有机合成中的保护基团
有机化学中的保护基团
有机化学中的保护基团
保护基团是有机化学中常用的一种技术，用于保护有机分子中的某些原子或基团不受其他反应的影响。
这种技术通常在有机合成过程中使用，可以使得化学反应更加精确和可控。
常见的保护基团包括：
羰基保护基团：常见的羰基保护基团有甲基羰基（MOM）、叔丁基羰基（SBM）和二甲基羰基（DMB）。
羰基保护基团通常用于保护羧基（COOH）。
羧基保护基团：常见的羧基保护基团有甲基羧基（Methyl）、叔丁基羧基（TBD）和二甲基羧基（DMD）。
羧基保护基团通常用于保护氨基（NH2）。
醛保护基团：常见的醛保护基团有甲基醛（MEOH）、二甲基醛（DME）和三甲基醛（TME）。
醛保护基团通常用于保护醇（OH）。
酮保护基团：常见的酮保护基团有甲基酮（MTOH）、叔丁基酮（TBOH）和三甲基酮（TMOH）。
酮保护基团通常用于保护酮（COH）。
当化学反应完成后，通常需要去除保护基团，以便得到所需的最终产物。
这种过程称为解保护。
解保护的方法取决于保护基团的种类和有机物的结构。
常见的解保护方法包括用酸或碱溶液去除保护基团，或者使用高温氧化或氧气氧化等方法。
保护基团在有机合成中非常重要，因为它可以使得化学反应更加精确和可控。
它还可以使得合成过程更加简单，因为只有在解保护后才能得到所需的最终产物。
保护基团在药物合成、染料合成和其他领域都有广泛应用。
有机合成中的保护基和去保护反应
有机合成中的保护基和去保护反应有机化学中的保护基和去保护反应是合成有机化合物中非常重要的步骤之一。
保护基是指在有机分子中引入的一种临时性保护官能团，用以保护其他官能团不被化学反应所破坏。
去保护反应则是指在有机合成反应进行到一定程度后，选择性地去除保护基，使原始的官能团重新暴露出来。
在本文中，将详细讨论有机合成中的保护基和去保护反应的原理、常用保护基以及去保护反应的条件和方法。
一、保护基的原理和常用保护基保护基的引入可以有效地阻止某些化学反应的发生，从而保护其他官能团的完整性。
通常，保护基需要具备以下特点：1. 容易引入和去除；2. 在反应条件下稳定；3. 不干扰其他反应。
常用的保护基包括酯、醚、酮、醛、酰胺等。
酯和醚作为常见的保护基，广泛应用于有机合成中。
例如，酸性条件下，醇可以与酸反应生成酯，从而保护了醇的羟基。
二、去保护反应的条件和方法去保护反应的选择性很重要，需要保护基容易去除且不影响其他官能团的完整性。
常用的去保护反应方法主要包括但不限于以下几种。
1. 加氢还原法：在氢气的存在下，使用适当的催化剂催化，加氢还原保护基，恢复官能团的原貌。
例如，酯可以通过加氢还原去除醇的酯保护基。
2. 碱性水解法：在碱性条件下，加水使酯或酮脱去醇或酚的保护基。
碱性水解法是比较常用且方便的去保护方法之一。
3. 酸性水解法：在酸性条件下，加水使酯或酮脱去醇或酚的保护基。
与碱性水解法相比，酸性水解法具有更高的选择性，可以选择性地去除某一特定位置的保护基。
4. 热解法：将保护基暴露在高温下，使其发生热解反应，从而去除保护基。
热解法需要注意保护基的稳定性，在高温下不会引发其他反应。
除了上述方法，也可以利用其他特定的条件和方法进行去保护反应，如金属还原法、脱保护基化合物的环境条件等。
具体选择哪种方法要根据保护基的类型以及反应条件的要求来决定。
结论有机合成中的保护基和去保护反应在有机化学领域中扮演着至关重要的角色。
通过引入保护基，可以阻止某些化学反应的进行，从而保护其他官能团的完整性。
现代有机合成中的保护基
+
