半导体光调制器的基本结构及原理
光模块调制器原理
光模块调制器原理
光模块调制器的工作原理主要基于光电效应和电光效应。
光电效应是指当光照射到某些材料表面时，光子的能量被电子吸收后，电子会被激发到导带，形成电流。
在光调制器中，通常使用半导体材料作为光电效应的工作介质。
因为半导体材料具有较高的光电转换效率和较小的电光响应时间，适合用于高速光通信系统中。
电光效应是指当电场作用于某些材料时，会改变材料的折射率，从而改变光的传播速度和路径。
在光调制器中，相位调制器和强度调制器都利用了电光效应。
相位调制器利用线性电光效应改变光的相位，而强度调制器则利用电致吸收效应改变光的强度。
此外，偏振调制器也是光调制器的一种，其原理是电信号控制光载波的偏振态。
当输入数字“0”时，输出光为+45℃方向的线偏振光；当输入数字“1”时，输出光为-45℃方向的线偏振光。
通过检测光载波的偏振态，可以恢复
出电信号。
以上信息仅供参考，如果您还有疑问，建议咨询专业人士。
半导体光电子器件ppt
描述光子被半导体材料吸收后产生的电子跃迁和能量吸收现象。
光的吸收
光的产生与吸收
光电二极管的工作原理
重点介绍光子与半导体PN结的作用机制，以及产生的光电流和反向饱和电流的竞争关系。
激光二极管的工作原理
包括阈值条件、模态选择和调谐方法等，以及它们在光电子器件中的应用和限制。
半导体光电子器件的工作原理
具有更高的光电子器件性能，如高速、低功耗、高稳定性等。
硅基光电子器件
利用成熟的CMOS工艺，实现高速、低成本、高集成度的光电子器件。
石墨烯等二维材料
具有超高的载流子迁移率和热导率，可实现高速、低能耗的光电子器件。
01
02
03
高性能光电子器件
01
需要具备高速度、低功耗、高稳定性等特点，同时要求具有优良的热稳定性和机械强度。
半导体光电子器件在光传感领域也有着广泛的应用，如光学陀螺仪、光谱分析仪等。
光传感
03
多功能化
为了满足多样化的应用需求，半导体光电子器件正在向着多功能化的方向发展，如同时实现调制、滤波、放大等功能。
半导体光电子器件的发展趋势
01
高性能化
随着信息技术的发展，对半导体光电子器件的性能要求越来越高，如高速、低耗、稳定性等。
半导体光电子器件ppt
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目录
介绍半导体光电子器件的基本原理半导体光电子器件的结构与特性半导体光电子器件的制作与工艺半导体光电子器件的应用实例半导体光电子器件的发展趋势与挑战
介绍
01
半导体光电子器件的定义
指利用半导体材料和器件实现光-电信号转换的器件。
半导体光电子器件的分类
半导体光电子器件的结构与特性
TOSA基本结构与工艺原理
TOSA基本结构与工艺原理TOSA（Transmitter Optical Sub-Assembly）是一种光发射器件，它通常用于光纤通信中的光发送功能。
TOSA的基本结构主要包括激光器、调制器、光学耦合器和连接器等关键组件。
下面将详细介绍TOSA的基本结构与工艺原理。
1.激光器激光器是TOSA的核心组件，它能够将直流电信号转换为光信号。
常用的激光器类型有半导体激光器和纤维激光器。
在TOSA中，半导体激光器是最常用的光源，它由P-N结构的半导体材料构成，通过外加电压激发电子和空穴重新组合，产生光子。
激光器通常需要进行温度控制，以确保其稳定性和性能。
2.调制器调制器是用于将电信号转换为光信号的关键部件。
珠宝可以分为直接调制器和外调制器两种类型。
直接调制器直接在光源中修改光的属性，而外调制器通过在光源前添加电光调制器来控制光的强度或相位。
在TOSA 中，调制器通常使用直接调制器，它的工作原理是通过改变电压来改变光的强度，实现光信号的调制。
3.光学耦合器光学耦合器用于将激光器产生的光束耦合到光纤中，以实现光信号的传输。
