双面金属铝包覆介质波导测量介质厚度和折射率_费彬城

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布儒斯特角法测量金属薄膜折射率

布儒斯特角法测量金属薄膜折射率

B
布儒斯特角法

利用折射定律,可知布儒斯特角满足下式
n2 tan B n1 n ,只要测得B,就能算得 若已知背景折射率 1

样品折射率n2 对金属薄膜 n 测量的是 n实部
为复数,用布儒斯特角法
实验方法



改变入射角度,用光强 度计器寻找反射光的位 置,并记录对应入射角 的反射光强数据 寻找反射光光强最小时 对应的入射角即是布儒 斯特角 利用布儒斯特角计算样 品的折射率
实验光路图
样品制备



采用磁控溅射的方法制 备铜膜样品 样品的制备条件:功率 8W,电流0.2A,工作 气压1Pa 控制溅射时间制备不同 厚度的样品
样品编号 溅射时间 /min
0 1 2 3
5 4 3 2
测量得各实验样品的折射率
样品
编号 0 1 2
溅射
时间 (min) 5 4 3
折射率
n1 n tan B
2.14 2.47 3.30
3
2
3.45
介质基底

铜膜

反射光强的极小值降到0 完全消光
反射光强的极小值没有降到 0 不完全消光
不完全消光现象
不完全消光现象分析

实验检测最小时反射光的偏振性质,确定为P 偏振光

影响反射率最小值的两个因素
金属薄膜折射率的虚部 薄膜的两个界面多次反射
计算结果表明,总反射光强最小值不为零 衰减系数相关的参量2 d 随膜的厚度增加而 增大 计算结果与实验曲线符合
实验分析及结论



铜膜经过热处理以后,样品的折射率远大于基 底的折射率.其数值大约为2.5~3.5 因为样品的Cu/Cu2O比例不一样,相同基片上 的铜膜,厚度不同,折射率也不同 衰减随薄膜厚度增加而增加 上下表面多次反射及光吸收模型能成功解释在 布儒斯特角处反射光强不为零的现象

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率摘要:本实验中,我们用椭圆偏振光法测量了MgF 2,ZrO 2,TiO 2三种介质膜的厚度和折射率,取MgF 2作为代表,测量薄膜折射率和厚度沿径向分布的不均匀性,此外还测量了Au 和Cr 两种金属厚膜的折射率和消光系数。

掌握了椭圆偏振光法的基本原理和技术方法。

关键词:椭偏法,折射率,厚度,消光系数 引言:薄膜的厚度和折射率是薄膜光电子器件设计和制备中不可缺少的两个参数。

因此,精确而迅速地测定这两个参数非常重要。

椭圆偏振光法就是一个非常重要的方法。

将一束单色椭圆偏振光投射到薄膜表面,根据电动力学原理,反射光的椭偏状态与薄膜厚度和折射率有关,通过测出椭偏状态的变化,就可以推算出薄膜的厚度和折射率。

椭圆偏振光法是目前测量透明薄膜厚度和折射率时的常用方法,其测量精度高,特别是在测量超薄薄膜的厚度时其灵敏度很高,因此常用于研究薄膜生长的初始阶段,而且由于这种方法时非接触性的,测量过程中不破坏样品表面,因而可用于薄膜生长过程的实时监控。

本实验的目的是掌握椭偏法测量薄膜的厚度和折射率的原理和技术方法。

测量几种常用介质膜的折射率和厚度,以及金属厚膜的复折射率。

原理:1. 单层介质膜的厚度和折射率的测量原理(1)光波在两种介质分界面上的反射和折射,有菲涅耳公式:121122112112211122322323223223322233cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos p s p s n n r n n n n r n n n n r n n n n r n n ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ-⎧=⎪+⎪-⎪=⎪+⎪⎨-⎪=⎪+⎪-⎪=⎪+⎩(tp-1); (2)单层膜的反射系数图1 光波在单层介质膜中传播以上各式中1n 为空气折射率,2n 为膜层的折射率,3n 为衬底折射率。

1ϕ为入射角,2ϕ,3ϕ分别为光波在薄膜和衬底的折射角。

自然光在两种介质分界面上反射和折射时的偏振特性讨论

自然光在两种介质分界面上反射和折射时的偏振特性讨论

自然光在两种介质分界面上反射和折射时的偏振特性讨论郭中华【摘要】Analyzing polarization characteristics when natural light is reflected and refracted on the in-terface of two kinds of medium,some references have different interpretations when the incident angle is Brewster angle.This article specifies the polarization characteristics theoretically and further discus-ses the relation between the degree of polarization and index,intensity transmissivity and reflectivity, as well as the contribution of the medium layer numbers,which makes a good interpretation.%从理论上详细分析了自然光在分界面上反射光和折射光的偏振特性,并进一步探讨了偏振度的变化规律及影响因素。

