机械磨光.抛光
金属抛光工艺(3篇)
第1篇一、引言金属抛光工艺是金属表面处理技术的重要组成部分，广泛应用于机械制造、航空航天、电子电器、汽车制造等领域。
金属抛光工艺能够提高金属表面的光洁度、降低表面粗糙度、消除表面划痕、增加表面硬度和耐磨性，从而提高产品的外观质量和使用寿命。
本文将详细介绍金属抛光工艺的原理、方法、设备和注意事项。
二、金属抛光工艺原理金属抛光工艺的基本原理是通过机械、化学、电化学或光化学等方法，去除金属表面的氧化层、划痕、毛刺等缺陷，使金属表面达到光滑、平整、光亮的效果。
以下是几种常见的金属抛光工艺原理：1. 机械抛光：通过摩擦、磨削、抛光等方法，利用抛光工具对金属表面进行机械加工，使表面达到光滑、平整的效果。
2. 化学抛光：利用化学溶液对金属表面进行腐蚀，去除表面的氧化层、划痕等缺陷，使表面达到光滑、平整的效果。
3. 电化学抛光：在金属表面施加直流电压，利用电解质溶液中的离子与金属表面发生化学反应，去除表面的氧化层、划痕等缺陷，使表面达到光滑、平整的效果。
4. 光化学抛光：利用光能激发化学反应，去除金属表面的氧化层、划痕等缺陷，使表面达到光滑、平整的效果。
三、金属抛光工艺方法1. 机械抛光：机械抛光方法包括手工抛光、机械抛光、振动抛光等。
手工抛光适用于小批量、形状复杂的工件；机械抛光适用于大批量、形状简单的工件；振动抛光适用于精密加工和表面处理。
2. 化学抛光：化学抛光方法包括单一化学抛光、复合化学抛光等。
单一化学抛光适用于单一金属或合金的表面处理；复合化学抛光适用于多种金属或合金的表面处理。
3. 电化学抛光：电化学抛光方法包括单槽电化学抛光、多槽电化学抛光等。
单槽电化学抛光适用于小批量、形状简单的工件；多槽电化学抛光适用于大批量、形状复杂的工件。
4. 光化学抛光：光化学抛光方法包括紫外线光化学抛光、激光光化学抛光等。
紫外线光化学抛光适用于小批量、形状简单的工件；激光光化学抛光适用于大批量、形状复杂的工件。
四、金属抛光设备1. 机械抛光设备：主要包括抛光机、抛光轮、抛光布、抛光膏等。
03.试样制备主要阶段— 磨平、磨光、研磨、抛光
磨光的目的
使试样表面的损伤逐渐减小 直到理论上为零 实际操作时,只须使损伤减小到 能够观察到试样的真实组织即可
只有电解法(又称电解抛光) 才能将试样表面的损伤全部去除
谢希文
碳化硅砂纸的缺点
碳化硅砂纸已经使用多年, 但是它的的使用寿命相当短, 特别是使用半自动磨光机时, 一张砂纸只能使用1~2分钟, 甚至不足以完成装在试样夹持器上 多块试样的一道磨光工序, 从而大大影响了制备的效率
Chemomet 抛光织物表面形貌(SEM)
谢希文
γ- 氧化铝悬浮液的抛光机制示意图
这个示意图明确表示抛光时有材料去除
谢希文
胶体状非晶 态二氧化硅 抛光磨料
(TEM)
平均粒度 0.04微米 pH值: ~9
George F. Vander Voort
提供
谢希文
胶体状非晶态二氧化硅 抛光磨料具有较高的pH值(~9) 因此它的抛光机制 应当是化学机械抛光机制
谢希文
没有使用过的碳化硅砂纸横截面显微组织
(正交偏振光+灵敏色片,100X)
谢希文
使用过1分钟的碳化硅砂纸横截面显微组织
(正交偏振光+灵敏色片,100X)
谢希文
良好的磨痕形貌 (明视场照明,100X)
（含0.37%C碳钢用SiC砂纸磨1分钟）
谢希文
不好的磨痕形貌 (明视场照明,100X)
（含0.37%C碳钢用SiC砂纸磨3分钟）