光学耦合器通常由透镜、波导和光纤连接器等构成。
在TOSA中，透镜用于聚焦光束，波导用于将光束引导到光纤中，光纤连接器则用于将光纤与TOSA的光学系统连接。
4.连接器连接器用于将TOSA与其他光纤通信设备相连，以实现光信号的传输。
常用的连接器类型有SC、FC和LC等。
连接器通常由金属套筒和陶瓷套管等构成，通过精确的机械对位和光学连接来保证光信号的传输质量。
TOSA的制造工艺原理主要包括光学元件制备、精确对位和器件封装等步骤。
1.光学元件制备在TOSA制造过程中，需要制备激光器、调制器、透镜和波导等光学元件。
制备光学元件通常涉及材料选择、器件设计和工艺参数的优化等方面。
材料选择过程中，需要考虑元件的特性需求和制造成本等因素。
器件设计过程中，需要根据具体要求确定器件的尺寸、结构和参数等。
工艺参数的优化涉及到制备过程中的温度、压力和时间等因素，以确保元件的成形和性能。
半导体工作原理
半导体工作原理半导体是一种具有特殊导电性质的物质，其工作原理是通过控制电子在晶体内的运动来实现电流的流动和信号的传输。
本文将从半导体的基本结构、载流子的行为、PN结的作用以及半导体器件的应用等方面来详细介绍半导体的工作原理。
一、半导体的基本结构半导体的基本结构是由正负离子构成的晶体，其中正离子称为“空穴”，负离子称为“电子”。
半导体的原子排列非常有序，形成了一个晶体结构，使得半导体具有特殊的电学性质。
半导体可以分为P型半导体和N型半导体。
P型半导体中，掺杂了少量的三价杂质原子（如硼、铝等），使得半导体中原本的四价原子失去一个电子，形成一个空穴。
因此，P型半导体中的主要载流子是空穴。
N型半导体中，掺杂了少量的五价杂质原子（如磷、锑等），使得半导体中多出一个电子。
因此，N型半导体中的主要载流子是电子。
二、载流子的行为在半导体中，载流子的行为直接决定了电流的流动方式和特性。
当半导体中没有外加电压时，P型半导体中的空穴和N型半导体中的电子会通过热运动发生扩散，从而形成电荷分布不均匀的区域。
这个区域称为PN结。
当在PN结上加上正向偏压时，P型半导体的空穴会向前推进，N 型半导体的电子会向后推进，两种载流子在PN结区域相互结合，形成一个电子和空穴的复合区域，这个区域称为耗尽层。
在耗尽层内，电子和空穴复合并释放出能量，形成一个电场，阻碍进一步的电子和空穴的扩散。
当在PN结上加上反向偏压时，P型半导体的空穴会被引向N型半导体，N型半导体的电子会被引向P型半导体。
这样，PN结两侧的载流子会被电场阻止，形成一个无法通过的屏障，这个屏障称为势垒。
三、PN结的作用PN结是半导体器件中最基本的结构，具有重要的作用。
在二极管中，PN结的作用是实现电流的单向导通。
当二极管的正向偏压大于势垒电压时，电子和空穴能够克服势垒，通过PN结，形成电流的流动。
而当二极管的反向偏压大于势垒电压时，PN结的势垒会变得更高，电子和空穴无法克服势垒，电流无法通过，实现了电流的截止。
光调制器原理
光调制器原理
光调制器是一种能够控制光信号传输的重要器件，它在光通信、光传感和光信息处理等领域有着广泛的应用。
光调制器的原理主要包括电光效应、光学相位调制和强子隧道效应等，下面将对这些原理进行详细介绍。
首先，电光效应是光调制器中最常见的原理之一。
它利用外加电场改变介质的折射率，从而实现光信号的调制。
当在介质中施加电场时，介质的折射率会发生变化，进而改变光的传播速度和相位，从而实现光信号的调制。
电光效应广泛应用于各种类型的光调制器中，如电吸收调制器和电光调制器等。
其次，光学相位调制是另一种常见的光调制器原理。
它通过改变光波的相位来实现光信号的调制。
光学相位调制通常通过在光路中引入相位调制器来实现，其中最常见的原理是利用电光效应或者电声光效应来改变光波的相位，从而实现光信号的调制。