【期刊名称】《大学物理实验》【年(卷),期】2013(000)003【总页数】4页(P40-43)【关键词】自然光;反射和折射;偏振特性【作者】郭中华【作者单位】兰州城市学院培黎工程技术学院,甘肃兰州,730070【正文语种】中文【中图分类】O435在一些基础光学教材[1-2]中,讨论光在两种介质分界面上发生反射、折射现象时光的偏振态变化规律时,主要侧重于利用菲涅尔公式分析光矢量振幅的变化规律,对于反射光和折射光的偏振度,只作简单的介绍。

文章从理论上详细分析了自然光在分界面上反射光和折射光的偏振特性,并进一步探讨了偏振度变化的规律及与介质折射率、光强反射率、透射率和介质层数的关系。

双面金属铝包覆介质波导测量介质厚度和折射率

双面金属铝包覆介质波导测量介质厚度和折射率

量 的精度依赖于薄膜密度参数的准确程度 。测量 材料折射率的方法很多 , 包括阿贝折射仪法、 椭圆
偏 振法 和表 面 等离 子共 振法 l 3 ] 等 。这些 方 法各 有 优点 , 但 缺 点 也 很 明显 , 阿 贝折 射 仪 法 测 量 精 度 低、 测 量 范 围小 , 应用 范 围受 到严 重 限制 ; 椭 圆偏
( 2 ) ,
由上式 可 以推 知 , 超 高 阶模 具 有偏 振 不 灵 敏
及对导波层厚度 和折射率特别灵敏的特性 , 且和
包 覆 的金属层性 质 相 关性 较 小 。 采用 角 度 扫 描 可

图 2 AT R 扫描 测 量 装 置 图
得到其衰减全反射角度扫描谱 。
实验 中 , 以一 块 双 面抛 光 的 薄 硅 片制 作 双 面金属 波导 , 根 据超 高 阶模 对包 覆 金 属 性 质相 关性 较 小 的特 点 , 在 硅 片两 面 分 别镀 上 厚 度 约 为
镜折 射率 的限制 。
面金属包覆波导 的导模有效折射率 取值范 围[ 6 ]

0< e f f < ( 1 )
根 据该式 , 采 用 自由空 间耦合 技术 , 可 以在入 射角 度 较 小 时激发 出一 系列分 立 的导模 , 由于 这些模 的有效 折 射 率 N 相 当 小 , 模序数特别大 ,
l s 1 / £ 2 T M模_ j
由于对超高阶模 , 粗略估计 > 1 0 0 0 , 而( 2 ) 式 的第二项最大值为 , 因此可以忽略 。 所以对超
高 阶模 , 模本 征方 程就 变为 _ 7 ] :
_ _ — _
V ,  ̄hl

 ̄ / e 一7 1 z ; H= — 7 7 z 兀

基于双面金属包覆波导的磁流体折射率研究

基于双面金属包覆波导的磁流体折射率研究

1/91/71/52/11/37/97/77/57/37/16/96/76/56/36/15/98/1˾)ŃDž图1 衰减全反射吸收峰式中h 为液体膜的厚度;ε1为硅片的相对介电常数;θm 为m阶导模的模角,即图1衰减全反射吸收峰峰谷所对应的横坐标角度;为模阶数;ε2为银膜的相对复介电常数。

如果测量出了模序数为m -1、m 、m +1连续三个导模的模角m -1、θm 、θm -1,便可联立超越方程:()() −++=−−+=−−+−=−−−12211122112211arctan 21sin 2arctan 2sin 2arctan 21sin 2εεπθελπεεπθελπεεπθελπm h m h m h m m mիӷӷ896on MbtfsCի 图2 实验装置零度入射角位置的校准使用半反半透镜。

