半导体器件物理全套教学课件

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半导体物理与器件ppt课件

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2.23
h h K为波数=2π/λ, λ为波长。 2mE 15 P
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.2无限深势阱(变为驻波方程) 与时间无关的波动方程为:
2 x 2m 2 E V x x 0 2 x
2.13
由于E有限,所以区域I和III 中:
课程主要内容
固体晶格结构:第一章 量子力学:第二章~第三章 半导体物理:第四章~第六章 半导体器件:第七章~第十三章

1
绪论

什么是半导体
按固体的导电能力区分,可以区分为导体、半导体和绝缘体
表1.1 导体、半导体和绝缘体的电阻率范围 材料 电阻率ρ(Ωcm) 导体 < 10-3 半导体 10-3~109 绝缘体 >109
分别求解与时间无关的波动方程、与时间有关的波 动方程可得自由空间中电子的波动方程为:
j j x, t A exp x 2mE Et B exp x 2mE Et




2.22
说明自由空间中的粒子运动表现为行波。 沿方向+x运动的粒子: x, t A exp j kx t
18
2.3薛定谔波动方程的应用

无限深势阱(前4级能量)
随着能量的增加,在任意给 定坐标值处发现粒子的概率 会渐趋一致
19
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.3阶跃势函数
入射粒子能量小于势垒时也有一定概率穿过势垒 (与经典力学不同)

20
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.3阶跃势函数 Ⅰ区域 21 x 2mE 2 1 x 0 2.39 2

半导体器件物理(详尽版)ppt

半导体器件物理(详尽版)ppt

半导体 电阻率介于导体和绝缘体之间 。导体(电阻率小于10-8Ω·m), 绝缘体(电阻率大于106Ω·m)。
晶体 自然界中存在的固体材料,按其结构形式不同,可以分为晶 体(如石英、金刚石、硫酸铜等)和非晶体(玻璃、松香、沥青等)。
1.1 半导体的晶格结构
五种常见的晶格结构
●简单立方结构 ●体心立方结构 ●面心立方结构 ●金刚石结构 ●闪锌矿结构
图中“● ”表示价带内的电子 ;图中“○ ”表示价带内的空穴。
思考
• 既然半导体电子和空穴都能导电,而导体只有电子导电,为什么半导体的导 电能力比导体差?
●导带底EC
导带电子的最低能量
●价带顶EV
价带电子的最高能量
●禁带宽度 Eg
Eg=Ec-Ev
●本征激发 由于温度,价键上的电子 激发成为准自由电子,亦 即价带电子激发成为导带 电子的过程 。
●价带
由价电子形成的能带,但半导体 材料价电子形成的低能级能带通 常称为价带。
●禁带宽度/Eg
导带和价带之间的能级宽度,
单位是能量单位:eV(电子伏特)
图1-6
导体、绝缘体、半导体的能带示意图
3~6eV
禁带比较窄,常 温下,部分价带 电子被激发到空 的导带,形成有 少数电子填充的 导带和留有少数 空穴的价带,都
电子不仅可以围绕自身原子核旋转,而且可以转到另一个原子周围,即 同一个电子可以被多个原子共有,电子不再完全局限在某一个原子上, 可以由一个原子转到相邻原子,将可以在整个晶体中运动。
共有化运动
由于晶体中原子的周期性 排列而使电子不再为单个 原子所有的现象,称为电 子共有化。
在晶体中,不但外层价电 子的轨道有交叠,内层电 子的轨道也可能有交叠, 它们都会形成共有化运动;

