椭偏光法测量薄膜的厚度和折射
椭偏光法测薄膜的折射率和厚度

(a) t’ A Y’ t’ Y’ A
(b)
图5-3反射线偏光的检测 3.A、P与物理量、A的数量关系: 由前所述,在消光情况下,反射光为线偏振光,反射光的P波和S波 的位相差应为: (……) 当K=1时,则有 (5-7) 当k=3时,则有 (5-8) 椭偏仪中A、P的读数范围都是~,但△实质上是正弦函数,具有周期 为2 。为使P在~。范围读出,则必须:对应△=0时, 由 对应时, 由 因此公式,对应P的读数范围是 而当△=时, 由 因此公式对应P的读数范围是 这样,△在~之间变化,而P的读数范围是~。 现在再来研究和A之间的关系,的变化范围~,而A的读数范围为 ~。因此在~范围内,=;而在~范围内,考虑到实质上是正切函数, 由三角函数关系 因此将有,(此时)根据据这个性质,相应作如下规定: 为; 为。 若测量时检偏器的检偏角在处可消光,则在处仍可消光(对应于图5-3(b) 的情况)。但这时起偏器的起偏角也要相应地改变。规定相对应的起偏 角为P,,与相对应的起偏角为。由于(、)与(、)都是对样品同一个位置 进行测量得到的数据,因此这两组数据之间必然有一定的换算关系。换 算关系为: (5-9) 顺便指出: ①由于的变化范围是~,因此必须把测量(、)用(5-9)式换算成(、); ②理论上,,实际上由于各种误差使得上述结果只是近似的,即两组 测量值(、)与(、)并不对称。计算时取、和、的平均值。
值、,将起偏器、检偏器分别调到该理论值,再仔细调节并真正达到消 光状态,记下此时的方位角、。 7、重复上述步骤,测出5组数据(注:每一组均包括、,、)。 8、由于检偏方位角限取~,若>90。,须利用(5—9)式,将、换 算为、。 9、利用(5—10)式由5组数据(、,、)算出,。 10、利用(5—11)式算出△和。 11、利用椭偏仪列线图测出薄膜的折射率,和厚度d.
椭偏仪的测折射率和薄膜厚度

椭偏仪测折射率和薄膜厚度实验简介椭圆偏振光在样品表面反射后,偏振状态会发生变化,利用这一特性可以测量固体上介质薄膜的厚度和折射率。
它具有测量范围宽(厚度可从10^-10~10^-6m量级)、精度高(可达百分之几单原子层)、非破坏性、应用范围广(金属、半导体、绝缘体、超导体等固体薄膜)等特点。
目前商品化的全自动椭圆偏振光谱仪,利用动态光度法跟踪入射光波长和入射角改变时反射角和偏振状态的变化,实现全自动控制以及椭偏参数的自动测定、光学常数的自动计算等,但实验装置复杂,价格昂贵。
本实验采用简易的椭圆偏振仪,利用传统的消光法测量椭偏参数,使学生掌握椭偏光法的基本原理,仪器的使用,并且实际测量玻璃衬底上的薄膜的厚度和折射率。
在现代科学技术中,薄膜有着广泛的应用。
因此测量薄膜的技术也有了很大的发展,椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一。
椭偏法测量具有如下特点:1.能测量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1-2个数量级。
2.是一种无损测量,不必特别制备样品,也不损坏样品,比其它精密方法:如称重法、定量化学分析法简便。
3.可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数。
因此可以作为分析工具使用。
4.对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感。
是研究表面物理的一种方法。
实验仪器椭偏仪测折射率和薄膜厚度实验装置包括:激光器(氦氖或半导体)、分光计、光栏、望远镜、黑色反光镜、薄膜样品、起偏器、检偏器、1/4波片。
实验内容1.熟悉并掌握椭偏仪的调整椭偏仪实物图椭偏仪结构示意图椭偏仪的实物如上图所示。
了解图中各部件的作用,并学会正确调整。
2.调整光路,并使入射到样品的光为等幅椭圆偏振光(1)安装半导体激光器并调整分光计,使半导体激光器光束、平行光轴的中心轴、望远镜筒的中心轴同轴。
(2)标定检偏器透光轴的零刻度,并使检偏器的透光轴零刻度垂直于分光计主轴。
将检偏器(检偏器的透光为0°方向)套在望远镜筒上,90°读数朝上,将黑色反光镜至于载物台中央,使激光束按布儒斯特角(约57°)入射到黑色反光镜表面。
椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率摘要:椭圆偏振测量是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换,来研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法。
结合计算机后,椭圆偏振测量具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。
关键词:椭圆偏振偏振光偏振变换一、引言二、实验原理三、实验仪器本实验使用多功能激光椭圆偏振仪,由JJY型1分光计和激光椭圆偏振装置两部分组成,仪器安装调试后如图3.1-7所示。