O X－
R O
O ＋ H
C
+
X－
但 是 各 种 保 护 基 的 典 型 的 脱 除 条 件 也 有 区 别。 三 苯 甲 基 醚 (Trityl) 在 弱 酸 性 条 件 下 可 以 除 去, 但 是 实 践 中 有 一 个 缺 点 是 往 往 反 应 不 干 净, 存 在 碳 正 离 子 的 副 反 应, 需 要 一 些 辅 助 试 剂, 如 还 原 剂 Et3SiH 等； 苄 基 酯 和 醚 的 酸 性 断 裂 需 要 HBr-HOAc； 叔 丁 基 醚、 酯 和 氨 基 甲 酸 酯 需 要 CF3COOH-CH2Cl2 体 系 等。 C-O 键 的 断 裂 也 并 不 一 定 要 经 过 碳 正 离 子 阶 段， 例 如 Lewis 酸 对 碳 氧 键 的 断 裂。 惰 性 的 甲 基 醚 用 TMSI10，BBr3 或 BF3-thiolane 可 以 较 好 地 去 保 护。 芳 香 体 系 中， 在 甲 基 醚 共 同 存 在 时， 异 丙 基 醚 可 以 用 BCl3 选 择 性 除 去11。
有 机 合 成 中 的 保 护 基
19
第 三 章
有 机 合 成 中 的 保 护 基
本 章 将 主 要 介 绍 官 能 团 的 保 护， 包 括 醇 羟 基、 二 醇、 醛、 酮、 羧 酸、 氨 基 和 碳 碳 不 饱 和 键 等 的 保 护 和 去 保 护。 对 某 些 情 况 下 多 官 能 团 的 选 择 性 上 保 护 和 去 保 护 在 这 里 也 将 作 一 些 简 要 介 绍。
H MeO 68% H H OTMS O O NaI, TMSCl MeCN, rt HO H OH O O
有机合成中的保护基
可编辑ppt
2
选择保护基时要考虑：
1、保护基的供应来源，经济易得
2、必须能容易地进行保护，且保护效率要高
3、保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂 性，如引入新的手性中心 4、保护后的化合物要能承受得起以后进行的反应和后处理 过程
5、保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地 被除去
6、去保护过程的副产物和产物能容易被分离
可编辑ppt
3
一、酯类保护基
第一节 羟基的保护
酯类保护基的生成
酸酐/酰氯 溶剂：Py-CH2Cl2
HO
OH OH
PivCl (1eq) Py-CH2Cl2
0-25 0C
90 %
Cat： DMAP
OH HO
OO
Nicolaou， K. C.; Webber, S. E. Synthesis 1986, 717.
可编辑ppt
4
酯类保护基的除去
一般情况下，酯类保护基在碱性条件下除去，但各种酰基 的水解能力不同：
t-BuCO < PhCO < MeCO < ClCH2CO…. 常用的碱：K2CO3， NH3， KCN，肼、胍、Et3N或 i-Pr2NEt
位阻较大的酯需要较强的碱性体系：KOH/MeOH
可编辑ppt
Cleavage 1、KHCO3, H2O, MeOH, 20°C, 3 days 2、 Dil. NH3, pH 11.2, 20°C , 62% yield.
I. W. Hughes, F. Smith, and M. Webb, J. Chem. Soc., 3437 (1949).
可编辑ppt
2、KCN, 95% EtOH, 20 0 C to reflux, 12 h, 93% yield.