Semiconductor- Physics课件.ppt

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PN结根据杂质分布的特点可分为: ♦ 突变结 适用于离子注入浅结扩散和外延生长,Xj<1um ♦ 线性缓变结 适用于深结扩散, Xj>3um
中国科学技术大学物理系微电子专业
合金法
图6-2
图6-3
中国科学技术大学物理系微电子专业
扩散法
离子注入法
中国科学技术大学物理系微电子专业
★ PN结的基本概念
eV
p(xn ) pn0e kT
中国科学技术大学物理系微电子专业
中国科学技术大学物理系微电子专业
③电流: 仍有 J=J++J-= J+(xn)+ J- (-xp)
♦ 正向偏压时,在少子扩散区, 少子复合 率>产生率(非平衡载流子注入); 反向时, 产生率>复合率(少数载流子被抽取)
♦ 反向时, 少子浓度梯度很小反向电流 很小
②热平衡pn结及其能带图: ♦当无外加电压, 载流子的流动终将达到
动态平衡(漂移运动与扩散运动的效果相 抵消, 电荷没有净流动), pn结有统一的EF (平衡pn结)
♦ 结面附近,存在内建电场,造成能带弯 曲,形成势垒区(即空间电荷区).
中国科学技术大学物理系微电子专业
热平衡条件
P
Ec
Ef
Ei
Ev
中国科学技术大学物理系微电子专业
中国科学技术大学物理系微电子专业
★ 理想PN结伏安特性
♦①小注入条件 ♦②突变结,耗尽近似—可认为外加电 压全降落于耗尽层
①+②在扩散区,少子电流只需考虑扩散
♦③忽略耗尽层中的产生,复合
通过耗尽层时,可认为电子电流
和空穴电流均保持不变 ♦④玻耳兹曼边界条件
中国科学技术大学物理系微电子专业

半导体物理与器件-课件-教学PPT-作者-裴素华-第1章-半导体材料的基本性质

半导体物理与器件-课件-教学PPT-作者-裴素华-第1章-半导体材料的基本性质

简化为
J = pqv p
1.6.4 半导体的电阻率ρ
电阻率是半导体材料的一个重要参数,其值为电导率
的倒数。 1
1
ρ= =
σ nqμn + pqμ p
对于强P型和强N型半导体业有相应的简化。
从上面的公式可以看出,半导体电阻率的大小决定于 n, p, μn ,μp的具体数值,而这些参数又与温度有关, 所以电阻率灵敏的依赖于温度,这是半导体的重要 特点之一。
b) P型硅中电子和空穴 的迁移率
载流子的迁移率还要随温度而变化。
硅中载流子迁移率随温度变化的曲线 a) μn b) μp
1.6.3 半导体样品中的漂移电流密度
设一个晶体样品如图所示, 以单位面积为底,以平 均漂移速度v为长度的矩 形体积。先求出电子电 流密度,设电场E为x方 向,在电场的作用下, 电子应沿着-x方向运动。
不论半导体中的杂质激发还是本征激发,都是依靠吸收 晶格热振动能量而发生的。由于晶格的热振动能量是随 温度变化的,因而载流子的激发也要随温度而变化。
载流子激发随温度的变化 a)温度很低 b)室温临近 c)温度较高 d)温度很高
伴随着温度的升高,半导体的费米能级也相应地发 生变化
杂质半导体费米能级随温度的变化 a)N型半导体 b)P型半导体
a)随机热运动 b) 随机热运动和外加电场作用下的运动合成
随机热运动的结果是没有电荷迁移,不能形成电流。
引入两个概念:
1. 大量载流子碰撞间存在一个路程的平均值,称为平 均自由程,用λ表示,其典型值为10-5cm;
2. 两次碰撞间的平均时间称为平均自由时间,用τ表示, 约为1ps;
建立了上述随机热运动的图像后,就可以比较实际地去 分析载流子在外加电场作用下的运动了。

