集成电路布图设计确权和侵权的司法鉴定

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布图设计专有权的保护范畴（2）
• 《条例》第四条：“受保护的布图设计应当具有独创性”。
– 布图设计不保护公有领域的常规设计； – 布图设计保护具有独创性的常规设计组合； – 受保护的布图设计应具有一定的创造性。
• 布图设计专有权不保护唯一或非常有限的表达。
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纵向解剖
M1
Via1 Contact
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版图实例
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二、布图设计保护的法律要件
• • 布图设计专有权的保护范畴 布图设计保护法律要件分析
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布图设计专有权的保护范畴（1）
• 《条例》第五条：“布图设计的保护，不延及思想、处理 过程、操作方法或者数学概念等。”
– – – – 与著作权的表述极为类似； 布图设计保护的客体只能是“为集成电路制造而准备的三维配置” 专利法已经对设计思想进行了保护； 如何对布图设计中的“思想”和“表达”进行区分，尤其是电路 图是归为“思想”还是归为“表达”。
– 集成电路具有工业实用性； – 创造性适于评价布图设计的技术属性。
• 布图设计的创造性要求介于著作权和专利权之间
– 略高于著作权而远低于专利权。
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四、布图设计独创性判断
• • 布图设计独创性的判断原则 布图设计独创性的判断方法
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布图设计独创性的判断原则
• 独创性判断的客体是必须限定在“思想表达”而不能延及 “思想本身”； • 独创性的判断主体是能够知晓“常规设计”和“表达受限” 的设计人员； • 独创性必须具备“独立创作性”和“创造性”两个内涵； • 独创性的参照物是布图设计和制造领域内的“常规设计”， 但不局限于一个； • 独创性的判断应考虑工业实用性，达不到工业实用性要求 的布图设计不予保护； • 布图设计独创性的判断方法必须与独创性所属的技术领域 的技术要求相匹配。
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• 各国保护客体方面的实质性内容基本相同
– 把保护客体限定在半导体集成电路内； – 受保护的都是为制造而准备的三维配置。
• 集成电路布图设计
– 是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或 者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述 三维配置。
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管芯纵向解剖实例
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M3
• • • • 把范围限定在半导体集成电路； 区分分离器件和集成电路； 区分PCB等和集成电路； 特指集成电路芯片的管芯。
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三层含义图示
分离器件
芯片
印刷线路板
芯片
管芯
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集成电路布图设计概念
• 集成电路布图设计概念各国表述
– – – – – 美国—掩模作品（ Mask-Works）； 日本— 线路布局（Circuit Layout）； 欧盟— 拓扑图（Topography）； TRIPS协议— 布图设计（Layout Design）； 中国— 布图设计（Layout Design）。
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布图设计独创性的判断方法
• 独立创作性判断方法
– 可采取“接触”举证方法； – 也可采用“技术证据证明接触”同“被告非接触申诉”相结合方 法。
• 创造性的判断方法— 逐步瘦身法
– 去除布图设计中不受保护的“设计思想”部分； – 去除布图设计中不受保护的“常规设计部分”； – 去除布图设计中不受保护的“唯一或有限表达部分”；
• 集成电路各国名称
– 美国称为半导体芯片；日本称为半导体集成电路；欧盟称为半导 体产品；中国与《华盛顿条约》保持一致，称为集成电路。
• 《条例》对集成电路的定义
– 集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至 少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集 成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或 者最终产品。 – 此定义包含了如下几个含义（一个限定、两个区分和一个特指）
• • 布图设计的独立创作性 布图设计的创造性
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布图设计的独立创作性
• 《条例》第四条的规定确立了布图设计权是一种私权
– 布图设计权的获取必须在作者独立创作基础上实现； – 独立创作性是指集成电路设计者思想表达的独立性，而非思想创 作的独立性。
• 独立创作性并不要求布图设计的新颖性
– 布图设计只要求独立完成，并不要求首创； – 不排斥两个独立完成的内容相近甚至相同的布图设计； – 当遇到产生知识产权纠纷的两个相似很高的布图设计时，不能仅 凭布图申请的先后顺序来判定侵权，还需要确定双方是否独立完 成—是否“接触”。
• 现有判断原则不足之处
– 对“表达”和“思想”的界定不明确； – 对法律实质要件的表述非常概括，容易造成设计人员和法律工作 人员在理解和实施上的不统一； – 概念上表述不明确；“量”的方面没有明确标准； – 法律程序上是独创性由谁来提出，谁来取证，以及提出时间都没 有明确规定。
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三、 布图设计的独创性研究
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独创点侵权的判定方法—版图相似性判断
• 版图相似性判断使用范围
– 版图相似性的判断范围仅适用于独创点侵权的判定； – 全芯片的版图相似性判断只是适用于芯片的独创性是由常规设计 的组合形成的这一种情况。
集成电路布图设计确权和 侵权的司法鉴定
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内容提要
• 集成电路布图设计定义 • 集成电路布图设计保护的法律要件 • 集成电路布图设计的独创性研究 • 集成电路布图设计的独创性判断 • 布图设计侵权取证方法
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一、集成电路布图设计定义
• • • 集成电路定义 芯片和管芯 集成电路布图设计定义
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集成电路定义
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创造性是独创性的必然要求
• 法律要求布图设计必须具备创造性
– 《条例》中的“智力劳动”体现出布图设计创造性的特征； – 《条例》中的“非常规设计”也体现出布图设计创造性的特征。
• 布图设计的作品属性也决定其有创造性
– 在欧美国家，对作品的独创性不仅提出“个性”要求还提出了 “质量”要求。
• 集成电路的技术属性决定其具有创造性
– 这是著作权的中的理论，同样适合于集成电路电路； – 如果对唯一或非常有限的表达进行保护，就相当于对思想进行了 保护。
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布图设计保护的法律要件分析
• 受法律保护的布图设计必须具备法定的程序要件和实质要 件
– 受保护的布图设计的实质要件是独创性； – 各个国家对独创性的规定均包含两个原则：
• 该布图设计是创作者自己的劳动成果； • 该布图设计不是公认的常规设计，受保护的由常规设计组成的布图设 计，其组合作为整体也应当不是常规的。