曝光原理与曝光机介绍高启清
曝光原理与曝光机
曝光原理与曝光机曝光原理是指在摄影中，通过适当的光线照射在感光材料上，使其暴露于光线下，从而形成影像的过程。
在摄影中，曝光是指控制光线进入相机，照射到感光材料上的过程。
曝光的主要目的是控制图像的亮度、对比度和色彩等参数，从而获得所需的影像效果。
曝光原理有三个基本要素：光圈、快门速度和感光度。
其中，光圈是相机镜头内能够控制的光线进入量的大小。
光圈的大小由光圈值表示，一般用"F数"来表示。
快门速度是相机内部控制快门的开关打开与关闭时间的长短，一般用秒为单位表示。
而感光度则是指感光材料对光线敏感的程度，一般用ISO值表示。
曝光机是实现曝光原理的设备，用于控制光线的进入量。
常见的曝光机包括相机、曝光仪、灯具等。
不同类型的曝光机有不同的功能和操作方式。
在摄影中，在确定了所要拍摄的场景和主题后，摄影师需要根据所需的影像效果来决定曝光的参数。
首先是选择适当的光圈，根据拍摄对象和光线条件来调整光圈大小。
光圈越大，光线进入量越大，图像就会更亮；光圈越小，光线进入量越小，图像就会更暗。
其次是选择适当的快门速度，根据拍摄对象的运动状态来决定快门速度的长短。
快门速度越快，快门打开时间越短，图像就会更清晰；快门速度越慢，快门打开时间越长，图像就会更模糊。
最后是选择适当的感光度，根据光线条件来调整感光度的大小。
感光度越高，图像就会更亮，但同时也容易产生噪点；感光度越低，图像就会更暗，但同时也会减少噪点。
总之，曝光原理是摄影中非常重要的基础知识，掌握曝光原理和曝光机的使用方法，能够帮助摄影师更好地控制光线，并获得所需的影像效果。
曝光原理与曝光机介绍
定期保养
按照制造商的推荐，定期对曝 光机进行全面的保养和维护， 以保证其正常运行和使用寿命
。
曝光机常见故障及排除方法
原稿不曝光
检查原稿是否放置平整，确保无遮挡； 检查曝光机的光源是否正常工作。
曝光过度或不足
调整曝光机的曝光参数，根据原稿的 材质和厚度等因素进行适当调整。
量。
通过合理的曝光控制，可以 获得具有高分辨率、高对比 度和高色彩还原度的图像或
文字。
在科学研究和技术应用中，曝 光原理也具有广泛的应用，如 生物显微成像、天文观测和微
电子制造等。
曝光原理的应用领域
摄影
在摄影中，曝光原理用于将景物转化为照片，通过调整曝 光时间和光圈大小等参数，可以获得不同效果的照片。
ERA
曝光机的结构
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0紫外灯、激光等。
反射镜和透镜系统
控制光束的方向和聚焦，确保 光束准确投射到掩模版上。
掩模版
承载电路图形，使光束通过或 阻挡。
工作台
承载硅片或玻璃基板，进行精 确的平移和旋转。
曝光机的工作原理
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光源发出的光束经过反射镜和 透镜系统的控制，投射到掩模
设置曝光参数
根据原稿的材质、厚度等因素， 调整曝光机的曝光时间和光源 亮度等参数。
取出原稿
曝光完成后，取出原稿，注意 避免触碰原稿表面，以免影响 曝光效果。
曝光机的维护保养
清洁机身
定期使用干燥的软布擦拭曝光 机表面，保持机身清洁。
检查光源
定期检查曝光机的光源是否正 常，如有损坏应及时更换。
《曝光机要点技术》课件
机械故障表现为运动部件异常、卡滞或磨损；电路故障表现为电源故障、传感器故障或控制电路故障；软件故障表现为程序崩溃、数据传输错误或系统更新失败。解决方案包括定期维护保养、检查更换损坏部件、修复电路故障和更新软件系统等。
总结词
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CHAPTER
曝光机维护与保养
每天使用柔软的干布擦拭曝光机表面，保持清洁。
详细描述
高精度和高分辨率的曝光机需要采用先进的曝光技术，如光学曝光、电子束曝光等，同时还需要采用精密的制造工艺，如超精密加工、纳米加工等，以确保设备的稳定性和可靠性。