半导体器件物理教案课件

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半导体器件物理教案课件PPT第一章:半导体物理基础知识1.1 半导体的基本概念介绍半导体的定义、特点和分类解释n型和p型半导体的概念1.2 能带理论介绍能带的概念和能带结构解释导带和价带的概念讲解半导体的导电机制第二章:半导体材料与制备2.1 半导体材料介绍常见的半导体材料,如硅、锗、砷化镓等解释半导体材料的制备方法,如拉晶、外延等2.2 半导体器件的制备工艺介绍半导体器件的制备工艺,如掺杂、氧化、光刻等解释各种制备工艺的作用和重要性第三章:半导体器件的基本原理3.1 晶体管的基本原理介绍晶体管的结构和工作原理解释n型和p型晶体管的概念讲解晶体管的导电特性3.2 半导体二极管的基本原理介绍半导体二极管的结构和工作原理解释PN结的概念和特性讲解二极管的导电特性第四章:半导体器件的特性与测量4.1 晶体管的特性介绍晶体管的主要参数,如电流放大倍数、截止电流等解释晶体管的转移特性、输出特性和开关特性4.2 半导体二极管的特性介绍半导体二极管的主要参数,如正向压降、反向漏电流等解释二极管的伏安特性、温度特性和频率特性第五章:半导体器件的应用5.1 晶体管的应用介绍晶体管在放大电路、开关电路和模拟电路中的应用解释晶体管在不同应用电路中的作用和性能要求5.2 半导体二极管的应用介绍半导体二极管在整流电路、滤波电路和稳压电路中的应用解释二极管在不同应用电路中的作用和性能要求第六章:场效应晶体管(FET)6.1 FET的基本结构和工作原理介绍FET的结构类型,包括MOSFET、JFET等解释FET的工作原理和导电机制讲解FET的输入阻抗和输出阻抗6.2 FET的特性介绍FET的主要参数,如饱和电流、跨导、漏极电流等解释FET的转移特性、输出特性和开关特性分析FET的静态和动态特性第七章:双极型晶体管(BJT)7.1 BJT的基本结构和工作原理介绍BJT的结构类型,包括NPN型和PNP型解释BJT的工作原理和导电机制讲解BJT的输入阻抗和输出阻抗7.2 BJT的特性介绍BJT的主要参数,如放大倍数、截止电流、饱和电流等解释BJT的转移特性、输出特性和开关特性分析BJT的静态和动态特性第八章:半导体存储器8.1 动态随机存储器(DRAM)介绍DRAM的基本结构和工作原理解释DRAM的存储原理和读写过程分析DRAM的性能特点和应用领域8.2 静态随机存储器(SRAM)介绍SRAM的基本结构和工作原理解释SRAM的存储原理和读写过程分析SRAM的性能特点和应用领域第九章:半导体集成电路9.1 集成电路的基本概念介绍集成电路的定义、分类和特点解释集成电路的制造工艺和封装方式9.2 集成电路的设计与应用介绍集成电路的设计方法和流程分析集成电路在电子设备中的应用和性能要求第十章:半导体器件的测试与故障诊断10.1 半导体器件的测试方法介绍半导体器件测试的基本原理和方法解释半导体器件测试仪器和测试电路10.2 半导体器件的故障诊断介绍半导体器件故障的类型和原因讲解半导体器件故障诊断的方法和步骤第十一章:功率半导体器件11.1 功率二极管和晶闸管介绍功率二极管和晶闸管的结构、原理和特性分析功率二极管和晶闸管在电力电子设备中的应用11.2 功率MOSFET和IGBT介绍功率MOSFET和IGBT的结构、原理和特性分析功率MOSFET和IGBT在电力电子设备中的应用第十二章:光电器件12.1 光电二极管和太阳能电池介绍光电二极管和太阳能电池的结构、原理和特性分析光电二极管和太阳能电池在光电子设备中的应用12.2 光电晶体管和光开关介绍光电晶体管和光开关的结构、原理和特性分析光电晶体管和光开关在光电子设备中的应用第十三章:半导体传感器13.1 温度传感器和压力传感器介绍温度传感器和压力传感器的结构、原理和特性分析温度传感器和压力传感器在电子测量中的应用13.2 光传感器和磁传感器介绍光传感器和磁传感器的结构、原理和特性分析光传感器和磁传感器在电子测量中的应用第十四章:半导体器件的可靠性14.1 半导体器件的可靠性基本概念介绍半导体器件可靠性的定义、指标和分类解释半导体器件可靠性的重要性14.2 半导体器件可靠性的影响因素分析半导体器件可靠性受材料、工艺、封装等因素的影响14.3 提高半导体器件可靠性的方法介绍提高半导体器件可靠性的设计和工艺措施第十五章:半导体器件的发展趋势15.1 纳米晶体管和新型存储器介绍纳米晶体管和新型存储器的研究进展和应用前景15.2 新型半导体材料和器件介绍石墨烯、碳纳米管等新型半导体材料和器件的研究进展和应用前景15.3 半导体器件技术的未来发展趋势分析半导体器件技术的未来发展趋势和挑战重点和难点解析重点:1. 半导体的基本概念、分类和特点。