thp保护基团结构
thp保护基团结构
摘要：
1.引言
2.thp保护基团结构简介
3.thp保护基团在有机合成中的应用
4.thp保护基团与其他保护基团的比较
5.结论
正文：
thp保护基团结构在有机合成中有着广泛的应用，其在保护醇、酚和其他敏感的有机化合物方面具有很高的效率。
thp保护基团，也称为叔丁基氢化吡啶，是由氢化吡啶与叔丁基氯反应生成的。
它具有稳定的化学性质，可以保护化合物免受氧化、水解和酸碱催化的反应影响。
在有机合成中，thp保护基团结构常用于保护醇和酚，从而增加它们在反应中的稳定性。
例如，在合成复杂药物分子时，thp保护基团可以保护醇或酚官能团免受不必要的反应影响，从而提高产物的纯度和收率。
此外，thp保护基团还可以用于保护其他敏感的有机化合物，如醇、酚、硫醇和胺等。
与其他保护基团相比，thp保护基团具有以下优点：
1.较高的反应选择性：thp保护基团对多种反应具有良好的选择性，可保护化合物免受氧化、水解和酸碱催化的反应影响。
2.易于引入和去除：thp保护基团可以通过简单的化学反应引入和去除，从而方便地进行后续的合成操作。
3.兼容性好：thp保护基团与多种有机化合物相容，可应用于多种有机合成反应。
4.稳定性高：thp保护基团具有较高的热稳定性，可承受多种有机合成条件。
然而，thp保护基团也存在一定的局限性，如反应过程中可能产生副产物，对某些敏感的化合物可能会产生影响。
因此，在实际应用中需要根据具体反应条件和目标化合物选择合适的保护基团。
总之，thp保护基团结构在有机合成中具有广泛的应用，可以保护醇、酚和其他敏感的有机化合物免受不必要的反应影响。
有机合成中的保护基pdf
有机合成中的保护基在有机合成中，保护基团的作用是暂时地、有选择性地保护一个或多个反应中心，使之不受反应试剂的影响。
这样，就可以在合成复杂有机分子时，对特定的反应中心进行精确的控制，从而得到所需的产物。
例如，在醇的反应中，常用的保护基团是甲醚和乙醚，它们可以保护醇的羟基免受酸或碱的影响。
而在胺的反应中，常用的保护基团是羧基酯类，如Boc（叔丁氧羰基）和Cbz（苄氧羰基），它们可以保护胺的氨基免受氧化或水解的影响。
保护基团在有机合成中起到了非常重要的作用，主要表现在以下几个方面：1.反应选择性的控制：通过引入保护基团，可以防止某些不希望的副反应发生，提高合成效率。
例如，在醇的氧化反应中，可以通过引入甲醚或乙醚基团来保护醇的羟基，避免氧化反应同时发生。
2.特定化学键的保护：某些化学键在反应条件下不稳定，容易发生反应。
通过引入保护基团，可以保护这些化学键，使其在合成过程中保持稳定。
例如，在氨基酸的合成中，可以通过引入Boc（叔丁氧羰基）基团来保护氨基，使其在酸性条件下保持稳定。
3.简化合成步骤：通过引入保护基团，可以将多步合成反应串联起来，从而简化了合成步骤，提高了合成效率。
例如，在糖类化合物的合成中，可以通过引入磷酸酯基团来保护糖的羟基和氨基，使糖的合成更为方便。
4.增强分子的稳定性：通过引入保护基团，可以提高分子结构的稳定性，从而提高了产物的质量。
例如，在某些天然产物的提取和分离中，可以通过引入乙醚基团来保护某些不稳定的官能团，从而提高其稳定性。
总之，保护基团在有机合成中具有重要的作用，可以控制反应选择性、保护特定化学键、简化合成步骤和提高分子稳定性等。
因此，在实际的有机合成中，选择合适的保护基团是非常重要的。
有机化学基础知识点有机合成中的保护基与活化基
有机化学基础知识点有机合成中的保护基与活化基有机化学基础知识点：有机合成中的保护基与活化基有机化学是研究有机化合物结构、性质和反应的科学，是化学的一个重要分支。
在有机合成中，保护基和活化基是两个基础知识点，它们在有机合成过程中具有重要的作用。
本文将分析和探讨有机化学中的保护基和活化基的概念、种类以及应用。
一、保护基的概念与种类保护基，又称为保护基团，是指在有机合成中，通过引入某个特定的官能团对反应物中的某一个或多个化学中心进行保护，以避免其发生不必要的反应或者受到其他官能团的干扰。