可见光探测器用于探测波导反射光的强度,其结果送计算机处理。

偏振片用于获得竖直方向偏振的光束,波长为785 nm的激光束经光学小孔整形后入射到波导上,对光波导进行角度扫描。

实验中所加磁场的方向为垂直转台水平面向下,图3是施加磁场的示意图。

图3 实验施加的磁场对反射光扫描得到图4,对波导施加磁场与不施加磁场两种情况下衰减全反射吸收峰的对比。

从图4中可以看出,减全反射吸收峰发生了相移,取定某一入射角度,发现反射率发生即磁场作用使磁流体折射率改变。

1/91/71/52/11/37371696765636175˾)Ń*图4 磁场作用下ATR的相移施加磁感应强度大小为10G s。

对波导进行角度扫描,在所得的AT R曲线中取三个连续连续导膜角:θm -1=6.057815 °、θm =6.359532 °、θm -1=6.643751 °,计算得出折射率为1.3738。

通过上下移动磁钢位置,改变波导上激光照射点处磁感应强度大小,依次扫描出10至100 Gs (间隔10 Gs)时的衰减全反射吸收峰,计算出磁流体不同的折射率。

用波导法测量薄膜的折射率和厚度

用波导法测量薄膜的折射率和厚度

的 平 台上
P
单色H
e 一
N
e
激 光束 用
底 面上

L
聚焦
,
经偏 振 片
后 会 聚 于 棱镜
模 式 线 在 适 当位 置 放 置 的 屏 M 上 观
,


在 采 用 对 称棱 镜 的情 况 下 厚 度 应该 小于 的 石 英片

,
,
镀 膜 基 片的

1 m m
,
我 们 实 际 采用
0 6m m
,
.
{

为此 目的
,
,
可 以 采用 已 为大 家
,
熟 悉 的光 度 法

,
,
布 儒斯特 角法 和 椭 圆 偏 振 法 等
,
与 这 些 方法相 比
.
波 导 法 具 有 几 个诱 人 的特
首先是 它 的测量 精度 很 高
.
1 如 果测 角 精 度为 士 0 0
。 1% 〔 1 〕
.

,
在 最佳 的 条件 下 折射 率 测 量 精 度
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基于非对称金属包覆介质波导的角度扫描折射率传感器[发明专利]

基于非对称金属包覆介质波导的角度扫描折射率传感器[发明专利]

专利名称:基于非对称金属包覆介质波导的角度扫描折射率传感器
专利类型:发明专利
发明人:王向贤,吴枭雄,朱剑凯,陈宜臻,杨旭东,杨明秋,苏学晶
申请号:CN201810852901.1
申请日:20180730
公开号:CN108613949A
公开日:
20181002
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了基于非对称金属包覆介质波导的角度扫描折射率传感器,包括激光器、平面镜A、棱镜、匹配油、玻璃基底、金属薄膜、待测物、平面镜B、光谱仪和平面镜旋转控制系统。

激光器发出的激光,经平面镜A反射,经棱镜折射后辐照非对称金属包覆介质波导,反射光从棱镜中射出后,经平面镜B反射,辐照到光谱仪上。

通过反射光谱的测量确定非对称金属包覆介质波导中的相应导模,进而确定待测物的折射率。

本发明将待测物作为非对称金属包覆介质波导的导波层,充分利用了波导中的低阶和高阶导模,实现了大范围的折射率传感,具有结构简单和大范围折射率测量的优势,在折射率传感领域有望得到广泛应用。

申请人:兰州理工大学
地址:730050 甘肃省兰州市七里河区兰工坪路287号
国籍:CN
代理机构:北京科迪生专利代理有限责任公司
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双层介质膜厚度和折射率的测定

双层介质膜厚度和折射率的测定

双层介质膜厚度和折射率的测定
冯浩善
【期刊名称】《四川激光》
【年(卷),期】1981(2)A02
【摘要】本文叙述了利用椭圆仪测量双层介质膜的厚度和折射率的原理和方法。

【总页数】1页(P75)
【作者】冯浩善
【作者单位】西安无线电八厂
【正文语种】中文
【中图分类】O435.1
【相关文献】
1.Ta2O5介质膜和Ta2O5—SiO双层介质膜绝缘特性的实验研究 [J], 黄蕙芬
2.利用光学外差技术同时测定透明板的折射率和厚度 [J], 邢进华
3.激光等密度等倾干涉条纹法测定透明介质的厚度和折射率 [J], 李季平;吴启元;刘小廷;蔡云良
4.YbF_3和ZnS薄膜的折射率和厚度的分光光度法测定 [J], 乔明霞;黄伟;张彬
5.全自动纳米多孔材料薄膜折射率和厚度测定系统 [J], 刘菊;沈志;常胜利;杨建坤;李修建
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第26卷第1期大学物理实验Vol.26No.12013年2月PHYSICAL EXPERIMENT OF COLLEGE Feb.2013收稿日期:2012-09-08基金项目:上海市大学生创新活动计划项目(B-8906-11-01148);上海工程技术大学教育科学研究项目(y201121001)*通讯联系人文章编号:1007-2934(2013)01-0001-03双面金属铝包覆介质波导测量介质厚度和折射率费彬城,陈良雷,陈余行*,朱鹏飞(上海工程技术大学,上海 201620)摘要:利用双面金属铝包覆波导的测量方法,测量了硅片的厚度和折射率。

