清华大学2007年电子显微分析期末考试试题
电子显微分析试题集-推荐下载

下表为与该体心立方物相对应的表格的一部分。
K
U VW
H1 K1 L1
H2 K2 L2
R2/R R3/R1
FAI D1 D2
1
1 1 1 1 0 1 -1
-1 0 1
1.00 1.000
120.00 2.744 2.744
0
4 1 0 0 0 -1 -1
0 1 -1
1.00 1.414
90.00 2.744 2.744
的波长为 0.0197 埃),相机长度 100cm,理论相机常数为 19.7mm.Ǻ.请先标定该铜晶体的花样, 并校正该电镜在相机长度为 100cm 时的相机常数(该电镜由于多年没有校正相机常数,实际值与理 论值相差可能比较大)。附表为与铜晶体有关的衍射谱的几何特征表。
对全部高中资料试卷电气设备,在安装过程中以及安装结束后进行高中资料试卷调整试验;通电检查所有设备高中资料电试力卷保相护互装作置用调与试相技互术关,系电通,力1根保过据护管生高线0产中不工资仅艺料可高试以中卷解资配决料置吊试技顶卷术层要是配求指置,机不对组规电在范气进高设行中备继资进电料行保试空护卷载高问与中题带资22负料,荷试而下卷且高总可中体保资配障料置各试时类卷,管调需路控要习试在题验最到;大位对限。设度在备内管进来路行确敷调保设整机过使组程其高1在中正资,常料要工试加况卷强下安看2与全22过,22度并22工且22作尽2下可护1都能关可地于以缩管正小路常故高工障中作高资;中料对资试于料卷继试连电卷接保破管护坏口进范处行围理整,高核或中对者资定对料值某试,些卷审异弯核常扁与高度校中固对资定图料盒纸试位,卷置编工.写况保复进护杂行层设自防备动腐与处跨装理接置,地高尤线中其弯资要曲料避半试免径卷错标调误高试高等方中,案资要,料求编5试技写、卷术重电保交要气护底设设装。备备4置管高调、动线中试电作敷资高气,设料中课并3技试资件且、术卷料拒管中试试调绝路包验卷试动敷含方技作设线案术,技槽以来术、及避管系免架统不等启必多动要项方高方案中式;资,对料为整试解套卷决启突高动然中过停语程机文中。电高因气中此课资,件料电中试力管卷高壁电中薄气资、设料接备试口进卷不行保严调护等试装问工置题作调,并试合且技理进术利行,用过要管关求线运电敷行力设高保技中护术资装。料置线试做缆卷到敷技准设术确原指灵则导活:。。在对对分于于线调差盒试动处过保,程护当中装不高置同中高电资中压料资回试料路卷试交技卷叉术调时问试,题技应,术采作是用为指金调发属试电隔人机板员一进,变行需压隔要器开在组处事在理前发;掌生同握内一图部线纸故槽资障内料时,、,强设需电备要回制进路造行须厂外同家部时出电切具源断高高习中中题资资电料料源试试,卷卷线试切缆验除敷报从设告而完与采毕相用,关高要技中进术资行资料检料试查,卷和并主检且要测了保处解护理现装。场置设。备高中资料试卷布置情况与有关高中资料试卷电气系统接线等情况,然后根据规范与规程规定,制定设备调试高中资料试卷方案。
电子显微技术试题

电子显微技术一、名词解释1.数值孔径2.景深与焦长3.齐焦4.像差5.色差6.电子探针二、选择题1.适于观察细胞复杂网络如内质网膜系统、细胞骨架系统的三维结构的显微镜是( )A.普通光学显微镜B.荧光显微镜C.相衬显微镜D.激光扫描共聚焦显微镜2. 下面对透射电镜描述不正确的是( )A.利用泛光式电子束和透射电子成像B.观察细胞内部超微结构C.发展最早,性能最完善D.景深长、图像立体感强3. 电子散射少、对样品损伤小、可用于观察活细胞的电子显微镜是( )A.普通透射电镜B.普通扫描电镜C.超高压电镜D.扫描隧道显微镜4. 物象在低倍镜(10X)下清晰可见,换高倍镜(40X)后看不见了,这是因为( )A.玻片放反了B.高倍物镜故障C.物象不在视野正中央D.焦距没调好5. 用于透射电镜的超薄切片厚度通常为( )A.50 nm ~100nmB.0.2μmC.10μmD.2nm6. 