半导体器件物理第七章

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半导体物理与器件ppt课件

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2.23
h h K为波数=2π/λ, λ为波长。 2mE 15 P
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.2无限深势阱(变为驻波方程) 与时间无关的波动方程为:
2 x 2m 2 E V x x 0 2 x
2.13
由于E有限,所以区域I和III 中:
课程主要内容
固体晶格结构:第一章 量子力学:第二章~第三章 半导体物理:第四章~第六章 半导体器件:第七章~第十三章

1
绪论

什么是半导体
按固体的导电能力区分,可以区分为导体、半导体和绝缘体
表1.1 导体、半导体和绝缘体的电阻率范围 材料 电阻率ρ(Ωcm) 导体 < 10-3 半导体 10-3~109 绝缘体 >109
分别求解与时间无关的波动方程、与时间有关的波 动方程可得自由空间中电子的波动方程为:
j j x, t A exp x 2mE Et B exp x 2mE Et




2.22
说明自由空间中的粒子运动表现为行波。 沿方向+x运动的粒子: x, t A exp j kx t
18
2.3薛定谔波动方程的应用

无限深势阱(前4级能量)
随着能量的增加,在任意给 定坐标值处发现粒子的概率 会渐趋一致
19
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.3阶跃势函数
入射粒子能量小于势垒时也有一定概率穿过势垒 (与经典力学不同)

20
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.3阶跃势函数 Ⅰ区域 21 x 2mE 2 1 x 0 2.39 2

半导体物理(微电子器件基础 )知识点总结

半导体物理(微电子器件基础 )知识点总结

第一章●能带论:单电子近似法研究晶体中电子状态的理论●金刚石结构:两个面心立方按体对角线平移四分之一闪锌矿●纤锌矿:两类原子各自组成的六方排列的双原子层堆积而成(001)面ABAB顺序堆积●禁带宽度:导带底与价带顶之间的距离脱离共价键所需最低能量●本征激发:价带电子激发成倒带电子的过程●有效质量(意义):概括了半导体内的势场作用,使解决半导体内电子在外力作用下运动规律时,可以不涉及半导体内部势场作用●空穴:价带中空着的状态看成是带正电的粒子●准连续能级:由于N很大,每个能带的能级基本上可以看成是连续的●重空穴带:有效质量较大的空穴组成的价带●窄禁带半导体:原子序数较高的化合物●导带:电子部分占满的能带,电子可以吸收能量跃迁到未被占据的能级●价带:被价电子占满的满带●满带:电子占满能级●半导体合金:IV族元素任意比例熔合●能谷:导带极小值●本征半导体:完全不含杂质且无晶格缺陷的纯净半导体●应变半导体:经过赝晶生长生成的半导体●赝晶生长:晶格失配通过合金层的应变得到补偿或调节,获得无界面失配位错的合金层的生长模式●直接带隙半导体材料就是导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中同一位置●间接带隙半导体材料导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中不同位置●允带:允许电子能量存在的能量范围.●同质多象体:一种物质能以两种或两种以上不同的晶体结构存在的现象第二章●替位杂质:杂质原子取代晶格原子而位于晶格点处。