光学相位调制器具有调制速度快、带宽宽等优点，在光通信系统中有着重要的应用。
最后，强子隧道效应也是一种重要的光调制器原理。
它利用外加电场改变半导体中的载流子浓度，从而改变半导体的折射率，实现光信号的调制。
强子隧道效应在半导体光调制器中有着重要的应用，尤其是在高速光通信系统中，其调制速度和调制深度均能满足系统的要求。
综上所述，光调制器的原理主要包括电光效应、光学相位调制和强子隧道效应等。
这些原理在光通信、光传感和光信息处理等领域有着重要的应用，为光学器件的发展提供了重要的技术支持。
随着光电子技术的不断发展，相信光调制器在未来会有更加广泛的应用。
光调制器_基本原理与结构
Copyright Wang Yan
Optical fiber communications 1-14 2011-10-30
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1. 工作原理：延迟器 工作原理： 相位延迟器由各向异性介质构成,在其快慢轴上色折射率不同, 相位延迟器由各向异性介质构成,在其快慢轴上色折射率不同, 为n1,n2。 n1,n2。 外加电场E 外加电场E
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（2）
若φ（0）＝2π 未加信号时， (v)|V =0 1 加Vπ
v=v
τ = 2 ( π )=0 τ (v)| π =cos 2
调制器的传输系数在 0，两个状态之间转换， 1， 构成光开关 这种强度调制器的工作 速率目前可达几个 ，通过25GHZ GHZ 也是可能的
介电抗渗参数20121031opticalfibercommunications压比克尔效应要低一些线性电光效应所需的电二次电光系数克尔电光效应线性电光系数谱克尔电光效应参数未加电场时的介电抗渗c
Optical fiber communications 1-1
2011-10-30
第六节 光调制器
Copyright Wang Yan
φ = φ (0) - π
V Vπ
rn 3 LE λ0 = π －》Vπ = π 3 纵向 λ0 rn d λ0 Vπ = 3 横向 l rn
半波电压V 决定于调制材料的特性(n r)工作波长 (n和 工作波长λ 半波电压Vπ决定于调制材料的特性(n和r)工作波长λ及d/l
Optical fiber communications 1-6
2011-10-30
Copyright Wang Yan
半导体激光器 原理
半导体激光器原理
半导体激光器是一种基于半导体材料的激光发射装置。
它通过电流注入半导体材料中的活性层，使其产生载流子（电子和空穴）重组的过程中释放出光子。
以下是半导体激光器的基本原理：
1. P-N结构：半导体激光器通常采用P-N结构，其中P区域富含正电荷，N区域富含负电荷。
2. 电流注入：当电流从P区域注入到N区域时，电子和空穴
会在活性层中重组，形成激子（激发态）。
3. 激子衰减：激子会因为与晶格的相互作用而损失能量，进而衰减为基态激子。
4. 辐射复合：基态激子最终与活性层中的空穴重新结合，释放出光子。
这个过程称为辐射复合。
5. 光放大：光子通过多次反射在激光腔中来回传播，与活性层中的激子相互作用，不断放大。
6. 反射镜：激光腔两端分别放置高反射镜和透明窗口，高反射镜可以增加内部光子的反射使其在腔内传播，透明窗口允许激光通过。
7. 激光输出：当达到一定放大程度时，激光在透明窗口处逃逸，形成激光输出。
通过控制电流注入和激光腔的结构设计，可以调节半导体激光器的发射波长、功率等参数，以满足不同应用领域的要求。
光调制器的基本原理和应用
光调制器的基本原理和应用1. 光调制器的定义光调制器是一种可以改变光信号的强度、相位或频率的器件，常用于光通信、光传感和光电子学等领域。