其各部件功能如下:图3.1-7 实验仪器光源:包括激光管和激光电源。
激光管装在激光器座上,可以作水平、高低方位角调节和上下升降调节,发射632.8nm的单色光小孔光闸:保证激光器发出的激光束垂直照射在起偏器中心。
起偏器:产生线偏振光,读数头度盘刻有360个等分线,格值为1,游标度数为0.1,随度盘同步转动,其转角可在度盘上读出。
1/4波片:将线偏振光补偿为等幅椭圆偏振光,装在起偏器前端,与起偏器共用游标。
其读数为读数头度盘内圈刻度值。
载物台:支承被测样品,其使用调节方法见分光计说明书。
光孔盘:为防止杂散光进入检偏器而附设,可自由转动,并具有读数标尺,但它的方向对实验并无影响。
检偏器:与起偏器结构相同。
望远镜筒与白屏目镜:观察反射光状态。
四、实验内容1. 按调分光计的方法调整好主机。
2. 水平度盘的调整。
3. 光路调整。
4. 检偏器读数头位置的调整和固定。
5. 起偏器读数头位置的调整与固定。
6. 波片零位的调整。
7. 将样品放在载物台中央,旋转载物台使达到预定的入射角70°,即望远镜转过40°,使反射光在白屏上形成一亮点。
8. 分别用快速法,建表法,作图法测量硅衬底的薄膜折射率,薄膜基厚度和厚度周期。
9. 改变入射角,在入射角为65°,60°时再测两次。
五、数据处理实验采用氦氖激光器波长632.8nm,硅衬底n=3.85+0.02i。
实验记录数据如表1所示。
用椭偏仪测薄膜厚度与折射率

103实验十二 用椭偏仪测薄膜厚度与折射率随着半导体和大规模集成电路工艺的飞速发展,薄膜技术的应用也越加广泛。
因此,精确地测量薄膜厚度与其光学常数就是一种重要的物理测量技术。
目前测量薄膜厚度的方法很多。
如称重法、比色法、干涉法、椭圆偏振法等。
其中,椭圆偏振法成为主要的测试手段,广泛地应用在光学、材料、生物、医学等各个领域。
而测量薄膜材料的厚度、折射率和消光系数是椭圆偏振法最基本,也是非常重要的应用之一。
实验原理由于薄膜的光学参量强烈地依赖于制备方法的工艺条件,并表现出明显的离散性,因此,如何准确、快速测量给定样品的光学参量一直是薄膜研究中一个重要的问题。
椭圆偏振法由于无须测定光强的绝对值,因而具有较高的精度和灵敏度,而且测试方便,对样品无损伤,所以在光学薄膜和薄膜材料研究中受到极大的关注。
椭圆偏振法是利用椭圆偏振光入射到样品表面,观察反射光的偏振状态(振幅和位相)的变化,进而得出样品表面膜的厚度及折射率。
氦氖激光器发出激光束波长为632.8nm 的单色自然光,经平行光管变成单色平行光束,再经起偏器P 变成线偏振光,其振动方向由起偏器方位角决定,转动起偏器,可以改变线偏振光的振动方向,线偏振光经1/4波片后,由于双折射现象,寻常光和非寻常光产生π/2的位相差,两者的振动方向相互垂直,变为椭圆偏振光,其长、短轴沿着1/4波片的快、慢轴。
椭圆的形状由起偏器的方位角来决定。
椭圆偏振光以一定的角度入射到样品的表面,反射后偏振状态发生改变,一般仍为椭圆偏振光,但椭圆的方位和形状改变了。
从物理光学原理可以知道,这种改变与样品表面膜层厚度及其光学常数有关。
因而可以根据反射光的特性来确定膜层的厚度和折射率。
图1为基本原理光路。
图2为入射光由环境媒质入射到单层薄膜上,并在环境媒质——薄膜——衬底的两个界面上发生多次折射和反射。
此时,折射角满足菲涅尔折射定律332211sin sin sin ϕϕϕN N N ==(1)104 其中N 1,N 2和N 3分别是环境媒质、= n – i k );ϕ1为入射角、 ϕ2 和ϕ3分别为薄膜和衬底的折射角。
椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率摘要:本实验中,我们用椭圆偏振光法测量了MgF 2,ZrO 2,TiO 2三种介质膜的厚度和折射率,取MgF 2作为代表,测量薄膜折射率和厚度沿径向分布的不均匀性,此外还测量了Au 和Cr 两种金属厚膜的折射率和消光系数。
掌握了椭圆偏振光法的基本原理和技术方法。
关键词:椭偏法,折射率,厚度,消光系数 引言:薄膜的厚度和折射率是薄膜光电子器件设计和制备中不可缺少的两个参数。
因此,精确而迅速地测定这两个参数非常重要。
椭圆偏振光法就是一个非常重要的方法。
将一束单色椭圆偏振光投射到薄膜表面,根据电动力学原理,反射光的椭偏状态与薄膜厚度和折射率有关,通过测出椭偏状态的变化,就可以推算出薄膜的厚度和折射率。
椭圆偏振光法是目前测量透明薄膜厚度和折射率时的常用方法,其测量精度高,特别是在测量超薄薄膜的厚度时其灵敏度很高,因此常用于研究薄膜生长的初始阶段,而且由于这种方法时非接触性的,测量过程中不破坏样品表面,因而可用于薄膜生长过程的实时监控。
本实验的目的是掌握椭偏法测量薄膜的厚度和折射率的原理和技术方法。
测量几种常用介质膜的折射率和厚度,以及金属厚膜的复折射率。