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总结词：高效能和稳定性是曝光机发展的另一个重要趋势。详细描述：高效能的曝光机能够提高生产效率，降低生产成本，而高稳定性的曝光机能够保证设备的长期可靠运行，减少维护和维修成本。为了实现高效能和稳定性，需要采用先进的控制系统和精密的部件。总结词：高效的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制。详细描述：先进的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制，从而提高设备的加工效率和精度。同时，高效的控制系统还能够实现设备的自动化和智能化，进一步提高设备的生产效率和稳定性。
总结词：智能化和自动化已经成为现代曝光机的重要特征。详细描述：智能化和自动化的曝光机能够实现自动化加工、智能化检测和故障诊断等功能，从而提高设备的生产效率和可靠性。智能化和自动化的曝光机还能够减少人工干预，降低人为因素对设备精度和稳定性的影响。总结词：为了实现智能化和自动化，需要采用先进的人工智能技术和传感器技术。详细描述：先进的人工智能技术能够实现设备的自适应控制和自主学习，从而提高设备的智能化水平。传感器技术则能够实现设备的实时监测和故障预警，进一步提高设备的可靠性和稳定性。
曝光机原理
曝光机原理曝光机是一种用于从曝光时间到连续曝光操作的仪器，常被利用用于摄影、印刷图像处理、电动设备等领域。
它主要由控制器、曝光裁剪器、光源和视觉显示器组成，它可以实现对图像的预处理、层次化处理和组合处理，使对曝光时间、光强、颜色等参数的控制更加精确准确，并且可以根据物理现象的特点自动调整曝光参数，从而实现在摄影、印刷中较好的图像效果和高精度的印刷产品。
究其根本，曝光机的原理是控制图像的曝光时间，以达到控制图像的明暗度和对比度的目的，进而决定图像的效果。
曝光机是一种时间控制装置，其作用是控制照片曝光时间，使曝光时间与控制装置中设定的值保持一致，从而实现摄影图像质量的合理控制。
曝光机的主要原理是控制曝光时间，它在控制中心的控制下，通过检测光控制器的曝光裁剪信号，将曝光时间控制到指定的精度，从而实现对光强、颜色和图像明暗度的精确控制。
曝光机可以根据物理现象的特点自动调整曝光参数，从而获得更好的图像效果和高精度的印刷产品；同时它还能实现对图像的预处理、层次化处理和组合处理，使曝光时间、光强、颜色等参数更加精确准确。
曝光机可以用于摄影、印刷图像处理、电动设备等多种领域，在这些领域中，曝光机的使用给日常生活和工作等方面带来了很多便利，也为摄影、印刷等方面的实现更好的成果带来了极大的帮助。
曝光机的主要原理是控制曝光时间，它可以实现对图像的预处理、层次化处理和组合处理，从而使曝光时间、光强、颜色等参数更加精确准确，使摄影、印刷图像更加准确、美观，从而获得更好的图像效果和高精度的印刷产品。
它可以自动调整曝光参数和控制图像的明暗度和对比度，为复杂的高精度图像处理提供了有力的支持，可以为摄影、印刷等方面所需做出更好的贡献。
总之，曝光机是一种具有很强功能的控制装置，它可以对图像的曝光时间、光强、颜色等参数进行精确的控制，为摄影、印刷等领域提供了便利，也使得更复杂多变的摄影、印刷效果更加准确和美观。
曝光
B.平行光光路图
1. 設備外觀
设备组成
灯泡及灯罩
反射镜
光线整合器
平行光反射镜
曝光光线走势简易图
球面反射镜 灯 反射镜
复眼 绿油 冷光镜 Panel
补充： 曝光对位方法、均勻性、曝光尺的应用 补充： 曝光对位方法、均勻性、 对位方法 1.曝光对位有两种方法：安分法、MMD 曝光对位有两种方法 安分法、
曝光培训资料
2011.08.20 苏 春 齐
学习项目
一、曝光目的 二、曝光流程 三、曝光原理 四、SOP(Standard
operation process)即作
业标准书
•
、
光 ： 光 连锁 ， 碱。
焊 ，
线 ， 时 焊
∗ 简言之
♣ 目的：影像转移 ♣ 主要设备：曝光机 ♣ 制程要点： A 曝光机的选择 B 能量管理 C
平行光
非平行光
油墨
5