●间隙杂质:杂质原子位于晶格的间隙位置。

●杂质浓度:单位体积中的杂质原子数。

●施主(N型)杂质:释放束缚电子,并成为不可动正电荷中心的杂质。

●受主(P型)杂质:释放束缚空穴,并成为不可动负电荷中心的杂质。

● 杂质电离:束缚电子被释放的过程(N )、束缚空穴被释放的过程(P )。

● 杂质束缚态:杂质未电离时的中性状态。

● 杂质电离能:杂质电离所需的最小能量:● 浅能级杂质:施(受)主能级很接近导(价)带底(顶)。

半导体物理与器件-第七章 pn结

半导体物理与器件-第七章  pn结

7.1 pn结的基本结构
冶金结:P区和n区的交界面
突变结 突变结-均匀分布,交界处突变
5
7.1 pn结的基本结构
PN结的形成
Space charge region
空间电荷区=耗尽区(没有可自由移动的净电荷,高阻区)
6
pn结的形成
Байду номын сангаас.2 零 偏
pn结能带图
7.2.1内建电势差
当两块半导体结合成pn结时,按费米能级的意义,电子将 从费米能级高的n区向费米能级低的p区,空穴则从p区流向n区 ,因而FFn不断下移,且EFp不断上移,直至时FFn = EFp为止;这 时pn结中有统一的费米能级EF,pn结处于热平衡状态。
4、对单边突变结,空间电荷区的宽度W取决于轻掺杂一侧杂质的浓度。
7.2零偏
7.2.3空间电荷区宽度
7.3 反 偏
7.3.1空间电荷区宽度与电场
反偏
与内建电场方向相同
外加偏置电压VR(以P端相对于N端电压为定义方向) 正偏:P端接正;
反偏:P端接负。
EF不再统一
n
16
7.3反偏
V=Vbi+VR
第7章 pn结
本章内容
第7章 pn结 7.1 pn结的基本结构 7.2零偏 7.3反偏 *7.4非均匀掺杂pn结 7.5小结
2
引言
PN结是几乎所有半导体器件的基本单元。除金属-半导体接触器 件外,所有结型器件都由PN结构成。PN结本身也是一种器件-整 流器。PN结含有丰富的物理知识,掌握PN结的物理原理是学习其 它半导体器件器件物理的基础。正因为如此, PN结一章在半导 体器件物理课的64学时的教学中占有16学时,为总学时的四分之 一。

半导体物理与器件习题

半导体物理与器件习题

半导体物理与器件习题目录半导体物理与器件习题 (1)一、第一章固体晶格结构 (2)二、第二章量子力学初步 (2)三、第三章固体量子理论初步 (2)四、第四章平衡半导体 (3)五、第五章载流子输运现象 (5)六、第六章半导体中的非平衡过剩载流子 (5)七、第七章pn结 (6)八、第八章pn结二极管 (6)九、第九章金属半导体和半导体异质结 (7)十、第十章双极晶体管 (7)十一、第十一章金属-氧化物-半导体场效应晶体管基础 (8)十二、第十二章MOSFET概念的深入 (9)十三、第十三章结型场效应晶体管 (9)一、第一章固体晶格结构1.如图是金刚石结构晶胞,若a 是其晶格常数,则其原子密度是。

2.所有晶体都有的一类缺陷是:原子的热振动,另外晶体中常的缺陷有点缺陷、线缺陷。

3.半导体的电阻率为10-3~109Ωcm。

4.什么是晶体?晶体主要分几类?5.什么是掺杂?常用的掺杂方法有哪些?答:为了改变导电性而向半导体材料中加入杂质的技术称为掺杂。

常用的掺杂方法有扩散和离子注入。

6.什么是替位杂质?什么是填隙杂质?7.什么是晶格?什么是原胞、晶胞?二、第二章量子力学初步1.量子力学的三个基本原理是三个基本原理能量量子化原理、波粒二相性原理、不确定原理。

2.什么是概率密度函数?3.描述原子中的电子的四个量子数是:、、、。

三、第三章固体量子理论初步1.能带的基本概念◼能带(energy band)包括允带和禁带。

◼允带(allowed band):允许电子能量存在的能量范围。

◼禁带(forbidden band):不允许电子存在的能量范围。

◼允带又分为空带、满带、导带、价带。

◼空带(empty band):不被电子占据的允带。

◼满带(filled band):允带中的能量状态(能级)均被电子占据。

导带:有电子能够参与导电的能带,但半导体材料价电子形成的高能级能带通常称为导带。

价带:由价电子形成的能带,但半导体材料价电子形成的低能级能带通常称为价带。

半导体器件物理复习纲要word精品文档5页

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第一章 半导体物理基础能带:1-1什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?1-2试定性说明Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。

1-3、试指出空穴的主要特征及引入空穴的意义。

1-4、设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E v (k)分别为:2222100()()3C k k k E k m m -=+和22221003()6v k k E k m m =-;m 0为电子惯性质量,1k a π=;a =0.314nm ,341.05410J s -=⨯⋅,3109.110m Kg -=⨯,191.610q C -=⨯。