保护基在反应结束后可以方便地被去除。
下面列举了一些常见的保护基及其用途：1. 叔丁酰氧基（t-BuO）：用于保护醇类和酚类化合物的羟基；2. 三甲基硅基（TMS）：用于保护醇类和羧酸类化合物的羟基；3. 苯甲酰氧基（PhCOO）：用于保护醛类化合物的羰基；4. 二甲基亚砜（DMS）：用于保护醚类化合物的氧原子。
除了上述的几个例子，还有许多其他常见的保护基，它们根据不同的官能团和反应物的要求而选择。
二、保护基的应用保护基在有机合成中起到了至关重要的作用，它可以控制反应的选择性、增加合成的效率、防止不必要的副反应等。
下面将针对不同的官能团和反应类型，介绍保护基的具体应用。
1. 保护羟基羟基的保护可以通过引入酯化、醚化或硅烷化等保护基来实现。
这可以有效地避免羟基发生缩合、酸催化的酯化反应以及其他影响反应结果的副反应。
2. 保护羰基常见的保护羰基的方法包括醛类保护和酮类保护，其中醛类保护以醇类保护和酯类保护为主，而酮类保护则多采用醇类保护。
这些方法可以有效地保护羰基，避免其发生亲核取代或发生酰亲核加成反应。
3. 保护胺基胺基的保护主要是通过引入保护基，如保护胺基的烷基、苯基、二甲基亚砜等，以避免胺基发生反应或者接受其他官能团的攻击。
三、活化基的概念与种类活化基是指引入在有机合成中用来增加反应活性的特殊官能团。
它可以通过提供电子、受体位或阴离子等方式改变分子的电子结构，使得反应更容易进行。
有机合成中的保护基团
有机合成中的保护基团在有机化学合成中，保护基团是一种重要的工具，用于保护化合物中的特定官能团或功能基团，以防止其在反应条件下发生不必要的变化或分解。
通过使用适当的保护基团，有机化学家能够实现高选择性和高收率的合成反应，从而有效地构建复杂的有机分子。
本文将介绍一些常见的保护基团及其在合成过程中的应用。
一、醇的保护基团1. 苄基（Bn）- 苄基是最常用的醇保护基团之一，它通过醇和苄溴化物反应制备。
苄基在碱性条件下可以容易地被去除，因此是一个理想的保护基团。
它广泛应用于糖类、多羟基醇和其他含醇化合物的合成中。
2. 丙二酰基（Ac）- 丙二酰基是另一种常用的醇保护基团。
丙二酰基化反应通常在醇和丙酰氯或丙二酸酐的存在下进行。
这个保护基团可以在碱性和酸性条件下容易去除，适用于多数醇类化合物的保护。
二、羧酸的保护基团1. 甲酯基（MeO）- 甲酯基是最常用的羧酸保护基团，在碱性或酸性条件下都可以容易去除。
甲酯化反应通常在酸催化下进行，可以实现选择性地保护羧酸基。
2. 苄基（Bn）- 苄基也可以用作羧酸的保护基团，它通过羧酸和苄溴化物反应制备。
苄基保护基团在碱性条件下容易去除，适用于一些特殊的有机合成反应。
三、胺的保护基团1. 丙酰胺基（AcNH）- 丙酰胺基是最常用的胺保护基团之一。
它通过胺和丙酰氯反应制备，可以在酸性条件下容易去除。
丙酰胺基在多肽合成和其他涉及胺基反应的有机合成中广泛应用。
2. 苄基（Bn）- 苄基也可以用作胺的保护基团，它通常通过胺和苄溴化物反应制备。
苄基在碱性条件下可以容易去除，适用于一些特殊的有机合成反应。
四、醛和酮的保护基团1. 乙二醇基（EG）- 乙二醇基是最常用的醛和酮的保护基团，它通过醛或酮和乙二醇反应制备。
乙二醇基在酸性条件下可以容易去除，适用于多数醛酮化合物的保护。
2. 氧代硅基（Si OR）- 氧代硅基是另一种常用的醛和酮保护基团，通过醛或酮和硅醇反应制备。
氧代硅基在酸性条件下可以容易去除，并可以通过适当的硅硫化剂在碱性条件下去除。
fmoc保护基团 分子式
fmoc保护基团分子式
FMOC保护基团是一种常用的有机合成化学保护基团。
它的分子式为C17H11NO4，具有以下结构：
H
|
H3C-C-C-O-C-CH-C-O-C-C-CH-C-O-C-C-CH-C-O-C-C-CH-C-CH3
| | | | | |
CH3 CH3 CH3 CH3 CH3 CH3
FMOC保护基团在有机合成中起到保护官能团的作用，可以防止其他反应发生在需要保护的官能团上。