根据波的长短及波源的不同，电磁波谱可大致分为：
（1）无线电波——波长从几千米到0.3米左右，一般的电视和无线电广播的波段就是用这 种波； （2）微波——波长从0.3米到10-3米，这些波多用在雷达或其它通讯系统； （3）红外线——波长从10-3米到7.8×10-7米；红外线的热效应特别显著； （4）可见光——这是人们所能感光的极狭窄的一个波段。可见光的波长范围很窄，大约在 7600 ～4000（在光谱学中常采用埃作长度单位来表示波长，1＝10－8厘米）、从可见光向两边 扩展，波长比它长的称为红外线，波长大约从7600直到十分之几毫米。波长从（78～3.8） ×10-6厘米。光是原子或分子内的电子运动状态改变时所发出的电磁波。由于它是我们能够直 接感受而察觉的电磁波极少的那一部分； （5）紫外线——波长比可见光短的称为紫外线，它的波长从3×10-7米到6×10-10米，它 有显著的化学效应和荧光效应。这种波产生的原因和光波类似，常常在放电时发出。由于它的 能量和一般化学反应所牵涉的能量大小相当，因此紫外光的化学效应最强； 红外线和紫外线都是人类看不见的，只能利用特殊的仪器来探测。无论是可见光、红外线 或紫外线，它们都是由原子或分子等微观客体激发的。近年来，一方面由于超短波无线电技术 的发展，无线电波的范围不断朝波长更短的方向发展；另一方面由于红外技术的发展，红外线 的范围不断朝波长更长的方向扩展。日前超短波和红外线的分界已不存在，其范围有一定的重 叠。
AMOLED与LCD都需要的核心工艺设备曝光机，有几个了解这么多……
AMOLED与LCD都需要的核心工艺设备曝光机，有几个了解这么多……一般光刻在显示领域主要在TFT和CF制程上，光刻的流程分为：上光阻→曝光→显影→显影后检查→CD量测→Overlay量测。
而在整个流程中，今天OLEDindustry 重心来讲讲曝光这段核心工艺及其设备。
曝光，简单点说，就是通过光照射光阻，使其感光。
然后通过显影工艺将曝光完成后的图形处理，以将图形清晰的显现出来的过程。
而整个光刻工艺，则是将图形从光罩上成象到光阻上的过程。
曝光机的原理谈到曝光，那必不可少就要谈到曝光机。
目前大部分曝光设备采用的是非接触式曝光。
原理是紫外光经过MASK对涂有光刻胶的ITO 玻璃曝光，曝光后的玻璃经显影产生与mask板相同的图案。
在曝光显影时, 其曝光系统有一个基本的关系:其中R为最小特征值, 即分辨率的最小距离。
k1 为常熟(瑞利常数)。
λ为曝光光源波长。
NA为透镜的数值孔径, 是光罩对透镜张开的角度的正玹值。
该值最大是1; 先进的曝光机的NA 在0.5 ~ 0.85之间。
可见为了减小最小特征尺寸, 则必须减小曝光光源波长和提高NA值。
ASML最新推出的EUV光刻胶, 可以把波长虽短到13.5 nm。
但是整个光刻活动都在真空环境, 则生产速率较低。
如果采取x-ray。
虽然x-ray波长只有4 ~ 50 , 但是因为其能穿透大部分掩模版切对应光刻胶开发难度较大, 该技术一直没有被采用。
为了在不改变曝光系统的前提下提高NA而改善R值, 可采取的方法有:（1）改变接近式曝光机中镜头和光刻胶的介质, 将其从空气换成其他材料。
通过该方式改变NA值可以是的193 nm技术在满足45 nm工艺节点制程要求的同时, 进一步提高到28 nm制程。
（2）如果将接近式配合二重曝光相想结合, 可以进一步将制程节点缩小到22 nm, 且工艺节点缩小到10 nm。
显示制造中的曝光技术在TFT-LCD的生产中, 根据制作原件的不同其采取的曝光方式也不相同:CF: 主要采取接近式曝光, 其掩模板与基板间距为10 μm左右。
曝光机要点技术概述
曝光机要点技术概述曝光机是一种用于制作印刷品的设备，在印刷工业中起着至关重要的作用。
它通过将光线投射到印刷版上，使其暴露出图像或文字，并进行后续的印刷加工。
下面将从曝光机的原理、种类、主要技术参数、应用领域等方面进行详细的技术概述。
一、曝光机的原理曝光机的基本原理是利用光照射到印刷版上，使光敏材料发生化学反应，形成图像或文字。
曝光机通常由曝光光源、曝光台、曝光材料以及控制系统等组成。