试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量。

题解:1-1、 解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥E g )被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。

其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。

如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。

1-2、 解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。

温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。

反之,温度降低,将导致禁带变宽。

因此,Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数。

1-3、准粒子、荷正电:+q ; 、空穴浓度表示为p (电子浓度表示为n ); 、E P =-E n (能量方向相反)、m P *=-m n *。

空穴的意义:引入空穴后,可以把价带中大量电子对电流的贡献用少量空穴来描述,使问题简化。

1-4、①禁带宽度Eg 根据dk k dEc )(=2023k m +2102()k k m -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值: k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m ;由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =22106k m ;∴Eg =E min -E max =221012k m =222012m a π =23423110219(1.05410)129.110(3.1410) 1.610π----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV②导带底电子有效质量m n2222200022833C d E dk m m m =+=;∴ 22023/8C n d E m m dk == ③价带顶电子有效质量m ’ 22206V d E dk m =-,∴2'2021/6V n d E m m dk ==- 掺杂:2-1、什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?2-2、什么叫施主?什么叫施主电离?2-3、什么叫受主?什么叫受主电离?2-4、何谓杂质补偿?杂质补偿的意义何在?题解:2-1、解:浅能级杂质是指其杂质电离能远小于本征半导体的禁带宽度的杂质。

半导体器件物理(第七章) 施敏 第二版

半导体器件物理(第七章) 施敏 第二版

线性区 饱和区
I
Z L
nCi VG
VT
VD
VDsat VG VT
I
Zn S
2Ld1 d0
d
VG
VT
2
对高速工作状态而言,载流子速度 达到饱和,此时饱和区电流、跨导 和截止频率:
Isat Zvsqns ZvsCi (VG VT )
gm ZvsCi
fT
gm
2C总电容
vs
2 L
CP ZCi
肖特基势垒电流电压特性
在热电子发射情况下,金属半导 体接触的电流电压表示为
J
JS
exp
qV kT
1
JS
A*T 2
exp
qBn
kT
A*称为有 效理查逊 常数
少数载流子电流密度
JP
J
P
0
exp(
qV kT
)
1
J P0
qDp ni 2 LP ND
通常,少数载流子电流比多数载 流子电流少数个数量级。
7.2.3 电流电压特性
电流电压方程式
I
IP
VD VP
2 3
VD
VG VP
Vbi
3/2
2 3
VG Vbi VP
3/2
IP
Zn q 2 N D 2a3 2S L
,VP
qNDa2
2 S
线性区
ID
IP VP
1
VG Vbi VP
1/ 2
VD
gm
I D VG
VD
IP 2VP 2
VP VG Vbi
7.1 金属-半导体接触
7.1.1 基本特性