半导体物理课件

半导体物理课件

结论:磷杂质在硅、锗中电离时,能够释放电子而 产生导电电子并形成正电中心。这种杂质称施主杂 质 。掺施主杂质后,导带中的导电电子增多,增 强了半导体的导电能力。
主要依靠导带电子导电的半导体称n型半导体。
*从Si的电子能量图看:
电离能的计算:
氢原子
En
mq4
(4 0 )2 22
1 n
(2)受主杂质 (Acceptor) p型半导体 Ⅳ族元素硅、锗中掺Ⅲ族元素,如硼(B): *从si的共价键平面图看:
两边取对数并整理,得:
EF
1 2
EC ED
1 2
k0T
ln(
ND 2NC
)
ED起了本征EV 的作用
载流子浓度:
EC EF
EC
EF
n0 NCe k0T NCe k0T e k0T
ND NC
1
2
EC ED
e 2k0T
ND NC
1 2
ED
e 2k0T
2
2
(2)中温强电离区
N
D
n0 ND
(2)EF ~T
(3)EF ~掺杂(T一定,则NC也一定)
T一定,ND越大,EF越靠近EC(低温: ND > NC 时 , ND
(ln ND -ln2 NC)
ND < NC 时, ND
|ln ND -ln2 NC| 中温:由于T的升高, NC增加,使ND < NC , ND
B13:1S22S22P63S23P1 B有三个价电子,当它与周围的四
个Si原子形成共价键时,必须从别 处的硅原子中夺取一个价电子,共价 键中缺少一个价电子,产生空穴。 硼原子接受一个电子后,成为带负 电的硼离子。 B- —负电中心.

半导体与器件物理全套课件

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微处理器的性能
100 G 10 G Giga
100 M 10 M
8080
8086
8028 6
8038 6
Peak
Advertised
Performance
(PAP)
Real Applied
Performance
(RAP)
41% Growth
Mega
Moore’s Law
8048 6 Pentium
2006 0.10 1.5—2
2009 0.07 <1.5
2012 0.05 <1.0
栅介质的限制
超薄栅 氧化层
大量的 晶体管
G
S
D
直接隧穿的泄漏电流 栅氧化层的势垒
tgate
栅氧化层厚度小于 3nm后
限制:tgate~ 3 to 2 nm
随着 tgate 的缩小,栅泄 漏电流呈指数性增长
栅介质的限制
PentiumPro
Kilo 1970
1980
1990
2000
2010
集成电路技术是近50年来发展最快的技术
等比例缩小(Scaling-down)定律
1974; Dennard; 基本指导思想是:保持MOS器件内部电 场不变:恒定电场规律,简称CE律 等比例缩小器件的纵向、横向尺寸,以增加跨导和减 少负载电容,提高集成电路的性能 电源电压也要缩小相同的倍数
在45nm以下?极限在哪里?22 nm? Intel, IBM…
10nm ? Atomic level?
第二个关键技术: 互连技术
铜互连已在 0.25/0.18um技术代 中使用;但在 0.13um后,铜互连 与低介电常数绝缘 材料共同使用;在 更小的特征尺寸阶 段,可靠性问题还 有待继续研究开发