原理:1. 单层介质膜的厚度和折射率的测量原理(1)光波在两种介质分界面上的反射和折射,有菲涅耳公式:121122112112211122322323223223322233cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos p s p s n n r n n n n r n n n n r n n n n r n n ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ-⎧=⎪+⎪-⎪=⎪+⎪⎨-⎪=⎪+⎪-⎪=⎪+⎩(tp-1); (2)单层膜的反射系数图1 光波在单层介质膜中传播以上各式中1n 为空气折射率,2n 为膜层的折射率,3n 为衬底折射率。
1ϕ为入射角,2ϕ,3ϕ分别为光波在薄膜和衬底的折射角。
椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率

实验15椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率在近代科学技术的许多部门中对各种薄膜的研究和应用日益广泛.因此,更加准确和迅速地测定一给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要.在实际工作中虽然可以利用各种传统的方法测定光学参数〔如布儒斯特角法测介质膜的折射率、干预法测膜厚等〕,但椭圆偏振法〔简称椭偏法〕具有独特的优点,是一种较灵敏〔可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化〕、精度较高〔比一般的干预法高一至二个数量级〕、并且是非破坏性测量.是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法.它能同时测定膜的厚度和折射率〔以及吸收系数〕.因而,目前椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用.这个方法的原理几十年前就已被提出,但由于计算过程太复杂,一般很难直接从测量值求得方程的解析解.直到广泛应用计算机以后,才使该方法具有了新的活力.目前,该方法的应用仍处在不断的开展中.实验目的(1)了解椭圆偏振法测量薄膜参数的根本原理;(2)初步掌握椭圆偏振仪的使用方法,并对薄膜厚度和折射率进展测量.实验原理椭偏法测量的根本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品外表时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品外表反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品外表的许多光学特性.1椭偏方程与薄膜折射率和厚度的测量图15.1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n1的空气(或真空).中间是一层厚度为d折射率为n2的介质薄膜,下层是折射率为n3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成屡次反射和折射,并且各反射光和折射光分别产生多光束干预.其干预结果反映了膜的光学特性.设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有n1sinφ1=n2sinφ2=n3sinφ3〔15.1〕光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P分量和垂直于入射面振动的s分量.假设用Eip和E is分别代表入射光的p和s分量,用E rp及E rs分别代表各束反射光K0,K1,K2,…中电矢量的p分量之和及s分量之和,那么膜对两个分量的总反射系数R p和R s定义为RP=E rp/E ip,R s=E rs/E is〔15.2〕经计算可得式中,r1p或r1s和r2p或r2s分别为p或s分量在界面1和界面2上一次反射的反射系数.2δ为任意相邻两束反射光之间的位相差.根据电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,可以证明r 1p =tan(φ1-φ2)/tan(φ1+φ2),r1s=-sin(φ1-φ2)/sin(φ1+φ2);r 2p =tan(φ2-φ3)/tan(φ2+φ3),r2s=-sin(φ2-φ3)/sin(φ2+φ3).(15.4)式〔15.4〕即著名的菲涅尔〔Fresnel〕反射系数公式.由相邻两反射光束间的程差,不难算出.(15.5)式中,λ为真空中的波长,d和n2为介质膜的厚度和折射率.在椭圆偏振法测量中,为了简便,通常引入另外两个物理量ψ和Δ来描述反射光偏振态的变化.它们与总反射系数的关系定义为上式简称为椭偏方程,其中的ψ和Δ称为椭偏参数〔由于具有角度量纲也称椭偏角〕.由式(15.1),式(15.4),式(15.5)和上式可以看出,参数ψ和Δ是n1,n2,n3,λ和d的函数.其中n1,n2,λ和φ1可以是量,如果能从实验中测出ψ和Δ的值,原那么上就可以算出薄膜的折射率n2和厚度d.