它以不同于磨光时的 材料去除机制将磨痕去除
抛光是试样制备的最后阶段, 它目的仅限于将磨痕去除
谢希文
关于抛光过程中 磨痕的去除机制
目前还没有一致的观点 争论焦点集中在:
抛光时有没有材料去除
谢希文
不锈钢抛光的方法
不锈钢抛光的方法
不锈钢抛光的方法通常有以下几种：
1. 机械抛光：使用抛光机械以及砂纸、磨料等工具对不锈钢表面进行磨光处理。
先用较粗的砂纸进行初步的磨光，再逐渐使用细砂纸进行细磨，最后使用抛光蜡进行抛光。
2. 化学抛光：使用化学药剂对不锈钢表面进行抛光处理。
先将不锈钢表面清洗干净，再将化学药剂涂抹在表面，等待一定时间后，用橡皮刮板或纤维刷进行擦拭，最后用清水冲洗干净。
3. 电化学抛光：在电解液中，使用外电源的直流功率，通过电解的方式对不锈钢表面进行抛光处理。
这种方法可以使不锈钢表面获得更亮丽的光泽。
4. 气雾抛光：使用高压气体将特定颗粒催化粉末喷射在不锈钢表面，利用粉末的冲击力将表面污染物和氧化层剥离。
这种方法能够给不锈钢表面带来更高的光洁度和平滑度。
以上是几种常见的不锈钢抛光方法，选择适合的方法需要根据具体情况和目的来决定。
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
• 机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不 同?它们在电镀中作用如何了机械抛光一 般是将工件压向预先涂有抛光膏(剂)的 转动布轮或其他弹性轮子上的操作。
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何 不同
• 其实质是用抛光轮来平复磨光后的制件 表面上极微小的不平处。通过机械抛光 可得到似镜而般的表面，其泽色随所用 抛光膏不同而变化，其外观问抛光者技 术有关。
不锈钢电解抛光设备
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何源自不同• 微观及宏观的凸凹部分得以整平。这一 过程能改善金属表面的显微几何形状， 降低金属表面的显微粗糙程度，使零件 表面变得光亮。电解抛光常用于钢、铝、 铜等零件，或铜镍等镀层的装饰性加工。
• 多相合金中，当有一相不易在阳极溶解 时，将会影响电解抛光的质量。化学抛 光是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。 在这一浸蚀过程中，金属表面被溶液浸 蚀和整平，从而获得比较光亮的表面。
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
• 化学抛光可用于仪器制造、铝质反光镜 的制造，以及其他零件和镀层的装饰性 加工。同电解抛光比较，化学抛光的优 点是：不需外加电源，可以处理形状更 为复杂的零件，生产效率高等。
• 电解抛光是将工件作为阳极，在电解过程中， 工件突出的部位溶解速度大于低凹处，随着 抛光的进行，工件表面的
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
• 在许多场合下，电解抛光可以用来代替 繁重的机械抛光， 尤其是形状 较复杂、用机械方法难以加工的零件。 但是电解抛光不能除去金届中的非金届 夹杂物，也不能除去或掩饰金属表面的 划痕、深麻点等表面缺陷
抛光原理是什么
