APD光电二极管特性测试实验

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发光二极管特性测试实验报告

发光二极管特性测试实验报告

发光二极管特性测试实验报告实验报告:发光二极管特性测试一、实验目的1.学习了解发光二极管的基本原理及特性。

2.熟悉使用示波器、数字万用表等实验设备进行实际测试。

3.通过实验数据的测量、处理和分析,验证发光二极管的特性。

二、实验仪器和材料1.示波器2.数字万用表3.直流电源4.发光二极管5.电阻6.连线电缆三、实验原理四、实验步骤与结果1.实验电路接法:将发光二极管连接在直流电源的正极,通过一个限流电阻与直流电源的负极相连接,示波器的地线接到直流电源的负极,示波器的正极接到二极管的正极。

2.正向电压测试:设置直流电源输出电压为1V,并逐渐增加,观察示波器上的电压波形以及发光二极管的亮度变化情况。

记录不同电压下的电流值和电压值。

3.正向电流测试:将直流电压设定为一个确定值,通过调节限流电阻的电阻值,改变电流的大小。

观察发光二极管的亮度变化情况。

记录不同电流下的电压值和电流值。

4.实验数据处理:统计并整理实验数据,计算得出不同电压下的电流值与电流值之间的关系。

五、实验结果与分析实验中记录了发光二极管在不同电压下的电流值和电压值的数据,并进行了统计和整理。

根据数据绘制出电流-电压曲线,通过拟合曲线可以得到发光二极管的工作特性参数,如电流-电压关系、亮度-电流关系等。

六、实验结论通过本次实验,我们学习了发光二极管的基本原理,并通过实际测试验证了其特性。

实验结果表明,发光二极管在正向电压下,电流与电压之间呈现非线性关系。

同时,通过改变电流大小可以调节发光二极管的亮度。

这为我们进一步研究和应用发光二极管提供了理论依据和实验基础。

APD光电二极管特性(精)

APD光电二极管特性(精)
教学章节
APD光电二极管特性
教学环境
多媒体机房
教学
内容
1.APD光电二极管一般性能
2.倍增因子
3.过剩噪声因子
教学
目标
1.了解PIN光电二极管一般性能2.ຫໍສະໝຸດ 解倍增因子3.了解过剩噪声因子
重点
难点
1、掌握查看APD光电二极管的参数表,并根据参数表选型。
教学
方法
讲授、讨论、总结
教学
过程
讲授:
1.APD光电二极管一般性能
例举Si材料和InGaAs材料的雪崩光电二极管的参数表格,APD光电二极管的参数
包括光谱响应范围、峰值波长、灵敏度、量子效率、击穿电压、击穿电压温度系数、暗电流、截止波长、结电容、附加噪声指数和增益等。以及两者的特点和应用场合。
2.倍增因子
倍增因子是APD输出光电流和一次光生电流的比值,APD的响应度比PIN增加了g
倍。现有的APD的g值已达几十甚至上百,随反向偏压、波长和温度变化
3.过剩噪声因子
过剩噪声因子F是由于雪崩效应的随机性引起噪声增加的倍数。附加噪声指数与器件所用的材料和工艺相关,并例举了硅、锗和铟镓砷几种材料的附加噪声指数。
小结:
课堂总结

(整理)APD光电二极管综合实验.

(整理)APD光电二极管综合实验.

APD光电二极管综合实验仪GCAPD-B实验指导书(V1.0)武汉光驰科技有限公司WUHAN GUANGCHI TECHNOLOGY CO.,LTD目录第一章 APD光电二极管综合实验仪说明 ................ - 3 -1、电子电路部分结构分布......................... - 3 -2、光通路组件 .................................. - 4 - 第二章 APD光电二极管特性测试.................... - 5 -1、APD光电二极管暗电流测试..................... - 7 -2、APD光电二极管光电流测试..................... - 8 -3、APD光电二极管伏安特性....................... - 8 -4、APD光电二极管雪崩电压测试 ................... - 9 -5、APD光电二极管光照特性....................... - 9 -6、APD光电二极管时间响应特性测试 .............. - 10 -7、APD光电二极管光谱特性测试 .................. - 10 -第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。

雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采用硅和锗等材料。

其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。

一般上部的电极制作成环状,这是考虑到能获得稳定的“雪崩”效应。

外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。

由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。

这种元件可以用作0.8m范围的光纤通信的受光装置和光磁盘的受光期间还,能够有效地处理微弱光线的问题,当量子效率为68%以上时,可得到大于300MH z的高速响应。