关于扫描隧道显微镜(STM),下列叙述错误的是( )A.STM是IBM苏黎世实验室的Binnig等人在1981年发明的B.可直接观察到DNA、RNA和蛋白等生物大分子C.仅可在真空条件下工作D.依靠一极细的金属针尖在标本表面扫描来探测标本的形貌7. 下面哪一种措施与提高显微镜分辨能力无关( )A.使用放大倍率较高的目镜B.使用折射率高的介质C.扩大物镜直径D.使用波长较短的光源8. 透射电镜的反差取决于样品对( )的散射能力A.二次电子B.入射电子C.样品质量厚度D.样品性质9. 仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是( ) A.背散射电子B.二次电子C.吸收电子D.透射电子10. 透射电镜所具有的特征有( )A.分辨率高B.放大倍数高C.成像立体感强D.标本须超薄11. 电子枪产生的电子是( )A.入射电子B.俄歇电子C.弹性散射电子D.二次电子12. 电镜标本制备时常用的固定剂有( )A.锇酸B.戊二醛C.丙酮D.过碘酸13. 下面属于超高压电子显微镜的优点的是( ) A.可用于观察厚切片B.可以提高分辨率C.可提高图像质量D.减少辐射损伤范围14. 二次电子检测系统不包括( )A.收集体B.显像管C.闪烁体D.光电倍增管15. 扫描电镜的反差是由( )决定的A.吸收电子产率B.反射电子产率C.二次电子产率D.特征X射线产率三、判断题1.1938年,俄国工程师Max Knoll和Ernst Ruska制造出了世界上第一台透射电子显微镜(TEM)。
清华大学仪器分析试题D (1)

清华大学化学专业《仪器分析》期末考试试题(D卷)姓名_________________学号________________班级________________________一、判断题(正确的在后面括号内打“√",错误的打“×”,每小题2分,共10分)1.提高分离电压是增加毛细管电泳分离效率的主要途径,只要提高分离电压任何难分离物质对都可获得分离。
这也是毛细管电泳应用广泛的主要原因.()2.在核磁共振波谱分析中,测定13C比测定1H的灵敏度高,但13C谱的分辨率低()3.压力变宽引起中心频率偏移,温度变宽不引起中心频率偏移()4.恒阴极电位中,电解分析完成的时间取决于溶液的起始浓度()5.原子光谱分析中,共振线是指由第一激发态回到基态所产生的谱线,通常也是最灵敏线、最后线。
( )二、选择题(每小题2分,共20分)1.在色谱分析中,调整保留时间实际反映了___________之间的相互作用。
A.组分与流动相B.组分与固定相C。
组分与组分D。
流动相与固定相2.在长1m的色谱柱上测得两组分的分离度为0。
75,若要使两组分完全分离,则柱长应为______ A。
0.5m B。
1。
5m C. 2m D。
4m3。
分子外层电子吸收辐射能跃迁到激发态,再通过无辐射弛豫方式转入最低三重态,然后跃迁回到基态各个振动能级,产生光辐射,这种发光现象称为________.A.分子磷光B.分子荧光C。
化学发光D。
生物发光4.玻璃电极的膜电位_________.A。
随溶液中氢离子活度的增高向负方向移动 B. 随溶液中氢离子活度的增高向正方向移动C。
随溶液中氢氧根离子活度的增高向正方向移动D。
随溶液pH的增高向正方向移动5.严重限制经典极谱分析检测下限的因素是________________。
A。
电解电流B。
扩散电流 C.极限电流D。
充电电流6.与直流极谱相比,单扫描极谱大大降低的干扰电流是________.A。
2007-2008学年第一学期期末考试试题答案及评分标准

2007-2008学年第一学期期末考试试题答案及评分标准2007-2008学年第一学期期末考试试题答案及评分标准(A卷)MEMS工艺使用班级:05182401, 05182402, 05182403一.填空(20分)[每题2分]1、硅晶体的晶格长度为0.543 nm。
2、最常用的各向异性腐蚀液KOH溶液。