通过对光信号进行调制，可以实现光信号的传输、调制和控制。
2. 光调制器的基本原理光调制器的基本原理是利用物质对光的吸收、散射或干涉等特性来对光信号进行调制。
常见的光调制器包括电吸收调制器、电光调制器和光电导调制器等。
2.1 电吸收调制器电吸收调制器是利用半导体器件在电场作用下发生能带结构变化的原理来实现光信号的调制。
当施加电压时，电场会改变半导体的能带结构，进而改变其吸收光子的能力。
通过调节施加在电吸收调制器上的电压，可以实现对光信号的强度调制。
2.2 电光调制器电光调制器是利用光学非线性效应（如Pockels效应）来实现光信号的调制。
在电光调制器中，应用外加电压可以改变材料的介电常数，从而影响材料内部光的传播速度和折射率。
通过调节外加电压的大小，可以实现对光信号的相位调制。
2.3 光电导调制器光电导调制器是利用半导体材料的光电导效应来实现光信号的调制。
当光照射到半导体材料时，会产生光生电子和空穴，从而引起电导率的变化。
通过改变光照射强度或信号频率，可以实现对光信号的频率调制。
3. 光调制器的应用光调制器在现代光通信系统和光电子学中有着广泛的应用。
3.1 光通信在光通信系统中，光调制器用于调制光信号的强度或相位，实现数字信号的传输。
通过改变光信号的强度或相位，可以实现光纤传输中的调制、解调和编码等功能，提高光通信系统的传输速率和容量。
3.2 光传感光调制器在光传感领域中扮演着重要的角色。
通过对光信号的调制，可以实现对环境参数的测量和监测。
例如，利用光强度的调制可以实现光纤传感器的应变测量和温度测量。
3.3 光电子学光调制器在光电子学领域中也有诸多应用。
通过对光信号的调制，可以实现光电子器件的控制和操作，例如光开关、光调控器和光放大器等。
光调制器的高速性能和低功耗特点，使其在光电子学中具有广泛的应用前景。
光调制器_基本原理与结构
光调制器_基本原理与结构光调制器是一种能够对光信号进行调制的器件，广泛应用于光通信和光电子技术领域。
它能够将电信号转换为光信号，或者将光信号转换为电信号，实现信号的调制和解调。
光调制器的基本原理与结构有三种主要类型，分别是电光调制器、光电调制器和光声调制器。
电光调制器是通过外加电场改变介质折射率来实现光信号的调制。
其基本结构由驱动电极、活动区、光波导以及输入输出端口组成。
当外加电场作用于驱动电极时，电场会在活动区产生电场分布。
由于光波导的折射率与电场强度有关，因此电场的变化会引起波导的折射率发生变化，从而改变光波传播的速度。
通过控制驱动电极上的电压信号，可以实现对光信号的调制。
光电调制器则是利用半导体材料的光电效应，实现光信号的调制。
光电调制器的基本结构由光波导和掺杂区组成。
当掺杂区被外加电压偏置后，会形成一个电场，从而改变掺杂区的折射率。
这种变化会导致光封装在掺杂区附近的折射率发生变化，从而对光信号进行调制。
光声调制器则是通过光声效应将声波信号转化为光信号。
光声调制器的基本结构由光纤、光声晶体以及声波发生器组成。
当声波发生器产生声波信号并通过光纤传输到光声晶体中时，光声晶体会产生正负溶胀效应。
这种效应会导致光波传播的速度和波长发生变化，从而对光信号进行调制。
总结起来，光调制器的基本原理是通过外部电场、光电效应或光声效应来改变介质的折射率，从而实现对光信号的调制。
不同类型的光调制器在工作原理和结构上有所差异，但都能够实现对光信号的调制和解调，广泛应用于光通信和光电子技术领域。
半导体激光器发光原理及工作原理
半导体激光器发光原理及工作原理引言概述：
半导体激光器是一种重要的光电器件，它在光通信、激光打印、激光医疗等领域有着广泛的应用。
本文将详细介绍半导体激光器的发光原理及工作原理，从五个大点进行阐述。
正文内容：
一、半导体激光器的基本构造
1.1 半导体材料的选择