这就是椭圆偏振法测量的根本原理.实际上,终究ψ和Δ的具体物理意义是什么,如何测出它们,以及测出后又如何得到n2和d,均须作进一步的讨论.2 ψ和Δ的物理意义用复数形式表示入射光和反射光的p和s分量Eip=|E ip|exp(iθip),E is=|E is|exp(iθis);E rp=|E rp|exp(iθrp) ,E rs=|E rs|exp(iθrs).〔15.6〕式中各绝对值为相应电矢量的振幅,各θ值为相应界面处的位相.由式〔15.6〕,式〔15.2〕和式〔15.7〕式可以得到.〔15.7〕比拟等式两端即可得tanψ=|E rp||E is|╱|E rs||E ip|〔15.8〕Δ=(θrp–θrs)-(θip–θis)〔15.9〕式〔15.8〕说明,参量ψ与反射前后p和s分量的振幅比有关.而〔15.9〕式说明,参量Δ与反射前后p和s分量的位相差有关.可见,ψ和Δ直接反映了光在反射前后偏振态的变化.一般规定,ψ和Δ的变化范围分别为0≤ψ<π/2和0≤Δ<2π.当入射光为椭圆偏振光时,反射后一般为偏振态〔指椭圆的形状和方位〕发生了变化的椭圆偏振光(除开ψ<π/4且Δ=0的情况).为了能直接测得ψ和Δ,须将实验条件作某些限制以使问题简化.也就是要求入射光和反射光满足以下两个条件:〔1〕要求入射在膜面上的光为等幅椭圆偏振光〔即P和S二分量的振幅相等〕.这时,|E ip|/|E is|=1,式〔15.9〕那么简化为tanψ=|E rp|/|E rs| .〔15.10〕〔2〕要求反射光为一线偏振光.也就是要求θ–θrs=0〔或π〕,式〔15.9〕那么简化为rp〔15.15〕满足后一条件并不困难.因为对某一特定的膜,总反射系数比R p/R s是一定值.式〔15.6〕决定了⊿也是某一定值.根据〔15.9〕式可知,只要改变入射光二分量的位相差〔θip–θis〕,直到其大小为一适当值〔具体方法见后面的表达〕,就可以使〔θip–θis〕=0〔或π〕,从而使反射光变成一线偏振光.利用一检偏器可以检验此条件是否已满足.以上两条件都得到满足时,式〔15.10〕说明,tanψ恰好是反射光的p和s分量的幅值比,ψ是反射光线偏振方向与s方向间的夹角,如图15.2所示.式〔15.15〕那么说明,Δ恰好是在膜面上的入射光中s和s分量间的位相差.3ψ和Δ的测量实现椭圆偏振法测量的仪器称为椭圆偏振仪〔简称椭偏仪〕.它的光路原理如图15.3所示.氦氖激光管发出的波长为 632. 8 nm的自然光,先后通过起偏器Q,1/4波片C入射在待测薄膜F上,反射光通过检偏器R射入光电接收器T.如前所述,p和s分别代表平行和垂直于入射面的二个方向.快轴方向f,对于负是指平行于光轴的方向,对于正晶体是从Q,C和R用虚线引下的三个插图都是迎光线看去的指垂直于光轴的方向.t代表Q的偏振方向,f代表C的快轴方向,t r代表R 的偏振方向.慢轴方向l,对于负晶体是指垂直于光轴方向,对于正晶体是指平等于光轴方向.无论起偏器的方位如何,经过它获得的线偏振光再经过1/4波片后一般成为椭圆偏振光.为了在膜面上获得p和s二分量等幅的椭圆偏振光,只须转动1/4波片,使其快轴方向f与s方向的夹角α=土π/4即可〔参看后面〕.为了进一步使反射光变成为一线偏振光E,可转动起偏器,使它的偏振方向t与s方向间的夹角P1为某些特定值.这时,如果转动检偏器R使它的偏振方向t r与E r垂直,那么仪器处于消光状态,光电接收器T接收到的光强最小,检流计的示值也最小.本实验中所使用的椭偏仪,可以直接测出消光状态下的起偏角P1和检偏方位角ψ.从式〔15.15〕可见,要求出Δ,还必须求出P1与〔θip–θis〕的关系.下面就上述的等幅椭圆偏振光的获得及P1与Δ的关系作进一步的说明.如图15.4所示,设已将1/4波片置于其快轴方向f与s方向间夹角为π/4的方位.E0为通过起偏器后的电矢量,P1为E0与s方向间的夹角〔以下简称起偏角〕.令γ表示椭圆的开口角〔即两对角线间的夹角〕.由晶体光学可知,通过1/4波片后,E0沿快轴的分量E f与沿慢轴的分量E l比拟,位相上超前π/2.用数学式可以表达成.〔15.12〕.〔15.13〕从它们在p和s两个方向的投影可得到p和s的电矢量分别为:.〔15.14〕.〔15.15〕由式〔15.14〕和式〔15.15〕看出,当1/4波片放置在+π/4角位置时,确实在p和s二方向上得到了幅值均为E0/2的椭圆偏振入射光.p和s的位相差为θip–θis=π/2-2P1.〔15.16〕另一方面,从图15.4上的几何关系可以得出,开口角γ与起偏角P1的关系为γ/2=π/4-P1γ=π/2-2P1 〔15.17〕那么〔15.16〕式变为θip–θis=γ〔15.18〕由式〔15.15〕可得Δ=—(θip-θis)=-γ〔15.19〕至于检偏方位角ψ,可以在消光状态下直接读出.在测量中,为了提高测量的准确性,常常不是只测一次消光状态所对应的P和ψ1值,而是将四种〔或二种〕消光位置所对应的四组〔P1,ψ1〕),〔P2,ψ1〕,〔P3,ψ3〕和〔P4,ψ4〕值测出,经处理后再算出Δ和ψ值.