它通常与氨基酸或肽链合成相关，用于保护氨基官能团。
使用FMOC保护基团的方法是在官能团上加入FMOC基团，形成保护官能团。
在需要去除保护基团时，可以通过酸性条件进行去保护反应，将FMOC基团从官能团上脱落。
FMOC保护基团具有很多优点，例如它可以在中性条件下进行保护和去保护反应，避免了使用强酸或碱的需求。
此外，它的去保护反应速度快，不会产生副反应或产物。
FMOC保护基团在肽化学和固相合成中得到广泛应用。
在肽合成中，FMOC保护基团可以保护氨基酸的α-氨基和侧链官能团，以防止副反应的发生。
在固相合成中，FMOC保护基团可以用于保护固相上的
活性官能团，以避免非特定反应的发生。
FMOC保护基团是一种常用的有机合成化学保护基团，可以在有机合成中起到保护官能团的作用。
它在肽化学和固相合成中得到广泛应用，具有很多优点。
使用FMOC保护基团可以提高合成效率，减少副反应的发生，是有机合成化学中的重要工具之一。
有机合成中的重要保护基团和去保护方法
有机合成中的重要保护基团和去保护方法在有机合成中，保护基团扮演着至关重要的角色。
它们可以保护反应中的特定功能团，以防止其与其他试剂发生不必要的反应。
保护基团的引入和去除成为了有机合成中的两个关键步骤。
在本文中，我们将探讨一些有机合成中的重要保护基团，以及去除它们的方法。
1. 醇保护基团醇保护基团是有机合成中最常用的保护基团之一。
它可以通过与醇反应生成醚来引入。
常用的醇保护基团包括醇酯、醚和醇醚。
在选取保护基团时，需要考虑其稳定性和去保护的条件。
去除醇保护基团的方法有很多种。
常用的方法包括酸处理和还原。
酸处理通常使用强酸，如硫酸、盐酸或三氟甲磺酸。
还原方法则是使用还原试剂，如铝醇盐或氢化钠。
2. 酰基保护基团酰基保护基团是保护羧酸的常用基团。
它可以通过与酸反应生成酯来引入。
常用的酰基保护基团包括乙酰基、苄酰基和丙酰基。
选择合适的酰基保护基团需要考虑其稳定性和易于去除的条件。
去除酰基保护基团的方法主要有碱处理和酸处理。
碱处理通常使用碱性试剂，如碳酸氢钠或氢氧化钠。
酸处理则使用酸性试剂，如盐酸或三氟甲磺酸。
3. 氨基保护基团氨基保护基团常用于保护胺官能团。
常用的氨基保护基团包括铺地基（Boc）、苄基、三甲基硅基（TMS）和甲酰基。
选择保护基团需要考虑其稳定性和去除的条件。
去除氨基保护基团的方法有多种。
常用的方法包括酸处理和碱处理。
酸处理通常使用强酸，如三氟甲磺酸或盐酸。
碱处理通常使用氢氧化钠或氢氧化铯。
4. 硅基保护基团硅基保护基团常用于保护醇和酚官能团。
常用的硅基保护基团包括二甲基氧硅基（TBS）、二异丙基氧硅基（TIPS）和三甲基硅基（TMS）。
选择硅基保护基团需要考虑其稳定性和去除的条件。
去除硅基保护基团的方法主要是酸处理。
常用的酸处理试剂包括氢氟酸、三氟甲磺酸和硼氟酸。
总结起来，有机合成中的保护基团起着至关重要的作用。
正确选择保护基团可以有效地保护特定的功能团，而去除保护基团则是合成目标化合物的关键步骤。
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三苯甲基（trityl group）是一巨大基团，脱去时用加氢
反应，或锂金属处理。因为有位阻的醇进行三苯甲基化被 一级醇慢得多，所以能够选择性的保护。
2020/2/9
HC O2H O
HC O2H O
O
H 2,Pd
O P(O )C(2H P O h)2
O
O
LiH O
O P(O )C(2H P O h)2 H 2O
O P(O )C(2H P O h)2
O
HOO H
O
O
O
Me N
HO O
O
OHOH
O
,DMF HO
O
Me N
O
O
HC(OEt)3 H2SO4
OO
BnO
O
Me N
HN H
(iii)1N HCl
Et
O
R2C=O
HOCH2CH2OH,H+ H3O+
O CH2 R2C
O CH2
2020/2/9
2020/2/9