在曝光过程中，光源会发射出特定波长的光线照射到印刷版上，使其上的光敏材料发生化学变化，它们可以是光敏胶版、屏幕印刷网版或直接接触印刷版等。
曝光机通过控制光源的强弱、时间和曝光方式等参数，来实现图像的精确控制和调节。
二、曝光机的种类根据曝光方式的不同，曝光机可以分为直接曝光机和间接曝光机两种。
直接曝光机是将光线直接照射到印刷版上，可以快速、高效地完成曝光过程。
而间接曝光机则需要通过间接介质来传递光线，如光学镜头或光纤传输，它一般用于对印刷版进行高精度、高分辨率的曝光。
三、曝光机的主要技术参数1. 曝光能量密度：曝光机能够提供的能量密度是评估其曝光效果的重要指标。
通常以焦耳/cm²为单位来表示。
2.曝光时间：曝光机的曝光时间是指光线照射到印刷版上的时间长度。
曝光时间的长短直接影响到图像的清晰度和分辨率。
3.曝光波长：曝光机可提供的光线波长范围，这对于不同的光敏材料是非常重要的。
4.分辨率：曝光机的分辨率指的是其能够生成的最小线宽或最小点尺寸。
分辨率越高，图像越细腻。
5.灰度范围：曝光机的灰度范围指的是图像可以表示的不同灰度级别的数量。
灰度范围越大，图像显示的层次感越丰富。
四、曝光机的应用领域曝光机在印刷工业中应用广泛，特别是在平面印刷、丝网印刷、数字印刷和印刷制版等方面。
它在电子行业中也有重要的应用，如PCB印刷电路板的制作，碳膜电阻的曝光制造等。
总之，曝光机作为印刷行业的重要设备，其技术概述涵盖了曝光机的原理、种类、主要技术参数和应用领域。
曝光原理与曝光机介绍
曝光原理与曝光机介绍曝光是摄影的基本概念之一，在摄影中起到至关重要的作用，可决定照片的亮度、对比度和色彩饱和度等要素。
曝光正确与否直接关系到照片的质量和效果。
而曝光机作为曝光的工具，主要用于控制摄影过程中的曝光时间和光源强度，从而影响照片的曝光效果。
在本文中，将详细介绍曝光原理以及常见的曝光机。
曝光原理曝光是指在摄影过程中，将胶片或数码传感器通过光线暴露于光源下的时间长度。
曝光时间的长短直接影响到照片的明暗程度，时间越长，照片越亮；时间越短，照片越暗。
曝光强度则与光线的强弱有关，光线越强，照片越亮；光线越弱，照片越暗。
因此，在摄影过程中，通过调整曝光时间和光源强度，可以控制照片的明暗程度，从而获得理想的曝光效果。
曝光机介绍曝光机是用于控制曝光时间和光源强度的设备。
它可以通过机械或电子的方式控制曝光时间和光源强度的变化，使得摄影过程中得到准确的曝光效果。
以下是一些常见的曝光机：1.快门曝光机快门曝光机是最基本的曝光控制设备之一、它通过控制快门的开闭时间来控制曝光时间的长短。
在摄影机中，快门是一块位于镜头前方的遮光板，通过快门机构的机械开关控制曝光时间。
快门曝光机既可以手动控制曝光时间，也可以通过自动曝光系统来自动调节曝光时间。
2.光源控制装置光源控制装置是一种用来控制光线强度的曝光机。
它主要通过控制光源的强度来调节曝光效果，常见的光源控制装置有补光灯和闪光灯。
补光灯可以通过增加光源的亮度来提高照片的曝光度，特别适用于低光环境下的拍摄。
而闪光灯则是利用电容器储存电能，通过放电来产生强光，达到照亮拍摄对象的目的。
3.自动曝光系统自动曝光系统是现代摄影中常用的曝光机。
它通过内置的光电测光器采集背景光线强度，并根据选择的曝光模式自动调节快门速度和光源强度，使得照片的曝光效果符合预期。
常见的自动曝光模式包括光圈优先模式、快门优先模式和程序自动曝光模式。
总结曝光在摄影中是一个非常重要的概念，可以通过调整曝光时间和光源强度来控制照片的明暗程度。
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– 加熱均勻性 – 溫度補充特性
• 熱壓輪壓力
– 熱壓輪壓力均勻性
• 穩定速度控制 • 更細線路→更薄光
阻 (0.6 mil 乾膜) • 膜皺、膜屑防止 • 薄板壓膜適用性 • 設備產塵量控制
能量對光阻聚合影響
曝光能量與最佳解析度關係
• 以乾膜曝光而言，為得到最佳乾膜解析能力， 曝光能量有10% 的容許區間，這也是對能量 均勻度的要求
– 底片安裝方式
• 檯面底片吸真空