其中,(P1,ψ1) 2和〔P2,ψ2〕所对应的是1/4波片快轴相对于S方向置+π/4时的两个消光位置(反射后P和S光的位相差为0或为π时均能合成线偏振光).而(P3,ψ3)和(P4,ψ4)对应的是1/4波片快轴相对于s方向置-π/4的两个消光位置.另外,还可以证明以下关系成立:|p1-p2|=90˚,ψ2=-ψ1.|p3-p4|=90˚,ψ4=-ψ3.求Δ和ψ的方法如下所述.(1) 计算Δ值.将P1,P2,P3和P4中大于π/2的减去π/2,不大于π/2的保持原值,并分别记为<P1>,<P2>,<P3>和<P4>,然后分别求平均.计算中,令和,(15.20)而椭圆开口角γ与和的关系为.(15.21)由式(15.22)算得ψ⊿值.利用类似于图15.4的作图方法,分别画出起偏角在表15.1所指范围内的椭圆偏振光图,由图上的几何关系求出与公式P1〔15.18〕类似的γ与P1Δ与γ的对应关系.P1与Δ的对应关系P1 =-(θip-θis)0~π/4-γπ/4~π/2γπ/2~3π/4π-γ3π/4~π-(π-γ)(2)计算ψ值:应按公式〔15.22〕进展计算.(15.22)4折射率n2和膜厚d的计算尽管在原那么上由ψ和Δ能算出n2和d,但实际上要直接解出〔n2,d〕和〔Δ,ψ〕的函数关系式是很困难的.一般在n和n2均为实数〔即为透明介质的〕,1并且衬底折射率n3〔可以为复数〕的情况下,将〔n2,d〕和〔Δ,ψ〕的关系制成数值表或列线图而求得n2和d值.编制数值表的工作通常由计算机来完成.制作的方法是,先测量〔或〕衬底的折射率n2,取定一个入射角φ1,设一个n2的初始值,令δ从0变到180°〔变化步长可取π/180,π/90,…等〕,利用式〔15.4〕,式〔15.5〕和式〔15.6〕,便可分别算出d,Δ和ψ值.然后将n增加一个小量进展类似计算.如此继续下去便可得到〔n2,d〕~〔Δ,ψ〕的2数值表.为了使用方便,常将数值表绘制成列线图.用这种查表〔或查图〕求n和d的方法,虽然比拟简单方便,但误差较大,故目前日益广泛地采用计算2机直接处理数据.另外,求厚度d时还需要说明一点:当n1和n2为实数时,式〔15.4〕中的为实数,两相邻反射光线间的位相差“亦为实数,其周期为2π.2δ可能φ2随着d的变化而处于不同的周期中.假设令2δ=2π时对应的膜层厚度为第一个周期厚度d0,由〔15.4〕式可以得到由数值表,列线图或计算机算出的d值均是第一周期内的数值.假设膜厚大于d,可用其它方法(如干预法)确定所在的周期数j,那么总膜厚是D= (j-1)d0+d.5金属复折射率的测量以上讨论的主要是透明介质膜光学参数的测量,膜对光的吸收可以忽略不计,因而折射率为实数.金属是导电媒质,电磁波在导电媒质中传播要衰减.故各种导电媒质中都存在不同程度的吸收.理论说明,金属的介电常数是复数,其折射率也是复数.现表示为=n2-iκ式中的实部n2并不相当于透明介质的折射率.换句话说,n2的物理意义不对应于光在真空中速度与介质中速度的比值,所以也不能从它导出折射定律.式中κ称为吸收系数.这里有必要说明的是,当为复数时,一般φ1和φ2也为复数.折射定律在形式上仍然成立,前述的菲涅尔反射系数公式和椭偏方程也成立.这时仍然可以通过椭偏法求得参量d,n2和k,但计算过程却要繁复得多.本实验仅测厚金属铝的复折射率.为使计算简化,将式〔15.25〕改写成以下形式=n2-i nκ由于待测厚金属铝的厚度d与光的穿透深度相比大得多,在膜层第二个界面上的反射光可以忽略不计,因而可以直接引用单界面反射的菲涅尔反射系数公式〔15.4〕.经推算后得公式中的n1,φ1和κ的意义均与透明介质情况下一样.实验内容关于椭偏仪的具体构造和使用方法,请参看仪器说明书.实验时为了减小测量误差,不但应将样品台调水平,还应尽量保证入射角φ1放置的准确性,保证消光状态的灵敏判别.另外,以下的测量均是在波长为632.8nm时的参数.而且,所有测量均是光从空气介质入射到膜面.1测厚铝膜的复折射率取入射角φ1=π/3.按已述方法测得Δ和ψ.由式(15.26)和式(15.27)式算出n和κ值,并写出折射率的实部和虚部.2 测硅衬底上二氧化硅膜的折射率和厚度衬底硅的复折射率为n3=3.85-i0.02,取入射角φ1=7π/18.二氧化硅膜只有实部.膜厚在第一周期内.测出Δ和ψ后,利用列线图〔或数值表〕和计算机求出n2和d,将两种方法的结果进展比照.并计算膜的一个周期厚度值d0.3测量κ0玻璃衬底上氟化镁〔MgF2〕膜层的折射率和厚度(1) 测κ0玻璃的折射率首先测出无膜时K0玻璃的Δ和ψ值,然后代入n3=n3〔Δ,ψ,φ1〕的关系式中算出n3值,测量时入射角φ1取7π/18.关于n3与三个参量的关系式,根据式〔15.1〕,式〔15.4〕,式〔15.5〕和式〔15.6〕,并令膜厚d=0,便可以算出n3的实部n0的平方值和n3的虚部κ值为(15.28)(15.29)〔2〕测透明介质膜氟化镁的折射率和厚度仍取入射角φ1=7π/18.膜厚在第一周期内.测出Δ和ψ后也用列线图和计算机求出结果.思考题(1) 用椭偏仪测薄膜的厚度和折射率时,对薄膜有何要求?(2) 在测量时,如何保证φ1较准确?(3) 试证明:|P1-P2| =π/2,|P3-P4| =π/2.(4) 假设须同时测定单层膜的三个参数〔折射率n2,厚度d和吸收系数κ〕,应如何利用椭偏方程?【本文档内容可以自由复制内容或自由编辑修改内容期待你的好评和关注,我们将会做得更好】。
椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

椭偏法测薄膜厚度和折射率摘要本实验通过椭圆偏振光法测量了氟化镁(MgF2)、氧化锆(ZrO2)及二氧化钛(TiO2)等介质薄膜的厚度和折射率,以及Cu和Al金属薄膜的厚度和消光系数。
关键词椭圆偏振光法介质薄膜金属薄膜椭偏参数复折射率消光系数一、引言椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。
椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。
结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。
实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。
通常,设介质层为n1、n2、n3, $ 1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)图(1-1)这里我们用2 3表示相邻两分波的相位差, 其中S =2 n dn2cos © 2/入,用rip 、r1s 表示光 线的p 分量、s 分量在界面1、2间的反射系数, 用r2p 、r2s 表示光线的p 分、s 分量在界 面2、3间的反射系数。
由多光束干涉的复振幅计算可知:的实数部分[tg 2 e i A ]的虚数部分 =的虚数部分 若能从实验测出2和△的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、入、$ 1已知),根据公式(4)~(9), 推导出2和△与r1p 、r1s 、r2p 、r2s 、和3的关系:其中Eip 和Eis 分别代表入射光波电矢量的 p 分量和s 分量,Erp 和Ers 分别代表反射光波Eip 、Eis 、Erp 、Ers 四个量写成一个量G ,即:我们定义G 为反射系数比,它应为一个复数,可用 的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出:tg 2和△表示它的模和幅角。
椭偏仪测量薄膜厚度和折射率

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率【引言】椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。
椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。
结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。
【实验目的】掌握椭偏仪的原理与操作方法;学会利用椭偏仪进行相关物理量的测量。
【实验仪器】椭偏仪、待测样品、电脑WJZ-II椭偏仪结构如图1所示:1、半导体激光器2、平行光管3、起偏器读数头(与6可换用)4、1/4波片读数头5、氧化锆标准样板6、检偏器读数头7、望远镜筒8、半反目镜9、光电探头10、信号线11、分光计12、数字式检流计图 1半导体激光器出厂时已调好,应满足以下二点:(1)激光光斑在距激光器约45cm处最小,如发现偏离较远,可将激光器从其座中取出,调节其前端的会聚透镜即可。
(2) 激光与平行光管共轴,如发现已破坏,请按第8页“光路调整”中所述方法进行调整,一旦调好,轻易不要将其破坏。
主要技术性能及规格 1. 测量透明薄膜厚度范围0-300nm ,折射率1.30-2.49。
2. 起偏器、检偏器、1/4波片刻度范围0°-360°,游标读数0.1°。
3. 测量精度:±2nm 。
4. 入射角ψ1=70°,K9玻璃折射率n =1.515。
5. 消光系数:0,空气折射率1。
6. *JGQ -250氦氖激光器波长λ=632.8nm (用软件处理数据时,该波长值已内嵌,无须输入)。
*半导体激光器波长λ=635nm (用软件处理数据时,该波长值未内嵌,须输入,并需重新设置消光系数“0”) 7. 椭圆偏振仪的简介:随着科学和技术的快速发展,椭偏仪的光路调节和测量数据的处理越来越完善快捷。
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椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率物理学院 091120192 张骏一、 引言椭圆偏振测量法,简称椭偏光法,是测量研究介质表面界面或薄膜光学特性的一种重要光学方法。