7.3 羰基的保护
CO2CH3 HOCH2CH2OH
TsOH
O
benzene (86%)
CH2OH O
CH2OCOCH3 O
CO2CH3 O O LiAlH4 (67%) CH2OH O O
O
O
OO
TFA H2O
BnO
O
Me N
O
O
HO OH
2020/2/9
7.3 羰基的保护
保护羰基的方法可分为二种：
一是形成缩酮或其对等物
R CO
R'
RX
C R' Y
醛基是最容易形成缩醛或对等物的羰基，而苯环上的 酮基则是反应性最低的羰基。
一般说来，反应性是：
醛基 > 链状羰基（环已酮）> 环戊酮 > α，β-不 饱和酮 > 苯基酮。
R2C=O
CH3OH,H+ 2N H2SO4
OCH3 R2C
OCH3
2020/2/9
7.3 羰基的保护
将缩酮回复到酮类（即除去保护基团），可以在酸性 溶液中水解，或以丙酮进行置换，或以三甲碘硅烷作用 （软硬酸碱原理）。
CHO Me
Cl
(i)MeOH,H+
(ii) t BuOK, DMSO
OMe OMe
(i)mCPBA 99%
Me O
Me trace HCl
O
HO
TsOH, 89% Me O
(ii)Me2CuLi ether
Me O
OH distil
O Me
94%
Me
2020/2/9
7.2 二羟基的保护基团
2020/2/9
CH2OH CHOH
PhCHO
CH2OH CH3COCH3 HCl (80%) HCl
R
CH3
O
Me3Si I
CH3I + ROSiMe3 H2O ROH + Me3SiOH
2020/2/9
7.1 羟基的保护基团
2. 形成叔丁基醚类 ROC（CH3）3
醇与异丁烯在Lewis 酸催化下制备。叔丁基为一巨大的取代基（ bulky group），脱去时需用酸处理：
ROH +
BF3 Et2O Cat RO
CH2OH O
OH
H,OH
HO
NHCOCH3
CH3OH H+
(72%)
CH2OH O
OH
H,OCH3
HO
NHCOCH3
PhCHO (83%)
PhCH
OCH2 O
OCH3
H,OCH3
O NHCOCH3
CH3I Ag2O (100%)
PhCH
OCH2 O
OH
H,OCH3
O NHCOCH3
diluent acid
CH CCH2OH
O
H+
(90%)
O
OCH2C CH C2H5MgBr
THF
HOCH2C CCO2H (64%)
(i) CO2 (ii) H+,H2O
O OCH2C CMgBr
2020/2/9
7.1 羟基的保护基团
8. 形成叔丁基二甲硅醚 ROSiMe2（t-Bu）
制备时，用叔丁基二甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用，此保 护基比三甲基硅基稳定，常运用在有机合成反应中，一般是F-离子 脱去。
ROCH2OCH3
ROH
Me3SiCl,Et3N
HF,or n Bu4N+F - ROSiMe3
6. 形成二甲硅醚 ROSi（CH3）3
制备时，用三甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用。此保护基在酸 中不太稳定，也可以用氟离子F-脱去（Si-F的键结力甚强，大于Si-O的 键能）。
2020/2/9
7.1 羟基的保护基团
用碱性试剂处理，则二醇从碳酸酯再生。
PhC2H O C2 H O
PhC2H O C2 H O
O C3H CO Cl2
O C3H
(1) HBr
O HO H
Pyridine
OO
(2) (PhC H 2O )2PO 2N (C2H 5)4
O
2020/2/9
7.2 二羟基的保护基团
PhC2H O C2H O
OH OH CH2OH
CH3O
CH2OH NH2
CH2OH
BCl3 (100%)
HO
CH2OH NH2
CH2OH
2020/2/9
7.2 二羟基的保护基团
2. 碳酸酯