APD光电二极管的特性测试及应用研究1

APD光电二极管的特性测试及应用研究1
由于硅半导体工艺技术业已完善成熟,特别容易与其他微电子器件结合,而且在制作硅基半导体器件时的Si薄膜材料有晶体型,无定型和多孔型等多种形式,应用灵活方便。因此硅基光电探测器对于探测波长为200nm-900nm的波段应用越来越普遍,而且在这个波段Si基光电子探测器的响应度比较高,但是随着波长的增加到1000nm左右的时候器件敏感响应度会很低。
[5]王庆有.光电传感器应用技术[M].北京:机械工业出版社,2007.10.
[6]其他:可网上搜索查找相关中文和外文文献。
3.进度安排
设计(论文)各阶段名称
起止日期
1
查阅文献资料,确定方案,写文献综述
2014.1.18-3.20
2
学习APD光电二极管的工作原理
2014.3.21-3.30
3
理解APD光电二极管的各项参数指标并测试
因此,拓宽硅基光电探测器件的探测波长范围及探测效率,不仅成为一个较为热点的研究领域,引起了各国科研工作者的兴趣,同时也成为光通信领域迫切需要克服的难题,是市场应用所需迫切解决的问题。最近几年人们尝试了各种方法来提高Si基APD的近红外探测效率,其中有增加Si基APD吸收层的厚度从而提高光子在Si中的吸收,然而随着APD体积的增加,不但提高了近红外处的量子效率,同样增加APD器件的暗电流和噪声,也提高了APD的响应时间,所以用这种方法提高APD近红外的敏感率并不是最好的方法。还有一种方法就是在APD器件表面设计一层防反射层,这层防反射层可以使入射光在APD器件的表面发生多次反射,从而增加了透入到器件内部的光子,也不会增加APD器件的体积,但是这种方法对工艺制作流程要求严格,成本较高,虽然能提高器件的整体效果但依然不能将1064nm处的光探测效率提高到理想的程度。
制约硅基APD在近红外方向特别是1064nm波段发展的原因有两个,第一,硅的禁带宽度是1.12eV,从而导致硅对1100nm处光的吸收截止。Si是间接带隙材料,在300K时硅的禁带宽度是1.12eV。因此硅的吸收截止波长是1100nm。从而导致由间接半导体材料制做的APD器件在截止波长附近吸收效率非常低。为了使硅基APD在1064nm处获得较高的量子效率,人们研发出使用其它半导体材料(锗、铟或者砷化镓)制作光电子器件,但是这些材料的光电子器件暗电流和噪声比较高,价格昂贵,而且与硅的晶格不匹配。或者改变硅基APD的结构设计,还可以使用飞秒激光微构造技术,来改变硅在近红外处的光吸收特性。第二,APD制造工艺过程中必须引入尽可能少的缺陷以减少暗电流,从而保证器件具有较高的信噪比。

实验2-2光电二极管光电特性测试

实验2-2光电二极管光电特性测试

实验2-2 光电二极管光电特性测试实验目的1、了解光电二极管的工作原理和使用方法;2、掌握光电二极管的光照度特性及其测试方法。

实验内容1、暗电流测试;2、当光电二极管的偏置电压一定时,光电二极管的输出光电流与入射光的照度的关系测量。

实验仪器1、光电探测原理实验箱1台2、连接导线若干实验原理1、光电二极管结构原理光电二极管的核心部分也是一个PN结,和普通二极管相比有很多共同之处,它们都有一个PN结,因此均属于单向导电性的非线性元件。

但光电二极管作为一种光电器件,也有它特殊的地方。

例如,光电二极管管壳上的一个玻璃窗口能接收外部的光照;光电二极管PN结势垒区很薄,光生载流子的产生主要在PN 结两边的扩散区,光电流主要来自扩散电流而不是漂移电流;又如,为了获得尽可能大的光电流,PN结面积比普通二极管要大的多,而且通常都以扩散层作为受光面,因此,受光面上的电极做的很小。

为了提高光电转换能力,PN结的深度较普通二极管浅。

图2-2.1为光电二极管外形图(a)、结构简图(b)、符号(c)和等效电路图(d)。

光电二极管在电路中一般是处于反向工作状态(见图2-2.2,图中E为反向偏置电压),在没有光照射时,反向电阻很大,反向电流很小(一般小于0.1微安),这个反向电流称为暗电流,当光照射在PN结上,光子打在PN结附近,使PN结附近产生光生电子和光生空穴对,称为光生载流子。

它们在PN结处的内电场作用下作定向运动,形成光电流。

光的照度越大,光电流越大。

如果在外电路上接上负载,负载上就获得了电信号。

因此光电二极管在不受光照射时处于截止状态,受光照射时处于导通状态随着光电子技术的发展,光信号在探测灵敏度、光谱响应范围及频率特性等方面的要求越来越高,为此,近年来出现了许多性能优良的光伏探测器,如硅、锗光电二极管、PIN 光电二极管、雪崩光电二极管(APD)等。