它是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面,由观察反射光或透射光的偏振状态的变化来推知样品的光学特性,例如薄膜的厚度,材料的负折射率等。
这种测量出薄膜厚度约为0.1nm 的变化。
因此,可以用于表面界面的研究,也可以用于准单原子层开始的薄膜生长过程的实时自动检测。
椭偏光法的应用广泛,自然界中普遍存在着各种各样的界面和薄膜,人工制备薄膜的种类也越来越多,因此椭偏光法应用于物理、化学、表面科学、材料科学、生物科学以及有关光学、微电子、机械、冶金和生物医学等领域中。
自从1945年罗申描述了用以测量薄膜表面光学性质的椭偏仪以来,随着科学技术的迅速发展,椭偏光法发展很快,椭偏仪的制造水平也不断提高,特别是使用计算机处理复杂繁冗的椭偏测量数据后使测量快捷简便了许多。
二、 实验目的(1) 了解椭偏光法测量原理和实验方法; (2) 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法; (3) 测量介质薄膜样品的厚度和折射率。
三、实验原理本实验介绍反射型椭偏光测量方法。
其基本原理是用一束椭偏光照射到薄膜样品上,光在介质膜的交界面发生多次的反射和折射,反射光的振幅和位相将发生变化,这些变化与薄膜的厚度和光学参数(折射率、消光系数等)有关,因此,只要测出反射偏振状态的变化,就可以推出膜厚度和折射率等。
1、椭圆偏振方程图1所示为均匀、各向同性的薄膜系统,它有两个平行的界面。
介质1为折射率为n 1的空气,介质2为一层厚度为d 的复折射率为n 2的薄膜,它均匀地附在复折射率为n 3的衬底材料上。
φ1为光的入射角,φ2和φ3分别为薄膜中和衬底中的折射角。
光波的电场矢量可分解为平行于入射面的电场分量(p 波)和垂直于入射面的电场分量(s 波)。
用(I p )i 和(I s )i 分别代表入射光的p 分量和s 分量,用(I p )r 和(I s )r 分别代表各反射光O p ,I p ,II p ···中电矢量的p 分量之和及各束反射光s 分量之和。
定义反射率(反射系数)r 为反射光电矢量的振幅与入射光电矢量的振幅之比。
则由菲涅耳公式,有 对空气-薄膜界面I :图1 薄膜系统的光路示意图I pO pI pII pr1p=n2cosφ1−n1cosφ2n2cosφ1+n1cosφ2(1)r1s=n1cosφ1−n2cosφ2n1cosφ1+n2cosφ2(2)对薄膜-衬底界面II:r2p=n3cosφ2−n2cosφ3n3cosφ2+n2cosφ3(3)r2s=n2cosφ2−n3cosφ3n2cosφ2+n3cosφ3(4)根据折射定律,有n1sinφ1=n2sinφ2=n3sinφ3(5) 由图1,可算出任意两相邻反射光之间的光程差为l=2n2dcosφ2相应的相位差为2δ=360°λl于是可得δ=360°λd(n22−n12sin2φ1)12⁄(6)另一方面,由多束光干涉原理来考察空气-薄膜-衬底作为一个整体系统的总反射系数,以R p 和R s分别表示这个系统对p波和s波的总反射系数,则由图1可知,对p波,R p由O p,I p,II p···各级反射光叠加合成。
设入射的p波振幅为1,在界面I处,光线由n1→n2的反射率记为r1p,透射率记为t1p;光线由n2→n1的反射率记为r1p∗,透射率记为t1p∗。
在界面II处光线反射率记为r2p。
易得p波的总反射系数为R p=r1p+r2p t1p t1p∗e−2iδ+r2p2t1p t1p∗r1p∗e−4iδ+···=r1p+∑r2p t1p t1p∗e−2iδ(r1p∗r2p e−2iδ)n−1∞n=1因r1p∗,r2p均小于1,故上式求和项为无穷递减级数,从而有R p=r1p+r2p t1p t1p∗e−2iδ1−r1p∗r2p e−2iδ由于r1p=−r1p∗又由斯托克斯定律t1p t1p∗=1−r1p2于是R p=r1p+r2p e−2iδ1+r1p r2p e−2iδ(7) 同理可得s波总反射系数R s=r1s+r2s e−2iδ1+r1s r2s e−2iδ(8)而按R p和R s定义,R p=(I p)r(I p)i ,R s=(I s)r(I s)i,在一般情况下,薄膜和衬底存在光吸收效应,R p和R s为复数,其反射系数比有如下形式R p R s =|R p|e i∆p|R s|e i∆s=|(I p)r(I p)i||(I s)r(I s)i|e i(∆p−∆s)=|(I pI s)r||(I pI s)i|e i(∆p−∆s)(9)定义tanΨ=|(I pI s)r||(I pI s)i|(10)∆=∆p−∆s=(θpr−θpi)−(θsr−θsi)=(θp−θs)r−(θp−θs)i(11) 式中,θp,θs分别为p波和s波的振动相位,其下标r表示反射部分,i表示入射部分。
Ψ,∆称为椭偏参数,由于它们具有角度的量纲,所以也称为椭偏角。
tanΨ表征了p波和s波经薄膜系统反射后的相对振幅变化,∆表征其相位差(θp−θs)的变化。
显然,它们直接反映出反射前后光的偏振状态的变化。