3、常用的CVD有APCVD 、LPCVD 和PECVD 三种。
4、薄膜的制造有CVD、氧化、外延等。
5、甩胶时,影响光刻胶厚度的因素有光刻胶的粘度、甩胶时间、转速等。
6、MEMS结构的几何深宽比定义深度与宽度之比。
7、干法腐蚀的主要形式有物理过程、化学过程和物理化学过程三种。
8、成本最贵的微加工工艺是LIGA工艺。
9、掺杂技术主要包括扩散和注入。
10、在氧化工艺中,(111)面的氧化速率大于(100)面的氧化速率。
二、选择题(20分)[每题2分]1、常用的光刻中的光源的波长范围是(B)(A)100~300nm ` (B)300~500nm (C)500~700nm2、纯单晶硅(B )(A)存在与自然,(B)用特殊的工艺生长出来,(C)电解出来的3、PSG代表(C )(A)多晶硅玻璃;(B)磷硅酸盐玻璃;(C)磷硅玻璃4、注入的外来物质在衬底表面下呈现(B )(A)均匀分布(B)不均匀,靠近表面的地方少(C))分布依赖于过程的温度。
5、扩散过程发生在(A)(A)高温下(B)室温下(C)低温下6、体制造主要涉及部分材料从基底上的(B )(A)增加;(B)减除;(C)既有增加也有减除7、在曝光后被溶解的光刻胶是(A)(A)正胶(B)负胶(C)正胶或负胶8、表面微制造中的牺牲层被用于(B )(A)强化微结构;(B)在微结构中产生必要的几何空间;(C)做为结构的部分9、DRIE代表(C )(A)干法腐蚀;(B)干法反应离子刻蚀;(C)深反应离子刻蚀10、硅/玻璃的阳极键合发生于(C )(A)高温下,(B)高温高压下,(C)高温和高电压下三、简答题(30分)[每题6分]1、光刻三要素指什么?光刻有哪三种方式?各有什么优缺点?光刻三要素:光刻胶、掩膜版和光刻机(2分)光刻有接触式、接近式、投影式三种方式(1分)接触式光刻:分辨率较高,容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。
清华大学仪器分析试题B(1)剖析

清华大学化学专业《仪器分析》期末考试试题(B卷)班级姓名学号成绩考试时间任课老师(签名)注:1.可以使用计算器;2.对于英语类试题,可以用汉语回答;3.答案写在试卷纸上,写在试题纸上无效。
一、单项选择题(每小题2分,共30分,答错不扣分)1.摄谱法中,感光板上的光谱,波长每10nm的间隔距离,在用光栅单色器时,下述哪一种说法正确()(1)随波长减少而增大(2)随波长增大而增加(3)随波长减小而减小(4)几乎不随波长变化2.矿石粉末的定性分析,一般选用下列哪种光源为好()(1)交流电弧(2)直流电弧(3)高压火花(4)等离子体光源3.原子吸收分析法中测定铷(Rb)时,加入1%钠盐溶液其作用是()(1)减少背景(2)提高火焰温度(3)减少铷电离(4)提高Rb+的浓度4.反应色谱柱柱型特性的参数是()(1)分配系数(2)分配比(3)相比(4)保留值5.对某一组分来说,在一定的柱长下,色谱峰的宽窄主要决定于组分在色谱柱中的()(1)保留值(2)扩散速度(3)分配比(4)理论塔板数6.在液相色谱中,常用作固定相,又可作为键合相基体的物质是()(1)分子筛(2)硅胶(3)氧化铝(4)活性炭7.下列化合物中,同时有n→π*,π→π*,σ→σ*跃迁的化合物是()(1)一氯甲烷(2)丙酮(3)1,3-丁二醇(4)甲醇8.指出下列四种化合物中,哪一种化合物的分子离子峰为奇数()(1)C6H6(2) C6H5NO2(3) C4H2N6O (4) C9H10O29.在极谱分析中,所谓可逆波指的是()(1)氧化波与还原波具有相同的半波电位(2)氧化波半波电位为正,还原波半波电位为负(2) 氧化波半波电位为负,还原波半波电位为正 (4)都不是10.阳极溶出伏安法可采用的电极是( )(1) 悬汞电极 (2)滴汞电极 (3)铂片电极 (4)玻璃电极11.Cu(EDTA)2-配合物的稳定常数是 6.3×1018, 已知V 337.0E 0C u/C u 2=+,则--+=+42Y )s (Cu e 2CuY 反应的标准电极电位为( )(1)0.219V (2) 0V (3)-0.219V (4) 0.337V12.某铜离子溶液通入0.500A 的电流28.7min, 如果电流效率为100%,则阴极上析出铜( )克(Cu:63.54)。