抛光原理是什么抛光原理是指通过机械、化学或电化学方法，使物体表面获得一定光洁度和光亮度的过程。
抛光是一种表面处理工艺，可以使物体表面光滑、亮泽、清洁，并且提高其耐磨性和耐腐蚀性。
抛光原理的核心在于通过去除表面杂质、凹凸不平和微小颗粒，使物体表面变得平整，从而达到提高表面光洁度和光亮度的效果。
抛光原理的实现主要依靠磨料和磨光工具。
磨料是一种用于磨削、抛光和打磨的材料，常见的磨料包括金刚石、氧化铝、硅碳化等。
磨光工具则是用来固定和传动磨料的工具，常见的磨光工具包括砂轮、研磨布轮、抛光毛刷等。
在抛光过程中，磨料和磨光工具配合使用，通过不断地磨擦物体表面，去除表面杂质和微小颗粒，从而实现表面的抛光处理。
在机械抛光中，通常会采用旋转式或振动式的抛光设备，通过设备的运动，使磨料和磨光工具与物体表面接触和磨擦，达到抛光的效果。
在化学抛光中，常常使用化学溶液或腐蚀剂，通过化学作用去除表面氧化物和杂质，从而实现抛光处理。
而在电化学抛光中，则是利用电解质溶液和电流的作用，通过阳极氧化和阴极还原的过程，去除表面氧化物和微小颗粒，实现抛光效果。
抛光原理的实现过程中，需要注意控制抛光参数，包括磨料粒度、磨料硬度、抛光速度、抛光压力等，以及抛光工艺，包括抛光时间、抛光温度、抛光液浓度等。
合理的抛光参数和抛光工艺可以确保物体表面获得理想的抛光效果，提高抛光效率和质量。
总的来说，抛光原理是通过磨料和磨光工具的作用，去除物体表面的杂质和微小颗粒，使表面变得平整、光滑、亮泽，从而提高表面光洁度和光亮度的过程。
抛光原理的实现依赖于机械、化学或电化学方法，需要合理控制抛光参数和抛光工艺，以确保抛光效果的实现。
抛光原理在各行各业都有广泛的应用，如汽车制造、航空航天、家具制造等领域，对于提高产品质量和美观度具有重要意义。
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
• 化学抛光可用于仪器制造、铝质反光镜 的制造，以及其他零件和镀层的装饰性 加工。同电解抛光比较，化学抛光的优 点是：不需外加电源，可以处理形状更 为复杂的零件，生产效率高等。
不锈钢电解抛光设备
机械抛光、电解抛光与化学抛光ห้องสมุดไป่ตู้何 不同
• 微观及宏观的凸凹部分得以整平。这一 过程能改善金属表面的显微几何形状， 降低金属表面的显微粗糙程度，使零件 表面变得光亮。电解抛光常用于钢、铝、 铜等零件，或铜镍等镀层的装饰性加工。
• 多相合金中，当有一相不易在阳极溶解 时，将会影响电解抛光的质量。化学抛 光是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。 在这一浸蚀过程中，金属表面被溶液浸 蚀和整平，从而获得比较光亮的表面。
• 电解抛光是将工件作为阳极，在电解过程中， 工件突出的部位溶解速度大于低凹处，随着 抛光的进行，工件表面的
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
• 在许多场合下，电解抛光可以用来代替 繁重的机械抛光， 尤其是形状 较复杂、用机械方法难以加工的零件。 但是电解抛光不能除去金届中的非金届 夹杂物，也不能除去或掩饰金属表面的 划痕、深麻点等表面缺陷
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不同