由上列诸式可得tanΨ∙e i∆=R pR s=r1p+r2p e−2iδr1s+r2s e−2iδ∙1+r1s r2s e−2iδ1+r1p r2p e−2iδ(12)此式称为椭圆偏振方程,它表明Ψ和∆是薄膜系统光学参数n1,n2,n3,Ψ1,δ(d包含在δ中)、λ的复杂函数。
椭偏法测量薄膜厚度d和折射率n2正是利用Ψ和∆来描述经系统反射后光偏振状态的变化,在某些参数确定的情况下,通过实验测得Ψ和∆后,来求取另一些参数。
但解上述方程是极其复杂的,一般利用编制好的专用程序进行数据处理,或者通过作图法或查表法求出相应的参数。
2、椭偏法测量Ψ和∆的实验光路通常椭偏光法测量椭偏状态变化参数Ψ和∆有消光法和光度法两种方法,本实验使用消光法。
氦氖激光管射出632.8nm的单色自然光,经光阑、起偏器、1/4波片、光阑射到样品上,样品反射后,再经光阑、检偏器后,到达接收屏或光电转换接收系统。
光阑的作用实时入射反射光路准直。
由(10)式和(11)式看出,为了测量Ψ和∆,需要测量4个量,即分别测量入射光中两分量的振幅比和相位差以及反射光中两分量的振幅比和相位差。
为了简化计算,设法使入射光椭圆方位角成45°倾斜,即成为等幅椭偏光,这样|(I pI s )i|=1 此时tanΨ=|(I pI s)r|,即Ψ只与反射光的振幅比有关。
如果入射光电矢量两分量之间的相位差(θp −θs )i 可以连续调节,则转动起偏器,总可以找到一个方位角,使反射光成为线偏振光,即(θp −θs )r =0或π,这样,就可以用检偏器消光时的方位角来决定反射线偏振光的振动方向,进而确定出|(I pI s)r| ,同时利用此时的(θp −θs )i ,就可以得到Ψ和∆的数值了。
3、 Ψ和∆的测量表达式消光时,样品反射的线偏振光的振动方向与检偏器的光轴互相垂直,故Ψ与检偏器的方位角A 的关系为Ψ=|A|(14)当A 在第一象限(A>0),则反射的线偏振光振动方向位于第二、四象限,此时有(θp −θs )r =180° 当A 在第四象限(A<0),则反射的线偏振光振动方向位于第一、三象限,此时有(θp −θs )r =0 因此,消光时∆的表达式(10)式可改写为∆={180°−(θp −θs )i ,当A >0−(θp −θs )i , 当A <0(15)由上式可见,∆只与入射椭偏光的p 波、s 波的相位差(θp −θs )i 有关。
经过讨论,可知(θp −θs )i 与起偏器方位角P 的关系为(θp −θs )i =2P −90°(16)将上式代入(15)式,有∆={270°−2P ,当A >090°−2P , 当A <0(17)(17)式和(14)式这两个关系形式就是消光法椭偏测量中,Ψ,∆与起偏器方位角P 、检偏器方位角A 之间的关系式。
若1/4波片快轴倾斜-45°,同样地可以得出另外两组Ψ,∆表达式,通常测量两组或四组Ψ和∆,取其平均值进行计算以减小误差。
四、 实验仪器SGC-2型自动椭圆偏振测厚仪,计算机 五、 实验内容(1) 将样品夹在样品架上,接通仪器电源;(2) 将椭偏光的入射角设置为60°,打开相关软件,分别使用快速法、作图法和查表法测得样品的厚度和折射率;(3) 将椭偏光的入射角分别设置为65°和70°,重复步骤(2);(4) 整理仪器,实验结束。
六、实验结果与分析实验结果如表1所示。
由以上数据,可求得折射率平均值为1.463,厚度为172.07nm。
实验中有一点值得注意,即在用快速法进行测量时,仅从实验数据来看,并不能分辨出薄膜的厚度是否超过了一个薄膜厚度周期。
但在此实验中,通过与绘图法和查表法的对比,可知,样品的厚度确实没有超过一个薄膜厚度周期。
当样品厚度超过一个周期时,处理方法可参见实验思考题(2)。
七、实验思考题(1) 椭偏参数Ψ,∆的物理含义是什么?消光时,它们与起偏器、检偏器方位角P,A之间有什么样表达式?答:tanΨ表征了p波和s波经薄膜系统反射后的相对振幅变化,∆表征其相位差(θp−θs)的变化。
它们直接反映出反射前后光的偏振状态的变化。
消光时,Ψ、∆与起偏器、检偏器方位角P,A之间的关系由(14)式和(17)式给出,即Ψ=|A|∆={270°−2P,当A>0 90°−2P,当A<0(2) 椭偏测量中,若被测薄膜厚度超过一个周期,试提出确定周期数的其他方法。
若测出的周期数为N,写出薄膜总厚度的表达式。
计算SiO2薄膜厚度刚好为一个周期时的厚度。
答:1) 可利用不同波长的光进行测量,通过对测量结果的对比,确定周期数。
2) 由(6)式δ=360°λd(n22−n12sin2φ1)12⁄薄膜厚度刚好为一个周期时,2δ=360°,于是可得此时的d为d=λ2(n22−n12sin2φ1)12⁄(18)其中λ为氦氖激光器波长632.8 nm;n1为空气折射率,可取为1;n2为样品薄膜的折射率,由实验中测出,取为最后的平均值1.463;φ1为激光入射角,实验中分别为70°,65°和60°。
于是,当φ1=70°时,可求得d=277.35 nm;当φ1=65°时,可求得d=271.00 nm;当φ1=60°时,可求得d=264.17 nm。