扫描电子显微分析题库

第二章 电子显微分析第四节 扫描电子显微分析1.扫描电镜的基本结构有哪几部分?答:① 电子光学系统:由电子枪、电磁透镜等部件组成。
电子光学系统主要用于产生一束能量分布极窄的、电子能量确定的电子束用以扫描成像。
② 扫描系统:提供入射电子束在试样表面以及显像管电子束在荧光屏上同步扫描的信号。
③ 信号探测放大系统:探测试样在入射电子束作用下产生的物理信号,然后经视频放大,作为显像系统的调制信号。
最主要的是电子探测器和X射线探测器。
④ 图像显示记录系统:包括显像管、照相机等,其作用是把信号探测系统输出的调制信号转换为在荧光屏上显示的、反映样品表面某种特征的扫描图像、供观察、照相和记录。
⑤ 真空系统;⑥ 电源系统。
2. 扫描电子显微分析的特点。
答:① 10~30mm的大块试样,制样简单;② 场深大,适于粗糙表面和断口,图像富有立体感和真实感;③ 放大倍率变化范围大: 10-15倍~ 20-30万倍;④ 适当分辨率:3-6nm;⑤ 可用电子学方法有效地控制和改善图像质量;⑥ 多功能组合分析(如微区成分等);⑦ 动态分析(加热、冷却、拉伸等)。
3. 扫描电镜主要性能指标是什么?试阐述。
答:扫描电镜的主要性能指标是放大倍数和分辨本领。
(1)放大倍数:如果入射电子束在试样上扫描幅度为l,显像管电子束在荧光屏上扫描幅度为L,则扫描电镜放大倍数(M)为 M=L/l;由于显像管荧光屏尺寸是固定的,因此只要通过改变入射电子束在试样表面扫描幅度,即可改变扫描电镜放大倍数,目前高性能扫描电镜放大倍数可以从20倍连续调节到200000倍。
(2)分辨本领:扫描电镜图像的分辨本领通常有两种表述方法。
一种是测量试样图像一亮区照中心至相邻另一亮区中心的距离,其最小值就是分辨本领。
另一种方法是测量暗区的宽度,其最小值为分辨本领。
4. 扫描电镜试样制备有哪些要求?请阐述之。
答:对试样的要求:(1)在真空中能保持稳定,含有水分的试样应先烘干除去水分,或使用临界点干燥设备进行处理。
电子显微分析试题集

材料结构分析一、名词解释:球差:球差是由于电磁透镜的中心区域和边沿区域对电子的会聚能力不同而造成的。
色差:由于入射电子波长(或能量)不同造成的。
景深:指在保持像清晰的前提下,试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离,或者说试样超越物平面所允许的厚度。
焦深(焦长):指在保持像清晰的前提下,像平面沿镜轴可移动的距离,或者说观察屏或照相底版沿镜轴所允许的移动距离。
分辨率:成像物体上能分辨出的两个物点的最小距离明场像:让投射束通过物镜光阑所成的像暗场像:仅让衍射束通过物镜光阑所称的像消光距离:符合布拉格条件时透射波与衍射波之间能量交换或强度振荡的深度周期。
菊池花样:在稍厚的薄膜试样中观察电子衍射时,经常会发现在衍射谱的背景衬度上分布着黑白成对的线条。
这时,如果旋转试样,衍射斑的亮度虽然会有所变化,但它们的位置基本上不会改变。
但是,上述成对的线条却会随样品的转动迅速移动。
这样的衍射线条称为菊池线,带有菊池线的衍射花样称之为菊池衍射谱。
衍射衬度:衍射衬度是由于晶体薄膜的不同部位满足布拉格衍射条件的程度有差异而引起的衬度双光束条件:假设电子束穿过样品后,除了透射束以外,只存在一束较强的衍射束精确地符合布拉格条件,而其它的衍射束都大大偏离布拉格条件。
作为结果,衍射花样中除了透射斑以外,只有一个衍射斑的强度较大,其它的衍射斑强度基本上可以忽略,这种情况就是所谓的双光束条件。