这种方法利用双面金属铝包覆波导的超高阶模的偏振不灵敏和对金属层要求较低的特点,降低了对仪器的要求和测量的成本。

同时,由于应用高灵敏的超高阶导模为探针,测量精度较高,结果显示测量精度在1%以内。

关键词:双面金属波导;折射率;超高阶模;耦合中图分类号:TN 253文献标志码:A薄膜光学参数如厚度和折射率是设计光学、光电子、微电子等功能器件不可缺少的重要参数,能否准确地测量其数值,直接影响到薄膜性能的优劣。

对薄膜厚度的测量,多采用接触测量,测量中由于测量力的作用产生变形,使得测量结果不够精确。

椭偏法[1]虽然测量精度较高,但对实验数据的处理计算冗长繁琐。

微量天平称重法[2]往往要求衬底基片的厚度要尽量薄,利用该方法取得的数据只是大面积薄膜材料的平均厚度,且测量的精度依赖于薄膜密度参数的准确程度。

测量材料折射率的方法很多,包括阿贝折射仪法、椭圆偏振法和表面等离子共振法[3]等。

这些方法各有优点,但缺点也很明显,阿贝折射仪法测量精度低、测量范围小,应用范围受到严重限制;椭圆偏振法不能唯一地确定薄膜的折射率和厚度,还需要通过复杂的计算才能得到结果;表面等离子共振法仅适用于液体或薄膜,而且测量范围受到棱镜折射率的限制。

双面金属波导的超高阶模的性质提供了一种新的测量方法。

采用自由空间耦合技术[4-5],可同时准确测量薄膜介质厚度和折射率。

这种方法利用双面金属包覆波导的偏振不灵敏的特点,降低了对仪器的要求,同时,由于应用高灵敏的超高阶导模为探针,测量精度高于阿贝折射仪和表面等离子共振等方法。

以往在采用双面金属波导时均采用金膜,成本较高。

采用铝膜制作双面金属波导,测量薄膜的厚度和折射率[9]。

1 波导结构与测量工作原理双面金属包覆波导结构如图1所示,其中ε0、ε1、ε2分别为空气、介质和金属的介电系数,h1为平板厚度,h2为上层金属膜的厚度,一般为20nm。

下层金属一般涂得较厚,约为200nm量级,因光无法穿透,可看作半无限大。

由于金属波导的吸收性质,双面金属波导的损耗一般很大,但损耗随着波导厚度的增加而减小。

因此,对亚毫米尺度的超厚波导,金属吸收的影响已大为减弱。

双面金属包覆波导的导模有效折射率取值范围[6]为0<neff<ε槡1(1)根据该式,采用自由空间耦合技术,可以在入射角度θ3较小时激发出一系列分立的导模,由于这些模的有效折射率N相当小,模序数特别大,因而被称作超高阶导模。

这种超高阶导模的模本征方程为:2πh1λε1n2e槡ff=mπ+2arctanρn2eff-ε2ε1-n槡effDOI:10.14139/22-1228.2013.01.003其中与偏振有关的参数ρ由下式给出:ρ=1TE模ε1/ε2TM烅烄烆]模由于对超高阶模,粗略估计m>1 000,而(2)式的第二项最大值为π,因此可以忽略。

所以对超高阶模,模本征方程就变为[7]:2πh1λε1n2e槡ff=mπ(2)由上式可以推知,超高阶模具有偏振不灵敏及对导波层厚度和折射率特别灵敏的特性,且和包覆的金属层性质相关性较小。

采用角度扫描可得到其衰减全反射角度扫描谱。

图1 双面金属包覆波导结构图根据这一工作原理,可将硅片两面分别镀上一薄金属铝层和一厚金属铝层,形成双面金属包覆波导,方程中有m、h和ε1三个未知数,可通过测量三个同步角得到三个不同模式的有效折射率neff,分别代入相应的色散方程,便可求出m、h和ε1。

