 为通道数,即有401或801个数据点。
5、再下面的数据开始两个数据是脉冲,把它们舍 去,接下来的401或801个数据都是Y轴数据, 将它们copy到B(Y)。
N1s N1s -1 Kinetic Energy eV 1072.6 0.05
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