1.2 PN结的形成
1.3 激活层的添加
二、发光原理
2.1 能带结构
2.2 电子与空穴的复合
2.3 能带间跃迁
三、工作原理
3.1 正向偏置
3.2 注入电流
3.3 激光的产生
四、半导体激光器的特性
4.1 波长可调性
4.2 窄线宽
4.3 高效率
五、应用领域
5.1 光通信
5.2 激光打印
5.3 激光医疗
总结：
综上所述，半导体激光器的发光原理及工作原理是基于半导体材料的能带结构和电子与空穴的复合，通过正向偏置和注入电流来实现激光的产生。
半导体激光器具有波长可调性、窄线宽和高效率等特点，因此在光通信、激光打印和激光医疗等领域有着广泛的应用前景。
随着科技的不断发展，半导体激光器将会在更多领域展现其巨大的潜力。
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半导体光调制器的基本结构及原理学院：电子信息学院专业：光电子科学与技术学号：1142052022姓名：代中华一引言虽然半导体激光器可以直接进行调制产生光信号，但是在高速率调制状态下会产生严重的啁啾，将不利于长距离、大容量的干线光纤通信传输。
如果让激光器只是静态直流工作，再外加光外调制器调制光信号，则可能减小频率啁啾，从而大大提高信号传输性能，以成为大容量长距离光线系统光源。
在各种光调制器中，半导体光调制器既具有优良的光调制特性，又具有体积小、功率低的优点，从而得到了广泛采用。
半导体光调制器可分为强度调制器件和相位调制器件。
在目前的光纤通信系统中，主要采用强度检测方式，所以强度调制型光调制器的研制占着绝大多数的比重。
目前得到广泛采用的半导体强度调制器主要有两种：利用量子限制斯塔克效应(quantum-confined-Stark effect, QCSE)的电吸收(Electroabsorption, EA)调制器和Mach-Zehnder(M-Z)型光调制器。
二电吸收调制器电吸收调制器是依靠材料在外电场中吸收率发生变化来工作的。
调制器结构不同，产生电吸收的机理也不尽相同。
按照调制器的结构，可以分为体材料、超晶格和多量子阱三类，其机理又可以分为三种：1. Franz-Keldysh 效应2. Wannier-Stark局域化效应3. 量子限制Stark 效应。
下面分别介绍这三种效应。
1. Franz-Keldysh 效应在体材料电吸收型调制器中，吸收层采用的是体材料(Butt Material)，依靠Franz-Keldysh效应实现调制。
在体材料中，光子吸收主要发生在价带电子被受激跃迁到导带的情况。
外电场使能带倾斜，当外电场很强时，价带电子通过隧穿跃迁到导带的几率大大增加，有效能隙减小，使得吸收边发生红移，这种效应就是Franz-Keldysh 效应。
由于体材料电吸收调制器的有源层厚度在几百纳米量级，生长控制比较简单；有源层结构对光生载流子的限制较小，光生载流子的逸出相对于多量子阱调制器容易，因而在大功率下的调制特性上，体材料调制器有一些优势。
另外，和直接调制方式相比，其频率啁啾也比较小。
但是，Franz-Keldysh 效应的特点是带间跃迁，加上体材料的抛物型能态密度，所以体材料调制器具有吸收率随调制电压变化缓慢、调制电压高、消光比小等缺点。
2. Wannier-Stark 局域化效应超晶格电吸收调制器采用半导体超晶格材料来制作调制器的吸收层。
在超晶格材料中，外电场会使本来通过共振隧穿在耦合很强的各个量子阱间作共有化运动的载流子重新局域到各个量子阱中(即Wannier-Stark 局域化效应)，伴随着这一过程，将出现一系列称为Stark 阶梯跃迁的阱间跃迁，它们会造成吸收峰的位置随外电场强度的变化基本上呈现线性的移动。
利用这种吸收峰和吸收边的移动，可以得到调制电压很低的电吸收调制器。
图6.1是这类调制器的典型调制特性。