半导体器件物理教案课件

半导体器件物理教案课件

半导体器件物理教案课件PPT第一章:半导体物理基础知识1.1 半导体的基本概念介绍半导体的定义、特点和分类解释n型和p型半导体的概念1.2 能带理论介绍能带的概念和能带结构解释导带和价带的概念讲解半导体的导电机制第二章:半导体材料与制备2.1 半导体材料介绍常见的半导体材料,如硅、锗、砷化镓等解释半导体材料的制备方法,如拉晶、外延等2.2 半导体器件的制备工艺介绍半导体器件的制备工艺,如掺杂、氧化、光刻等解释各种制备工艺的作用和重要性第三章:半导体器件的基本原理3.1 晶体管的基本原理介绍晶体管的结构和工作原理解释n型和p型晶体管的概念讲解晶体管的导电特性3.2 半导体二极管的基本原理介绍半导体二极管的结构和工作原理解释PN结的概念和特性讲解二极管的导电特性第四章:半导体器件的特性与测量4.1 晶体管的特性介绍晶体管的主要参数,如电流放大倍数、截止电流等解释晶体管的转移特性、输出特性和开关特性4.2 半导体二极管的特性介绍半导体二极管的主要参数,如正向压降、反向漏电流等解释二极管的伏安特性、温度特性和频率特性第五章:半导体器件的应用5.1 晶体管的应用介绍晶体管在放大电路、开关电路和模拟电路中的应用解释晶体管在不同应用电路中的作用和性能要求5.2 半导体二极管的应用介绍半导体二极管在整流电路、滤波电路和稳压电路中的应用解释二极管在不同应用电路中的作用和性能要求第六章:场效应晶体管(FET)6.1 FET的基本结构和工作原理介绍FET的结构类型,包括MOSFET、JFET等解释FET的工作原理和导电机制讲解FET的输入阻抗和输出阻抗6.2 FET的特性介绍FET的主要参数,如饱和电流、跨导、漏极电流等解释FET的转移特性、输出特性和开关特性分析FET的静态和动态特性第七章:双极型晶体管(BJT)7.1 BJT的基本结构和工作原理介绍BJT的结构类型,包括NPN型和PNP型解释BJT的工作原理和导电机制讲解BJT的输入阻抗和输出阻抗7.2 BJT的特性介绍BJT的主要参数,如放大倍数、截止电流、饱和电流等解释BJT的转移特性、输出特性和开关特性分析BJT的静态和动态特性第八章:半导体存储器8.1 动态随机存储器(DRAM)介绍DRAM的基本结构和工作原理解释DRAM的存储原理和读写过程分析DRAM的性能特点和应用领域8.2 静态随机存储器(SRAM)介绍SRAM的基本结构和工作原理解释SRAM的存储原理和读写过程分析SRAM的性能特点和应用领域第九章:半导体集成电路9.1 集成电路的基本概念介绍集成电路的定义、分类和特点解释集成电路的制造工艺和封装方式9.2 集成电路的设计与应用介绍集成电路的设计方法和流程分析集成电路在电子设备中的应用和性能要求第十章:半导体器件的测试与故障诊断10.1 半导体器件的测试方法介绍半导体器件测试的基本原理和方法解释半导体器件测试仪器和测试电路10.2 半导体器件的故障诊断介绍半导体器件故障的类型和原因讲解半导体器件故障诊断的方法和步骤第十一章:功率半导体器件11.1 功率二极管和晶闸管介绍功率二极管和晶闸管的结构、原理和特性分析功率二极管和晶闸管在电力电子设备中的应用11.2 功率MOSFET和IGBT介绍功率MOSFET和IGBT的结构、原理和特性分析功率MOSFET和IGBT在电力电子设备中的应用第十二章:光电器件12.1 光电二极管和太阳能电池介绍光电二极管和太阳能电池的结构、原理和特性分析光电二极管和太阳能电池在光电子设备中的应用12.2 光电晶体管和光开关介绍光电晶体管和光开关的结构、原理和特性分析光电晶体管和光开关在光电子设备中的应用第十三章:半导体传感器13.1 温度传感器和压力传感器介绍温度传感器和压力传感器的结构、原理和特性分析温度传感器和压力传感器在电子测量中的应用13.2 光传感器和磁传感器介绍光传感器和磁传感器的结构、原理和特性分析光传感器和磁传感器在电子测量中的应用第十四章:半导体器件的可靠性14.1 半导体器件的可靠性基本概念介绍半导体器件可靠性的定义、指标和分类解释半导体器件可靠性的重要性14.2 半导体器件可靠性的影响因素分析半导体器件可靠性受材料、工艺、封装等因素的影响14.3 提高半导体器件可靠性的方法介绍提高半导体器件可靠性的设计和工艺措施第十五章:半导体器件的发展趋势15.1 纳米晶体管和新型存储器介绍纳米晶体管和新型存储器的研究进展和应用前景15.2 新型半导体材料和器件介绍石墨烯、碳纳米管等新型半导体材料和器件的研究进展和应用前景15.3 半导体器件技术的未来发展趋势分析半导体器件技术的未来发展趋势和挑战重点和难点解析重点:1. 半导体的基本概念、分类和特点。