(第一章)半导体物理ppt课件

(第一章)半导体物理ppt课件

下这些部分占满的能带中的电子将参与导电。由于绝缘
体的禁带宽度很大,电子从价带激发到导带需要很大能
量,所以通常温度下绝缘体中激发到导带去的电子很少,
导电性差;半导体禁带比较小(数量级为1eV),在通常
温度下有不少电子可以激发到导带中去,所以导电能力
比绝缘体要好。
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§1.3 半导体中电子(在外力下)的运动 及有效质量
§1.1半导体中的电子状态和能带
§1.1.2电子在周期场中的运动——能带论
⒉波函数
德布罗意假设:一切微观粒子都具有波粒二象性。 自由粒子的波长、频率、动量、能量有如下关系
Eh P h k
即:具有确定的动量和确定能量的自由粒子,相当 于频率为ν和波长为λ的平面波,二者之间的关系 如同光子与光波的关系一样。
书中(1-13)
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§1.1半导体中的电子状态和能带
§1.1.2电子在周期场中的运动——能带论
布洛赫曾经证明,满足式(1-13)的波函数一定具有 如下形式:
k(x)uk(x)eikx 书中(1-14)
式中k为波数,u k ( x是) 一个与晶格同周期的周期性函 数,即:
uk(x)uk(xna)
1.3.1半导体导带中E(k)与k 的关系
定性关系如图所示 定量关系必须找出E(k)函数带底附近E(k)与k的关 系
用泰勒级数展开可以近似求出极值附近的E(k)与k 的关系,以一维情况为例,设能带底位于k=0,将 E(k)在E ( kk =) 0E 附(0 近) 按(d 泰d勒)E k k 级0k 数 展1 2(开d d 2 ,E 2k )取k 0 至k2 k项2 ,得到
K=0时能量极小,所以(ddEk)k0k ,0因而
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外界因素(如外应力)的作用也会影响半导体材 料的导电能力。
江西科技师范大学
半导体器件物理
闪锌矿结构
砷化镓(GaAs) 磷化镓(GaP) 硫化锌(ZnS) 硫化镉(CdS)
江西科技师范大学
半导体器件物理 元素半导体
硅(Si) 锗(Ge)
化合物半导体
Ⅲ族元素[如铝(Al)、镓 (Ga)、铟(In)]和Ⅴ族元 素[如磷(P)、砷(As)、 锑(Sb)]合成的Ⅲ-Ⅴ族 化合物都是半导体材料
晶面指数(密勒指数)
• 任何三个原子组成的晶面在空间有许多和它相同 的平行晶面
• 一族平行晶面用晶面指数来表示 • 它是按晶面在坐标轴上的截距的倒数的比例取互
质数 • (111)、(100)、(110) • 相同指数的晶面和晶列互相垂直。
江西科技师范大学
半导体器件物理 1.2 半导体的电性能
温度与半导体
江西科技师范大学
半导体器件物理
如图,晶面ACC’A’在 坐标轴上的
截距为1,1,∞,
其倒数为1,1,0,
此平面用密勒指数表示 为(110),
此晶面的晶向(晶列指 数)即为[110];
晶面ABB’A’用密勒指 数表示为( 100 );
晶面D’AC用密勒指数 表示为( 111 )。
江西科技师范大学
半导体器件物理
晶面指数(密勒指数)
常用密勒指数来标志晶向的不同取向。 密勒指数是这样得到的: (1)确定某平面在直角坐标系三个轴上的截点,并 以晶格常数为单位测得相应的截距; (2)取截距的倒数,然后约简为三个没有公约数的 整数,即将其化简成最简单的整数比; (3)将此结果以“(hkl)”表示,即为此平面的密 勒指数。
江西科技师范大学
a半3 / 2导体器件物理 例1-1
假使体心结构的原子是刚性的小球,且中心原子与立方体八个角落 的原子紧密接触,试算出这些原子占此体心立方单胞的空间比率。