图 6.1 超晶格型电吸收光调制器图 6.1 超晶格型电吸收光调制器在弱电场下时依靠阱间跃迁产生吸收，但是当电场超过一定强度时其阱间跃迁几率迅速减小，因此在调制特性上形成了一个谷点，因此这种调制器的调制电压也只能工作于较低的电压下，从而限制了其消光比。
超晶格型调制器的突出优点是调制电压低，消光比可达到0.75 V 10 dB ，而且器件的啁啾特性也比一般的多量子阱调制器好。
其缺点是超晶格材料生长困难，不能实现大的消光比。
3. 量子限制Stark 效应1. 激子如图6.2所示，在较低的载流子浓度和较低温度下，电子和空穴以较长的周期互相围绕运动，形成激子态，类似于氢原子的情况，电子从低能级激发到高能级，但它还属于氢原子。
B E 为激子束缚能，meV 量级。
2.量子阱材料中的量子限制斯塔克效应(QCSE, Quantum Confined Stark Effect)基于量子阱材料的调制器是目前最广泛采用的一类调制器，其有源区采用量子阱或者多量子阱材料。
在体材料调制器中，由于其激子近似为三维激子，其束缚能较小，在室温下很容易被离化，激子很少能够存在。
在半导体量子阱材料中，由于电子和空穴的运动受到量子阱势垒的限制，激子为准二维激子，束缚能增大，激子在室温下能够得以存在，从而形成吸收曲线带边尖锐的激子吸收峰。
激子吸收峰对应的光子能量为：ω=++-E E E E g e h h B 11 (6.1)其中，E g 为势阱材料的带隙，E e1和E hh1分别为导带第一电子能级与价带第一重空穴能级，E B 为激子束缚能。
由于激子吸收峰的存在，多量子阱材料的吸收曲线具有陡峭的边缘。
当在垂直于量子阱壁的方向上施加电场时，量子阱能带发生倾斜，电子与空穴的量子能级下降，使吸收边发生红移。
同时，电场的存在使构成激子的电子与空穴向相反的方向移动，导致激子束缚能降低，对吸收边有兰移作用。
施加垂直方向电场的总效果是使吸收边红移。
这种量子阱材料的吸收边随垂直阱壁的电场而发生红移的现象称为量子限制Stark 效应。
E E CE V图6.2 能隙中的激子图6.4为不同外加电场下量子阱材料的室温光吸收谱，从中可明显地看出激子吸收峰随外加电场的红移。
在吸收边红移的同时，依靠量子阱的限制作用，激子结构依然存在，只是由于电场的作用，激子吸收峰会有所降低和展宽，但仍然保持比较陡峭的吸收边。
三 量子阱调制器1. 量子阱电吸收调制器的结构根据量子限制Stark 效应，对于波长处于多量子阱材料的吸收边外而又靠近吸收边的入射光，其吸收系数会在施加垂直电场后有明显变化。
可以利用这一原理制成电吸收型光调制器。
为提高消光比，一般的电吸收调制器均采用波导型结构，使入射光通过多量子阱结构的吸收层，改变所加的反向偏压，形成光吸收，达到强度调制的目的。
如吸收系数的改变量为∆α，器件波导长度为L ，则该电吸收型光调制器的消光比为exp(Γ∆αL )，其中Γ是吸收波导层的光限制因子。
利用量子限制Stark 效应制作的电吸收型光调制器由于具有调制速率高、驱动电压低、体积小、结构与工艺便于与半导体激光器集成等一系列优点，成为广泛应用的外调制器结构。
.2.量子阱电吸收调制器工作特性为了实现高速率、大功率的光调制，需要对电吸收调制器的材料、器件结构及封装进行仔细的设计。
在设计中，需要考虑以下几个重要参数：消光比、调制电压、插入损耗、饱和功率、小信号调制带宽和啁啾特性等。
其中，消光比、调制电压、插入损耗和饱和功率为静态参数，而调制带宽与啁啾特性为动态特性。
在实际的电吸收调制器设计过程中，以上诸参数往往需要同时加以考虑，尤其是进行高速电吸收调制器的设计时，更需要兼顾动态和静态特性指标，进行整体优化。
由于这些特性图6.4量子阱材料吸收谱随外加电场的变化指标往往相互制约，难以同时获得理想值，因此要根据实际应用的需求进行综合分析和处理，以期满足应用的具体要求。