– 對位機構
• X-Y-Y, X-Y-
• 製程板傳送系統
– 進料靠邊 – 移載
自動曝光機架構 - 外層曝光
• 曝光系統
– 單面曝光- 雙面曝光 – 水平曝光- 垂直曝光 – 散射光 - 平行光 – 曝光檯框種類
• 上下框 - 單面框 • 玻璃框 - 壓克力框
– 單燈 - 雙燈
自動內層型 UVIA-5KD
自動CCD對位型 UVOA-5KD
自動曝光設備
自動曝光機架構 - 內層曝光
• 曝光系統
– 雙面曝光 – 水平曝光 – 散射光 - 平行光 – 曝光檯框種類
• 上下框 • 可掀式框 • 玻璃框
– 單燈 - 雙燈
• 底片對位系統
– 內層雙面底片對底片 – 對位方式
• 曝光區內對位
• 負型光阻
– 感光聚合，形成高分 子顯像時不會溶解
– 有殘足問題
光阻感光聚合過程
紫外線照射 UV Radiation
啟始劑裂解 Photoinitiator
自由基轉移 Transfer Free Radical
出現自由基 Free Radical R’
單體吸收自由基
形成聚合體
顯像
Monomer + R’
Capillary: 毛細燈 線路曝光用/ 5 Kw
各種UV燈管光譜分佈比較
水銀燈 光阻聚合365nm 汞氙燈
金屬鹵化物燈
毛細燈
線路曝光作業的考量因素
利用UV聚合作用將線路內容精確移轉至光阻上
• 作業要求
• 達到最佳光阻解析能力
– 底片尺寸穩定
– 曝光能量↑時，解析度↓
– 提高光阻與銅面附著力 – 曝光顯像後光阻側壁垂
迫緊
14390061 漏氣或老化時
MYLAR
B4100024 刮傷或過體清潔無效時
按鈕開關
依開關 故障時更換
油水過濾濾心 53400008 一年或2500 小時
手動曝光機操作畫面
H IT E C H
第一組: 上燈:
上框.
下燈:
上燈:
下框.
下燈:
設定值
＃＃＃ ＃＃＃ ＃＃＃ ＃＃＃
現在值
＃＃＃ ＃＃＃
直且殘足短
• 光阻種類
– 乾膜(壓膜機) – 濕膜(滾塗/浸塗)
– 曝光能量↑時，聚合確的能量控制
– Off Contact↑時，解析度↓ →提高底片與板面真空密 貼程度
乾膜壓膜設備的考量因素
最佳的貼合效果 ─ 溫度、壓力及速度的配合
• 預熱
– 加熱銅面而非底材
防焊曝光機 UVE-7K
• 7KW金屬鹵化物燈 • 有效範圍: 810 x 610 •均勻度:85% • Mylar 對玻璃雙檯框 •人機界面操作
– 檯框獨立能量控制 – 故障點顯示 – 檯面自動電磁鎖 – 真空度不足時不曝光
7 KW 曝光機燈管水套結構
7 KW 曝光機定期保養項目
品
名料
號
更換時機
＃＃＃ ＃＃＃
F1
F2
F3
F4
強度
＃＃＃ ＃＃＃ ＃＃＃ ＃＃＃ 狀態指示區
F5
S /C
→
＋
－
平行光系統
散射光對曝光影響
平行半角與斜射角
積光器 (Integrator)
反射鏡 (Reflection Mirror)
平行光曝光系統
冷鏡 (Dichroic Mirror)
曝光照射面 (Exposure Surface)
曝光製程 - 外層
• 外層曝光
– 抗電鍍 – 光阻塗佈
• 壓膜 Dry Film Lamination
– 乾膜：壓膜→曝光→顯像→電鍍→剝膜 膜厚 1.3, 1.5 mil
曝光製程 - 防焊
• 防焊曝光
– 保護銅面 – 塗佈
• 網印 Flood Screen Printing • 簾塗 Curtain Coating • 噴塗 Spray Coating
24“ x 21” / 610 x 535 mm •雙面同時曝光 •玻璃對玻璃檯框 •檯面吸真空曝光 • HEPA系統 • 人機界面操作 • CCD自動對位系統
全球自動曝光機一覽
日本 ORC 與 ADTEC 自動曝光機
• 內層曝光
– L/S 1.5 mil – 對位精度:
20 m
• 外層曝光
• 製程板傳送系統
– 進料靠邊 - 定中心 – 製程板移載 – 底片框移載
• 底片對位系統
– 外層底片對製程板 – 對位方式
• 雙面對位 - 單面對位 • 曝光區外 - 曝光區內
– 底片安裝方式