江西科技师范大学
半导体器件物理
练习
假使面心结构的原子是刚性的小球,且面中心原子与 面顶点四个角落的原子紧密接触,试算出这些原子占此面 心立方单胞的空间比率。
半导体器件物理
第1章
半导体特性
1.1 半导体的晶格结构 1.2 半导体的导电性 1.3 半导体中的电子状态和能带 1.4 半导体中的杂质与缺陷 1.5 载流子的运动 1.6 非平衡载流子 1.7 习题
江西科技师范大学
半导体器件物理
● —— 本章重点
半导体材料的晶格结构 电子和空穴的概念 半导体的电性能和导电机理 载流子的漂移运动和扩散运动 非平衡载流子的产生和复合
晶体的各向异性具体表现在晶体不同 方向上的弹性膜量、硬度、热膨胀系数、 导热性、电阻率、电位移矢量、电极化强 度、磁化率和折射率等都是不同的。
江西科技师范大学
半导体器件物理
在ACC’A’平面 内有六个原子, 在ADD’A’平面 内有五个原子, 且这两个平面 内原子的间距 不同。
江西科技师范大学
半导体器件物理
江西科技师范大学
半导体器件物理
金刚石结构
由两个面心立方结构 沿空间对角线错开四 分之一的空间对角线 长度相互嵌套而成。
硅(Si) 锗(Ge)
江西科技师范大学
半导体器件物理
大量的硅(Si)、锗 (Ge)原子靠共价键 结合组合成晶体,每 个原子周围都有四个 最邻近的原子,组成 正四面体结构, 。这 四个原子分别处在正 四面体的四个顶角上, 任一顶角上的原子各 贡献一个价电子和中 心原子的四个价电子 分别组成电子对,作 为两个原子所共有的 价电子对。

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半导体器件物理 例1-2
硅(Si)在300K时的晶格常数为5.43Å。请计算出每立方厘米体 积中硅原子数及常温下的硅原子密度。(硅的摩尔质量为 28.09g/mol)

江西科技师范大学
半导体器件物理
晶体的各向异性
沿晶格的不同方向,原子排列的周期 性和疏密程度不尽相同,由此导致晶体在 不同方向的物理特性也不同 。
●简单立方结构 ●体心立方结构 ●面心立方结构 ●金刚石结构 ●闪锌矿结构
釙(Po) 江西科技师范大学
半导体器件物理
晶体的原子按一 定规律在空间周 期性排列,称为 晶格。
体心立方结构
钠(Na) 钼(Mo) 钨(W)
江西科技师范大学
半导体器件物理
面心立方结构
铝(Al) 铜(Cu) 金(Au) 银(Ag)
江西科技师范大学
半导体器件物理
杂质与半导体
杂质对半导体材料导电能力的影响非常大。
例如,纯净硅在室温下的电阻率为2.14×107Ω·m, 若掺入百分之一的杂质(如磷原子),其电阻就会 降至20Ω·m。
虽然此时硅的纯度仍旧很高,但电阻率却降至 原来的一百万分之一左右,绝大多数半导体器件都 利用了半导体的这一特性。
江西科技师范大学
半导体器件物理
半导体 电阻率介于导体和绝缘体之间 。导体(电阻率小于10-8Ω·m), 绝缘体(电阻率大于106Ω·m)。
晶体 自然界中存在的固体材料,按其结构形式不同,可以分为晶 体(如石英、金刚石、硫酸铜等)和非晶体(玻璃、松香、沥青等)。
1.1 半导体的晶格结构
五种常见的晶格结构
半导体的电导率随温度升高而迅速增加。
金属电阻率的温度系数是正的(即电阻率随温 度升高而增加,且增加得很慢);
半导体材料电阻率的温度系数都是负的(即温 度升高电阻率减小,电导率增加,且增加得很快)。
热敏电阻 对温度敏感,体积又小,热惯性也小, 寿命又长,因此在无线电技术、远距离控制与测量、 自动化等许多方面都有广泛的应用价值。
江西科技师范大学
半导体器件物理
光照与半导体
光照对半导体材料的导电能力也有很大的影响。
例如,硫化镉(CdS)薄膜的暗电阻为几十兆欧, 然而受光照后,电阻降为几十千欧,阻值在受光照以 后改变了几百倍。
光敏电阻 成为自动化控制中的一个重要元件。
江西科技师范大学
半导体器件物理
其他因素与半导体
Байду номын сангаас
除温度、杂质、光照外,电场、磁场及其他
练习
试求ADD’A’的密勒指数。
江西科技师范大学
半导体器件物理
晶列指数——晶向指数
• 任何两个原子之间的 连线在空间有许多与 它相同的平行线。
• 一族平行线所指的方 向用晶列指数表示
• 晶列指数是按晶列矢 量在坐标轴上的投影 的比例取互质数
• [111]、[100]、[110]
江西科技师范大学
半导体器件物理
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