电子背散射衍射:在扫描电子显微镜中,利用非弹性散射的背散射电子与晶体衍射后,在样品的背面得到的菊池衍射结果,其形成原理与TEM中的菊池衍射没有本质的区别二次电子:二次电子是被入射电子轰击出来并离开样品表面的核外电子,它来自于样品于距表面5~10nm深度范围,能量为0~50eV二次电子对样品表面形貌十分敏感,因此非常适合于表面形貌分析。
产额与原子序数之间没有明显的依赖关系,所以不能用它来进行成分分析。
背散射电子:是指被固体样品原子反弹回来的一部分入射电子,其中包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。
电子显微镜习题

电子显微镜习题————————————————————————————————作者:————————————————————————————————日期:一、电子束与样品作用1 为什么电子显微分析方法在材料研究中非常有用?答:因为电子显微分析能够1)观察材料的表面形貌;2)可以用来研究样品的晶体结构和晶体取向分布;3)可以进行能固体能谱分析。
以上三个方面对于研究材料的性能与微观组织和成分的关系有很大的帮助。
2. 电子与样品作用产生的信号是如何被利用的?扫描电镜利用了那几个信号?高能电子束与试样物质相互作用,产生各种信号,这些信号被相应的接收器接收,经过放大器和处理后,可以获得样品成分和内部结构的丰富信息。
背散射电子和二次电子主要应用于扫描电镜;透射电子用于透射电镜;特征X射线可应用于能谱仪,电子探针等;俄歇电子可应用于俄歇电子能谱仪。
吸收电子也可应用于扫描电镜,形成吸收电子像。
1)背散射电子。
背散射电子是指被固体样品中的原子核反弹回来的一部分入射电子。
其中包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。
背散射电子的产生范围深,由于背散射电子的产额随原子序数的增加而增加,所以,利用背散射电子作为成像信号不仅能分析形貌特征,也可用来显示原子序数衬度,定性地进行成分分析。
2)二次电子。
二次电子是指被入射电子轰击出来的核外电子。
二次电子来自表面50-500 Å的区域,能量为0-50 eV。
它对试样表面状态非常敏感,能有效地显示试样表面的微观形貌。
3)吸收电子。
入射电子进入样品后,经多次非弹性散射,能量损失殆尽(假定样品有足够厚度,没有透射电子产生),最后被样品吸收。
若在样品和地之间接入一个高灵敏度的电流表,就可以测得样品对地的信号。
若把吸收电子信号作为调制图像的信号,则其衬度与二次电子像和背散射电子像的反差是互补的。
4)透射电子。
如果样品厚度小于入射电子的有效穿透深度,那么就会有相当数量的入射电子能够穿过薄样品而成为透射电子。
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清华大学2007年电子显微分析期末考试试题
考试科目:电子显微分析
考试时间: 2007年
试卷类型:本科期末
Examination of Electron Microscopy and Analysis (Jan. 2007)
Question sheet A
Department: Name (in Chinese): Student ID No.:
Section I Section II Section III
Total
Score
Section I. (20 marks. The answers should be written in English on this question sheet)
1. There are two diffraction spots G1 and G2 in an electron diffraction pattern. The excitation error (s)
of G1 is m and the excitation error
of G2 is 2m (m>0). Which diffraction spot looks brighter, G1 or G2?