在吡啶存在下，光气与顺式 1,2－二醇反应，给出在中性和温和 酸性条件下稳定的碳酸酯，当在这种条件下进行氧化，还原时，能 保护1,2－二醇。
7. 形成四氢吡喃 ROTHP
制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。欲回 收恢复到醇类时，则在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。 有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩酮 上的碳原子），使得NMR谱的解析较复杂。
ROH
O
,TsOH,Pyr RO O
HOAc,H2O
ROH
NaOH,Me2SO4
Me3SiI ,CHCl3
ROCH3
2020/2/9
7.1 羟基的保护基团
脱去甲基保护基，回复到醇类，通常使用Lewis酸 ， 如 BBr3 及 Me3SiI， 也 就 是 引 用 硬 软 酸 碱 原 理 （ hardsoft acids and bases principle），使氧原子与硼或硅原子 结合（较硬的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的 共轭碱）将甲基（较软的共轭酸）除去。
Ketal (acetal) Dithioketal Oxothioketal
Cyanohydrin 羟腈 Aminonitrile
Dioxolane 二氧戊环 Oxazolidine 咪唑烷
Imidazolidine Thiazolidine 噻唑烷 Dithiolane 二硫戊烷
Dithiane 二噻烷
CH2OH O
OCH3
H,OH (CH3CO)2O (20%)
OH
NH2
CH2OH O
OCH3 H,OH
OH
NHCOCH3 (100%) NaBH4
CH3O
CH2OH NHCOCH3
CH2OH
H+,H2O (100%)
NaBH4 (75%)
CH3O
CH2OH NHCOCH3
CHO
H5IO6
CH3O
CH2OH NHCOCH3
7.3 羰基的保护
二是使用隐藏性羰基
CC
O3
C O CHOH
PCC
CO
CC
Hg2+,H2O
COCH2
C N i Bu2AlH
CHO
2020/2/9
7.3 羰基的保护
1. 形成二甲醇缩酮 R2C(OCH3)2
制备：以甲醇在酸催化下与醛，酮类进行脱水作用。
一般的酸催化可用盐酸气HCl(g)，甲苯磺酸或酸性离 子交换等。常用的脱水方法有加苯共沸，利用分子 筛吸水，或加过量的甲醇。
缩 酮 的 保 护 基 不 与 碱 ， 氧 化 剂 或 亲 核 剂 （ 如 H-， RMgBr）作用，而通常以酸水解回复到羰基。
2020/2/9
2020/2/9
7.3 羰基的保护
X=OH， Y=OH X=SH， Y=SH X=OH， Y=SH X=OH， Y=CN X=NH2， Y=C，Y=N-(CH2)2-N X，Y=S-(CH2)2-N X，Y=S-(CH2)2-S X，Y=S-(CH2)3-S
使产率降低。为了弥补这种缺点，在引入或除去保护基 团时，应以高选择性及高产率的方法优先。
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第七章 保护基团
总的说来，保护基应满足下列三点要求： 1. 它容易引入所要保护的分子（温和条件）; 2. 它与被保护基形成的结构能够经受住所要发生 的反应的条件; 3. 它可以在不损及分子其余部分的条件下除去（ 温和条件）;
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7.2 二羟基的保护基团
a
O
OH OH
OH O
H b
O
OTHP c
n C6H13
n C6H13
OH OTHP d
OH OH
(a)H+,
O
(b) PCC,NaOAc (c)i.n C6H13MgBr ii.H3+O (d)MeOH,H+