半导体物理知识点及重点习题总结

半导体物理知识点及重点习题总结

基本概念题:第一章半导体电子状态半导体通常是指导电能力介于导体和绝缘体之间的材料,其导带在绝对零度时全空,价带全满,禁带宽度较绝缘体的小许多。

能带晶体中,电子的能量是不连续的,在某些能量区间能级分布是准连续的,在某些区间没有能及分布。

这些区间在能级图中表现为带状,称之为能带。

能带论是半导体物理的理论基础,试简要说明能带论所采用的理论方法。

答:能带论在以下两个重要近似基础上,给出晶体的势场分布,进而给出电子的薛定鄂方程。

通过该方程和周期性边界条件最终给出E-k关系,从而系统地建立起该理论。

单电子近似:将晶体中其它电子对某一电子的库仑作用按几率分布平均地加以考虑,这样就可把求解晶体中电子波函数的复杂的多体问题简化为单体问题。

绝热近似:近似认为晶格系统与电子系统之间没有能量交换,而将实际存在的这种交换当作微扰来处理。

克龙尼克—潘纳模型解释能带现象的理论方法答案:克龙尼克—潘纳模型是为分析晶体中电子运动状态和E-k关系而提出的一维晶体的势场分布模型,如下图所示利用该势场模型就可给出一维晶体中电子所遵守的薛定谔方程的具体表达式,进而确定波函数并给出E-k关系。

由此得到的能量分布在k空间上是周期函数,而且某些能量区间能级是准连续的(被称为允带),另一些区间没有电子能级(被称为禁带)。

从而利用量子力学的方法解释了能带现象,因此该模型具有重要的物理意义。

导带与价带有效质量有效质量是在描述晶体中载流子运动时引进的物理量。

它概括了周期性势场对载流子运动的影响,从而使外场力与加速度的关系具有牛顿定律的形式。

其大小由晶体自身的E-k关系决定。

本征半导体既无杂质有无缺陷的理想半导体材料。

空穴空穴是为处理价带电子导电问题而引进的概念。

设想价带中的每个空电子状态带有一个正的基本电荷,并赋予其与电子符号相反、大小相等的有效质量,这样就引进了一个假想的粒子,称其为空穴。

它引起的假想电流正好等于价带中的电子电流。

空穴是如何引入的,其导电的实质是什么?答:空穴是为处理价带电子导电问题而引进的概念。

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13
缓变波导
突变波导的BH激光器中高阶模的截止条件
要求d 0.25m,W 0.5m高阶模才截止 工艺实现很难-——生长手段:垂直容易水平方向难
模式截止条件
dm 2
m
n22
n2 1,3
Wm.n 2(
n0
NI2I
N2 I ,III
)m
载流子的分布
载流子的注入不但对激光器的增益有贡献,而且对折射率也 有贡献
20
一维化结电压模式
J
x=
1 Rs
d 2Vy dy 2
1
Rs
y
2 e
d 2 d2
Je | y | s 2
1
2

l0
Je
Je
J j (y) Jx (y)
y
条区内外载流子 分布的解析解
1
l0
1
Rs
y
2 e
(|
|
yS 处
2
y S 2
S 2
2
y S 2
2
2
2)2 Rs
Jx
S 2
sh
S 2Ln
A Ln
解出n(0)和A’,得到
n(y
)
gL2n
1
ch
S 2Ln
ch
y Ln
Ln Ln
sh
S 2Ln
n(y )
gL2n
Ln Ln
sh
S 2Ln
|y | S 2
e Ln
ch
S 2Ln
Ln Ln
sh
S 2Ln
如果 Ln Ln
y S 2
n(y
)
gL2n
1
S
e 2Ln
Dn
d 2n dy 2
0
解得
电子的复合率
Rn
n n0
n
n n0
可写成
d 2n(y ) dy 2
n(y L2n
)
g
d 2n(y ) n(y ) dy 2 Ln2 0
g J Dnqed
|y | S
y S 2
y S 2
n(y )
gL2n
[n(0)
gL2n
]ch
y Ln
,
y S 2
2
n(y ) Ae Ln
其中 Je JSeVe

y
Vy
ye
y e
1 RsJe
d 2 d2
e
边界条件
yS 2
解得
ln (
2
2 )2
Iy
L
Rs
dVy dy
L
Rs y e
d d
2L Rsye (
2L
2L 2) Rs(y
2L
2ye )
Rs
|
y
|
S 2
ye
2
Rs y e