在下面进行分别讨论的同时，我们将特别注意指出参数间的相互联系。
1. 静态特性(1) 消光比与调制电压消光比定义为光调制器在通断状态的输出光强比。
在实际应用中，通常要求光调制器的消光比大于10 dB ，但不必过高以免造成设计和制作上的困难，一般以10~20 dB 为宜。
调制电压指达到一定的消光比(如10 dB)时所需施加的反向偏压的大小。
由于高频驱动电源一般采用数字电路实现，无法获得很大的输出电压峰－峰值，所以要求调制器在较小的调制电压(2~3 V)下实现一定的消光比(10~20 dB)。
电吸收型调制器的消光比是多量子阱材料量子限制Strark 效应强弱的直接体现。
在二级微扰近似下，量子阱基态能级的偏移量可以表示为：∆E C m eFL p e r t 12224()*=- (6.2)其中，C pert 为一常数，m *为载流子有效质量，F 为外加电场强度，L 为阱宽。
上表明量子限制Stark 效应随外加电场的增强而变大，但在实际应用中由于高速调制时调制电压的限制，难以采用增大外加电压的方法来提高调制器的消光比。
另一方面，由于高速调制要求尽量减小调制器电容，因此也不能依靠减小多量子阱区的厚度来获得较大的电场强度。
从(6.2)式中还可以看出，吸收边的红移与量子阱阱宽的四次方成正比，故可以通过增大量子阱阱宽来提高消光比。
增大阱宽还有助于获得较小的调制器电容，实现高速调制。
但应当指出，在增大量子阱阱宽的同时，将使相同偏置电压下多量子阱区的电场下降，并削弱激子的强度，从而对消光比产生负面影响。
因此，量子阱结构存在一优化值，需要合理设计以达到最佳效果。
(2) 插入损耗插入损耗反映了外调制器与其他光电器件耦合时的损耗特性，是分立调制器的一个重要参数。
电吸收调制器的插入损耗主要由吸收曲线的边缘陡峭程度、工作波长与吸收边的失谐量决定，同时，还受调制器的波导结构及端面反射系数的影响。
由于电吸收调制器吸收系数与反向偏压呈非线性关系，为了实现较大的消光比，一般需要使调制器工作于一定的静态反压下，这样就会增大调制器的插入损耗。
为了在保证足够的消光比的前提下，实现较小的插入损耗，一般采用∆α/α0作为器件设计的参数，要求∆α/α0大于一定的数值，其中α0为调制器出于开状态时的吸收系数。
为获得较小的插入损耗，需要使多量子阱材料的吸收边陡峭，同时合理地设计失谐量∆λ，降低调制器开状态的吸收系数。
同时，需要对调制器的端面实行减反镀膜，降低反射损耗。
此外，与光纤模场半径匹配的波导结构的设计也是影响调制器插入损耗的重要因素。
(3) 饱和功率饱和功率可以定义为消光比与小信号条件相比下降1 dB 时的入射光功率，它反映了电吸收调制器在高入射光功率下的工作特性。
电吸收型调制器波导层在对入射光进行吸收的同时会产生光生载流子。
在高速大功率工作的情况下，由于量子阱势垒对载流子的限制作用，大量的光生载流子来不及从中逸出，会形成光生载流子的积累。
积累的光生载流子会屏蔽外电场，使消光比大为降低，影响大功率下的消光比和调制带宽。
在多量子阱电吸收型调制器中，由于量子阱对载流子的限制作用加强，这一效应更加明显。
图6.6所示为不同入射光强下的吸收系数。
影响光生载流子积累的关键是载流子的逸出速度。
实验表明，对光生载流子的积累起决定性作用的是光生空穴，特别是重空穴，因为它的有效质量大得多。
时间分辨光电流的测量表明，电子的逸出时间常数为30 ps ，而空穴的时间常数为4.4 ns 左右。
为进一步讨论该问题，考虑光生载流子在有外电场的多量子阱中的寿命。
根据热发射和隧穿模型，有： ττi R i i b i b i iA E F k TB L m E F --≈++-1122e x p (()/)e x p (()/)∆∆ (6.3)该式右端各项依次表示复合、热发射和势垒隧穿对载流子寿命的影响。