• 机械抛光、电解抛光与化学抛光有何不 同?它们在电镀中作用如何了机械抛光一 般是将工件压向预先涂有抛光膏(剂)的 转动布轮或其他弹性轮子上的操作。
机械抛光、电解抛光与化学抛光有何 不同
• 其实质是用抛光轮来平复磨光后的制件 表面上极微小的不平处。通过机械抛光 可得到似镜而般的表面，其泽色随所用 抛光膏不同而变化，其外观问抛光者技 术有关。
口腔固定修复工艺技术工序五打磨和抛光
1. 磨光工具：
钻头：切 削 。钨钢
用于打磨树脂，钴铬合金、镍铬合金以及 贵金属铸件
磨头：研 磨 。 碳化硅、金刚砂、氧化 铝
磨头
碳化硅（绿色）
用于打磨树脂，钴铬合金、镍铬合金以及 贵金属铸件
一 基本原理
2 抛光：是在磨光的基础上，对物体表面进行 光亮化处理 。完成对义齿最后精加工的过程。 包括机械抛光和电解抛光。
1 按照由粗到细、由平到光的程序。 2 义齿规定的标准数值不发生改变。 3 防止义齿损坏变形。
（一）机械磨光、抛光 （二）喷砂抛光 （三）电解抛光 （四）化学抛光
一、磨光器械
利用抛光轮和抛光材料 ， 对铸件表面进行快速、 轻微研磨
电解抛光
主要用于金属支架的抛光
用马达带动抛光轮，在旋转过程中黏 附抛光膏
钛合金的研磨抛光
1. 喷砂选用氧化铝，同时使用专用抛光膏 2. 研磨面积要小，压力要轻，使铸件不产生研磨
性硬化现象 3. 抛光后的钛及钛合金铸件不能立即进行水洗 4. 研磨抛光的手法是间歇性的、顺时面达到高度 光洁的技术。
一 基本原理 1 打磨：包括切削和研磨两个步骤 。
切削 : 是指用刃状或粗粒度磨料的磨具磨切物体表面，以修整 物体的外形，减小物体体积，从而使物体的基本外形达到设计要 求的过程 。 研磨：是指用细粒度磨料的磨具对物体表面不断进行平整，以减 少物体表面粗糙度的加工过程。
1. 手动型 2. 自动型 3. 笔式喷砂机
金刚砂
用于烤瓷 , 金属合金冠、支架的研磨
氧化铝（粉色） 用于贵金属烤瓷内冠和贵金属冠的打磨
第七节 磨光、抛光工艺技术
(4)抛光 (4)抛光 用中粒度和细粒度(200 300目 橡皮轮， 用中粒度和细粒度(200～300目)橡皮轮， (200～ 依次抛光，要求消除所有磨痕，直至金属 依次抛光，要求消除所有磨痕， 表面出现均匀的光泽，再用布轮加抛光膏 表面出现均匀的光泽， 抛光。其中义齿支架应先电解抛光，再按 抛光。其中义齿支架应先电解抛光， 上面各步进行抛光。 上面各步进行抛光。 (5)清洁铸件 (5)清洁铸件
1.确定共同就位道 1.确定共同就位道 2.安放固定针 2.安放固定针 3.制作牙冠蜡型 3.制作牙冠蜡型 4.研磨蜡型 4.研磨蜡型 (1)采用方形刻蜡刀，用低转速、 (1)采用方形刻蜡刀，用低转速、轻压力对 采用方形刻蜡刀 蜡型进行研磨。 蜡型进行研磨。 (2)采用圆形刻蜡刀，连接蜡刀加温装置， (2)采用圆形刻蜡刀，连接蜡刀加温装置， 采用圆形刻蜡刀 使刻蜡在一定的温度之下进行。调定的 使刻蜡在一定的温度之下进行。 温度要刚好能使蜡发生熔解。 温度要刚好能使蜡发生熔解。
5.制作研磨块 5.制作研磨块 6.研磨 6.研磨 7.抛光 7.抛光 8.舌侧支撑的蜡型制作 8.舌侧支撑的蜡型制作 在舌侧支撑凹中完成舌侧支撑的蜡型制作。 在舌侧支撑凹中完成舌侧支撑的蜡型制作。 9.义齿制作 9.义齿制作
四、研磨的注意事项