2L
2
Rs
|
y
|
S 2
Rs y e
17
载流子分布测试与计算结果比较
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
18
一维化结电压模式
欧姆定律得
Iy
(Iy Iy ) 2 IyVy来自1 R31 R4
Vy
3
1 y d3L
4
1 y d4L
LVy y
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
3
园谐分析 远离截止近似
突变波导
等效折射率近似
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
厚度缓变波导结构
三层平板波导的边界条件
tg(kId )
kI (488 466 ) kI2 488 466
tg(2I )
kI (488 466 ) kI2 488 466
三层平板波导的模式截止条件
……
dm 2
m0
n22
n2 1,3
Wmn 2(
n0
NI2I
N2 I ,III
)m
近似
W0
0 8Ne Ne
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
Ne 3 104
6
三种方法的数值计算结果
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
y S 2
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
15
突变分布的载流子分布
ny
dn
及 dy

| y | s 2
在处连续的边界条件
gL2n
n(0) gL2n
ch
S 2Ln
A
n(0) gL2n
1 Ln
第六章 半导体激光器侧向模式的选择性
问题的提出 突变波导
等效折射率近似 几种波导分析
缓变波导 复合腔波导互补激光器
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
2
问题的提出
侧向模式的稳定性
侧向模式的选择性
21
条形增益导引双异质结激光器波导模型
有源区内外 其中
(x, y ) / 0 [~(0) a~2y 2 ]/ 0
| x | d 2
~(0) r (0) ii (0)
a~ ar iai
(x, y ) / 0 1 / 0
| x | d 2
考虑 Emyn 模 2Ey 20Ey 0
Ey (x, y,z) Ey (x)Ey (y )eizz
y
S
y
S
n(y )
1
Ien qeSLd coth(S 2Ln
)
l02
1 L2n
I0n qeLd
l0 Ln coth(S 2Ln ) 1 coth(S 2Ln )
e
2 Ln
l0
l
2 0
1 L2n
I0n qeLd
e
2 l0
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
7
强、弱折射率波导
强折射率波导
矩形波导
弱折射率波导
脊形波导
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
8
矩形波导结构
掩埋异质结激光器结构(BH)
双沟道平面掩埋异质结构激光器DCPBH)
掩埋异质结激光器导波模式截止区和导波模式
Iy Ly
Js e Vy
1
Jse Vy
其中
qe 2 KT
Iy 0 y 0
dI y dy
LJSe Vy
d 2Vy dy 2
Rs L
dI y dy
RsJSe Vy
| y | S 2
V Ve
S
Vy Ve Vy
y y 2
d 2Vy dy 2
RsJSe Ve e Vy
RsJee Vy
2Ey x
(x
2
)
2 x
Ey
(x
)
0
Ey
(
x
)
d
2Ey dy
(y
2
)
k02 0
2x
2z
Ey (x)Ey
(y )
0
d 2Ey (y ) dy 2
k02
[~(0) 0
a~2
y
2
]
1k02 (1 0
)
2x
~z2
Ey
(y
)
0
d
Γ是限制因子,是积分得出来的
2 d
|
Ey (x)
|2
dx
|
Ey
(x)
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
9
脊形波导结构、Ridge/Rib波导结构
脊形波导结构/有源区厚度变化波导 Ridge波导结构
Rib波导结构
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
ar2
0
4n
(0)n S2
4n (0)n S2
2
0
gn S 2
(0)
2
1 2
0
1
0gn(0) 2 S2
w 4 1.920S2 n (0)g
College of Electronics Science and Engineering, Jilin University
23
22
条形增益导引双异质结激光器波导模型
基模是 高斯型
1
|
Ey
(y
)
|2
e
0
2
ar k0y 2
有效折 射率
n~
~ (0) a~2y~2
0
1
2
n
ik
1
n (y )
r (0) 0
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