实验中,为提高测量精度,我们在波导的衰减全发射谱(ATR)中的小角度区域,即有效折射率较小的超高阶导模区域,选取模序数(m 1)、m和(m+1)三个衰减全反射峰,分别测出其对应的有效折射率neff,代入方程(2),并消去模序数m,便可得到硅片的厚度和介电常数,继而可以计算出硅片的折射率。

2 实验结果实验装置如图2所示,测量时,双面金属波导放置在θ/2θ仪上,波长为1 550nm的激光器发出的准直光经过起偏器射向波导表面,波导每转过θ角,反射光线转过2θ角,探测器放在2θ转盘上保证时刻跟踪反射光。

转盘通过步进电机驱动,计算机控制步进电机的转动,探测器接收的信号放大A/D,,纵坐标表示反射光强,在屏幕上得到ATR曲线。

根据曲线的峰位置可以确定每一个导模对应的入射角,从而可以求的有效折射率neff,测三个峰的位置即可求得薄膜的厚度、折射率等参数。

图2 ATR扫描测量装置图 实验中,以一块双面抛光的薄硅片制作双面金属波导,根据超高阶模对包覆金属性质相关性较小的特点,在硅片两面分别镀上厚度约为20nm和200nm的铝膜,通过角度扫描得到的ATR谱,扫描结果如图3所示。

根据实验扫描结果,选取三个连续的反射峰,将入射角度代入本征方程,计算得到硅片厚度和介电系数分别为487um和11.92,与真实结果和理论值均十分接近,折射率为3.453,与文献[8]误差在百分之一以内。

图3 双面金属波导的衰减全反射曲线3 结 论利用对称金属铝包覆波导测量了硅材料薄层的厚度和折射率,测量误差小于百分之一。

实验结果证明这种测量方法应用高灵敏的超高阶导模为探针,不仅克服了其它方法测量范围有限的缺点,而且具有较高的精度。

同时,由于该方法采用双面金属铝包覆波导,不要求是贵金属(金、银),大大降低了波导制作的成本,因此具有广泛推广的潜力。

2双面金属铝包覆介质波导测量介质厚度和折射率参考文献:[1] M Amiotti,G Landgren.Ellipsometric determinationof thickness and refractive index at 1.3,1.55,and1.7mfor In(1-x)GaxAsyP(1-y)films on InP[J].J.Appl.Phys.,1993,73(6):2965-2971.[2] 谭春雨等.SnO_2(F)、Fe_2O_3和ZnSe(Fe)薄膜厚度的测量[J].山东大学学报,1993,28(2):189-195.[3] Chen W P,Chen J M.Use of surface plasma wavesfor determination of the thickness and optical con-stants of thin metallic films[J].opt.Soc.Am.,1981,71:186-191.[4] Li H G,Cao Z Q,Lu H F,et a1.Free-space couplingof a light beam into a symmetrical metal-claddingoptical waveguide[J].Applied Physics Letters,2003,83(14):2757-2759.[5] Lu H,Cao Z,Li H,et a1.Study of ultrahigh-ordermodes in a symmetrical metal—cladding opticalwaveguide[J].Applied Physics Letters,2004,85(20):1-3.[6] I.P.Kaminov,W.L.Mammel,H.P.Weber.Metal-clad optical waveguides:Analytical and experimentalstudy[J].Appl.Opt.,1974,13(2):396-405.[7] 曹庄琪,陆海峰,李红根,邓晓旭,沈启舜.亚毫米尺度双面金属波导的超高阶模及其滤波特性研究[J].光学学报,2006,26(4):497-500.[8] Young,K.F.and Frederikse,H.P.R[J].J.Phys.Chem.Ref.Data,2,313,1973.[9] 杨超,宋飞,芦立娟.C++语言在最小偏向角法测折射率实验中的应用[J].大学物理实验,2011(3):89-93.Measurement of Thickness and Refractivity of Thin Film UtilizingDouble Al-cladding Optical WaveguideFEI Bin-cheng,CHEN Liang-lei,CHEN Yu-hang,ZHU Peng-fei(Shanghai University of Engineering Science,Shanghai 201620)Abstract:Utilizing the millimeter-scale symmetrical Al-cladding optical waveguide,the thickness andrefractive indexes of a thin film are measured.Due to the unusual features of the ultrahigh-order modesand low cost of Al,the apparatus of this method are easy fabricated and the cost is very low.Based onthe high sensitivity of ultrahigh-order modes,this method is very reliable,the results show that themeasurement precision is less than 1%.Key words:double metal-cladding optical waveguide;refractivity;ultrahigh-order modes;coupling;thickness3双面金属铝包覆介质波导测量介质厚度和折射率。

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