(一)模型的固定与安装刀具 (二)研磨仪的转速控制 1.切削蜡型时，研磨仪的转速控制在3000rpm 1.切削蜡型时，研磨仪的转速控制在3000rpm。 切削蜡型时 3000rpm。 2.研磨金属件的转速应控制在5000-15000rpm， 2.研磨金属件的转速应控制在5000-15000rpm， 研磨金属件的转速应控制在5000 也可根据研磨仪的性能作适当调整。 也可根据研磨仪的性能作适当调整。
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材料无论软硬都要经过粗磨、细磨、抛光、腐蚀的过程。
砂纸由干砂纸和水砂纸，一般选择水砂纸，也可以根据自己的情况选择。
选砂纸的时候看砂纸的厚薄，一定不能太薄，还有就是沙粒的牢固程度、分布是否均匀。
干砂纸，是在进行磨光时使用的；而水砂纸就是在清水的冲洗下进行磨光，一般是在磨光机上使用。
砂纸的型号越大越细，越小越粗。
一般称目或者号。
号是指磨料的粗细及每平方英寸的磨料数量，号越高，磨料越细，数量越多。
目数的含义是在1平方英寸的面积上筛网的孔数，也就是目数越高，筛孔越多，磨料就越细。
常用的为：80，100，120，150，180，220，280，320，400，500，600 精细打磨细的为：800，100，1200，1500，2000，2500，3000。
一般钢铁材料用280、320、400、500、600这五个粒度的砂纸进行细磨即可。
磨制主要看你磨光时的划痕是不是细，越细抛光所需的时间就越多。
一般应从粗到细经四道砂纸的磨光，前平推、提起、拉回、再向前平推三个基本动作。
机械磨光可采用水砂纸磨光和蜡盘磨光。
蜡盘磨光：把硬蜡熔化后浇铸在磨光盘上，待其凝固后表面用刀具削平，形成有一定硬度的磨粒支承面。
磨光时把混合刚玉或碳化硅配制成悬浮液均匀滴洒在蜡盘上，或者把磨粒制成糊状，粘在试样表面，在蜡盘上磨光。
蜡盘磨光速度快，磨光样品从中心到边缘平整，夹杂物不易拖拽，表面变形层小。
不同粒度的磨粒配以硬脂酸、油酸、碳酸钠和煤油等合成剂便可制成磨光膏。
磨光膏磨光：磨光膏磨粒是氧化铝和氧化铬（也有采用碳化硅的）。
把磨光膏的磨削原理如下：金相磨面在空气中因氧化而形成一层很薄的氧化膜，膜受到硬脂酸及油酸的作用使它粘性变大，磨面凸出部分的粘性膜随即仍然完好无损。
被撕破膜部分的金属暴露于空气中又再次形成氧化膜。
如此被磨光盘上的抛光布粘住。
由于盘在转动，膜被撕破，但磨面凹入部分的膜周而复始使金相磨面渐趋平整。
磨粒粒度大于100μm时的磨光称为粗磨，粒度在10～100μm之间可看成
是细磨，当磨粒粒度小于10μm时的磨削过程就叫抛光。
机械抛光是当前应用最广的抛光方法．它是在专门的金相试样抛光时对金属表面的滚压作用来完成的。
细磨后的试样经冲洗(为避免粗磨粒带入机上进行的。
机械抛光是依靠磨粒刃口对金属表面的磨削作用以及磨粒滚动抛光工序)后，将其磨面轻轻地置于抛光盘上进行抛光。
抛光用的织物可以用粘结剂粘在抛光盘表面，也可用套圈箍紧在抛光盘上。
织物的作用是保存抛光粉，储存润滑剂，摩擦磨面使之光亮。
抛光粉有不同的粒度，分成W7、W5、W3、W2、W1.5、W1.0、W0.5、W0.25等(W7表示最粗磨粒直径为7μm、W0.5为0.5μm，其余类推。
作抛光粉的材料很多，常用的品种有：氧化铝、氧化镁、氧化铬、氧化铁和金刚石粉等。
它们不仅具有不同的粒度，而且硬度也不同。
抛光是一道精细又富有实践技巧的工序，不同材质的金相试样应配合不同的抛光条件和参数(如抛光粉、抛光织物种类和抛光盘转速的选择等)才能获得光滑如镜、没有磨痕的抛光表面。