( ) (2 marks)
2. The thickness of a TEM specimen is usually thinner than 100nm. Write out two TEM specimen preparation methods that can make TEM specimen of ceramic samples with the required thickness. ( ) (2 marks)
3. You want to take an atomic resolution image of a specimen, but you do not want the image contrast to alter with a change in defocusing. Which technique should you use? (HRTEM, HAADF, EF-TEM) (2 marks)
4. O Ka line is at 520eV and Cr La is at 590eV. If you want to separate them using an X-ray analysis technique in SEM, which technique should you use? ( ). If you want to distinguish diamond from graphite using microanalysis technique in TEM, which technique should you use ? ( ) If you want to determine if a materials is polycrystalline or amorphous using TEM, which technique should you
use?( ) (3 marks)
5. The side length of the CRT of a SEM is 100mm and the scanning distance of the electron beam on an object in a specimen is 0.02mm. What is the real length of this object if the image of the object displayed on the CRT has a length
of 5mm? ( ) (3
marks)
6. The Kikuchi lines can be used for measuring a small tilting angle. If you tilt
a sample holder by a small angle and the corresponding movement of the Kikuchi lines is 7mm, how many degree have you tilted (assume the camera length L
is 800mm) ? ( ) (4 marks)
7. The TEM of a Philips CM-120 has an accelerating voltage of 120kV. What is the wavelength of the electron beam (Relativistic effects should be taken into account )? (
) Assume n=1 and sina=0.95, what is the theoretical resolution of this TEM. ( ) (4 marks)
Section II. (30 marks. The answers should be written in English or Chinese on the answer book)
1. Explain briefly what is a bright field (BF) image and what is a centered dark field (CDF) image. (The optical ray diagram of BF and CDF images should be drawn).
(10 mar ks)
2. What is the principle of observing defects in crystalline material using diffraction contrast imaging? Are the shape and size of the real defect the same as those of its diffraction contrast image? (Give an example to support your answer) (10 marks)
3. The size of the selected area in selected area diffraction (SAD) of TEM depends on the size of the SAD aperture. Is it possible to obtain a SAD from an area of 0.05 mm in diameter if the size of the SAD aperture is 0.05mm? (The reason should be given). Are there any other methods that can be used to obtain a electron diffraction pattern from an area of 0.05 mm in size? (If yes, give the names of the
techniques.) (10 marks)
Section III. (50 marks. The answers should be written in English on the answer book) 1. (1) Find the corresponding twin reflection of the matrix reflection (420) in an fcc material if [HKL]=111, and determine if the diffraction spots of the twin reflection superimpose with the diffraction spots of the matrix reflection?
(2) Find the corresponding twin reflections of the matrix reflection (110) in
a bcc material if [HKL]= 11, and determine if the diffraction spots of the twin
reflection superimpose with the diffraction spots of the matrix
reflection? (10 marks)
2. The electron diffraction pattern of an fcc material is shown in the figure, where
R1=R2=10mm, R3=16.3mm, the angle between R1 and R2 is q1=70°, and the angle between R2 and R3 is q2=35°. The camera constant Ll is 2.05mm · nm. Index the diffraction pattern and determine the crystal direction
[uvw]. (20 marks)
3. Plot out and superimpose the zero order and the lowest order of (111) Laue zone for a bcc system. (The details of the calculation must be
given) (20 marks)。