• 檯面底片吸真空 • 檯面底片貼膠帶
– 對位機構 – CCD 個數 – 對位靶孔
自動曝光機架構 - 防焊曝光
• Soft Contact Exposure 底片與板面密貼但
不吸真空，平行光可用。
• Hard Contact Exposure 底片與板面密貼且吸真 空，散射光一定要用
手動曝光設備
手動散射光曝光機
線路曝光機 UVE-5K
• 5KW毛細燈 • 有效範圍: 740 x 610 •均勻度:85% • Mylar 對玻璃雙檯框 •人機界面操作
• 曝光系統
– 單面曝光- 雙面曝光 – 水平曝光 – 散射光 – 曝光檯框種類
• 上下框 - 單面框 • 玻璃框 - 壓克力框
– 雙燈
• 製程板傳送系統
– 進料靠邊 - 定中心 – 製程板移載
• 底片對位系統
– 防焊底片對製程板 – 對位方式
• 雙面對位 - 單面對位 • 曝光區外 - 曝光區內
– 底片安裝方式 – 對位機構 – CCD 個數 – 對位靶孔 - 對位 Pad
平行反射鏡 (Collimation Mirror)
橢圓集光器 (Collector)
點光源短弧燈 (Short Arc Lamp)
• 平行光源: 5KW汞氙短弧燈 • 平行半角(CHA): 1.5 • 斜射角(DA) < 1
平行光曝光燈源-汞氙短弧燈
光阻聚合365nm
G line: 436 nm H line: 405 nm I line: 365 nm
– L/S 1.5 mil – 對位精度:
10 m
• 防焊曝光
– 對位精度: 10 m
Source: www.o-r-c.de /
本單元結束
– 塗佈→預烤→曝光→顯像→UV硬化→後烘烤 約1 mil厚，能量 400~600 mj/cm2
– 曝光時需抽真空使底片密貼板材並隔絕氧氣使聚合 反應加速完成
各種 UV 曝光燈管
Long Arc: 水銀燈/金屬鹵化物燈 Short Arc:汞氙短弧燈
防焊曝光用/ 7, 8, 9, 10 Kw
平行光曝光用/ 3.5, 5, 8 Kw
UV 曝光測量單位
• UV強度(照度)單位 watt/cm2, milli-watt/cm2
– Intensity (Irradiance) – 製程所需UV強度常不明確
• UV能量(劑量)單位 joule/cm2, milli-joule/cm2
– Energy (Dose) – 所接受能量與時間有關 – 在 1 mw/cm2 下照射 1 秒 = 1 mj/cm2 – 強度對時間曲線下面積 – 是一般常給的操作參數
曝光原理與曝光機
2000/6/1
課程綱要
• 曝光原理 • 手動線路曝光設備 • 手動防焊曝光設備 • 平行光系統 • 自動曝光設備
線路影像移轉方式的演進
• 雷射直接成像 LDI(2 mil)
• 平行光曝光(2 mil)
• 散射光曝光(5 mil)
?
• 印刷(8 mil)
曝光原理
光阻劑種類
• 乾膜光阻 Dry Film
– Dupont Riston 17格、 Riston 25格
– Stouffer 21格、 Stouffer 41格
– Kodak (No.2) 21格
– Hitachi Photec 21格
– 以Riston17為例，每格增 加12%光密度。
吸真空對曝光影響
• Off Contact Exposure 只有平行光可用
燈管
依燈管型號點燈7000次
水套
15510003 更換水套時
O-RING 4D122002 更換水套時
離子過濾罐7Z100001 3個月或720小時
冷卻水 自選
3個月或720小時
玻璃
15695021 刮傷或過髒清潔無效時
迫緊
14390061 漏氣或老化時
MYLAR B4100024 刮傷或過髒清潔無效時 按鈕開關 依開關 故障時更換
自動曝光機架構 - 通用項目
• 傳動系統
– 伺服馬達傳動 – 薄板傳送
• 環境控制
– 溫度 – 濕度 – 無塵度
• 控制系統
– 機台動作 - PLC – 自動對位 - PC, Module – 操作介面 - 人機, 電腦
自動對位機構及CCD靶標
X
Y1
Y2
外層自動曝光機 UVOA-5KD