光电二极管目前多采用硅或锗制成,但锗器件暗电流温度系数远大于硅器件,工艺也不如硅器件成熟,虽然它的响应波长大于硅器件,但实际应用尚不及后者广泛。

物理实验技术中的光电二极管特性测量与分析

物理实验技术中的光电二极管特性测量与分析

物理实验技术中的光电二极管特性测量与分析光电二极管是一种能够将光能转化为电能的器件,广泛应用在光电传感器、光通信、光电测量和光谱分析等领域。

在物理实验技术中,测量和分析光电二极管的特性对于研究光电效应、了解器件性能以及优化实验设计都具有重要意义。

一、光电二极管原理和基本特性光电二极管的原理是基于光电效应,利用光照射在PN结上产生电子-空穴对,使得PN结两端产生电压。

其关键特性包括响应频率、光电流、暗电流、光电流增益等。

测量这些特性需要合适的实验装置和方法来获取准确的结果。

二、光电二极管特性的测量方法1. 频响特性测量频响特性测量是评估光电二极管对光信号变化的响应速度的重要方法。

常用的实验装置包括函数发生器、光源和示波器。

通过改变函数发生器输入的正弦光信号频率,测量光电二极管输出的电流或电压的变化,从而得到频响特性曲线。

这些曲线反映了光电二极管的截止频率、带宽和相移等信息。

2. 光电流和暗电流测量光电流和暗电流是衡量光电二极管敏感度的重要指标。

光电流指的是光照射下二极管产生的输出电流,可以通过连接电流表或电流放大器进行测量。

而暗电流是指在没有光照射的情况下,二极管自身产生的微弱电流。

暗电流直接影响光电二极管的信噪比和稳定性,需要特殊的实验装置和方法进行测量。

三、光电二极管特性分析测量得到的光电二极管特性数据可以通过分析得到有关器件性能的重要信息。

以下是几个典型的分析方法:1. 截止频率和带宽分析利用频响特性曲线可以确定光电二极管的截止频率和带宽。

截止频率是指光电二极管对信号频率的响应达到3dB衰减的频率,可以通过对频响特性进行插值计算得到。

带宽是指光电二极管在特定条件下能够传输信号的频率范围,可以根据频响特性曲线的满足条件进行判断。

2. 光电流增益分析光电流增益是指光电二极管单位光功率入射时输出电流的增益。

可以通过将测得的光电流与已知的入射光功率相除得到。

光电流增益反映了光电二极管对光信号的放大效果,是评估器件性能的重要指标。

APD实验指导书V1.01

APD实验指导书V1.01

目录第一章APD光电二极管综合实验仪说明.......... 错误!未定义书签。

二、实验仪说明................................................................................. 错误!未定义书签。

1、电子电路部分结构分布............................ 错误!未定义书签。

2、光通路组件 ..................................... 错误!未定义书签。

第二章 APD光电二极管特性测试.............. 错误!未定义书签。

1、APD光电二极管暗电流测试........................ 错误!未定义书签。

2、APD光电二极管光电流测试........................ 错误!未定义书签。

3、APD光电二极管伏安特性.......................... 错误!未定义书签。

4、APD光电二极管雪崩电压测试...................... 错误!未定义书签。

5、APD光电二极管光照特性.......................... 错误!未定义书签。

6、APD光电二极管时间响应特性测试.................. 错误!未定义书签。

7、APD光电二极管光谱特性测试...................... 错误!未定义书签。

第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。

雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采用硅和锗等材料。

其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。

一般上部的电极制作成环状,这是考虑到能获得稳定的“雪崩”效应。

外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。

由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。

实验一 发光二极管特性测试实验

实验一 发光二极管特性测试实验

发光二极管特性测试实验一、实验背景介绍(一)发光二极管的工作原理发光二极管是半导体二极管的一种,可以把电能转化成光能;常简写为LED (light-emitting diode)。

由镓(Ga)与砷(AS)、磷(P)的化合物制成的二极管,当电子与空穴复合时能辐射出可见光,因而可以用来制成发光二极管。

在电路及仪器中作为指示灯,或者组成文字或数字显示。

它是半导体二极管的一种,可以把电能转化成光能;发光二极管与普通二极管一样是由一个PN结组成,也具有单向导电性。

当给发光二极管加上正向电压后,从P区注入到N区的空穴和由N区注入到P区的电子,在PN结附近数微米内分别与N区的电子和P区的空穴复合,产生自发辐射的荧光。

不同的半导体材料中电子和空穴所处的能量状态不同。

当电子和空穴复合时释放出的能量多少不同,释放出的能量越多,则发出的光的波长越短。

常用的是发红光、绿光或黄光的二极管。

磷砷化镓二极管发红光,磷化镓二极管发绿光,碳化硅二极管发黄光。

其工作原理图如下:(二)发光二极管的特性参数IF 值通常为20mA被设为一个测试条件和常亮时的一个标准电流,设定不同的值用以测试二极管的各项性能参数,具体见特性曲线图。

IF 特性:1. 以正常的寿命讨论,通常标准IF 值设为20 -30mA,瞬间(20ms )可增至100mA。

2. IF 增大时LAMP 的颜色、亮度、VF 特性及工作温度均会受到影响,它是正常工作时的一个先决条件,IF 值增大:寿命缩短、VF 值增大、波长偏低、温度上升、亮度增大、角度不变,与相关参数间的关系见曲线图;1.VR (LAMP 的反向崩溃电压)由于LAMP 是二极管具有单向导电特性,反向通电时反向电流为0 ,而反向电压高到一定程度时会把二极管击穿,刚好能把二极管击穿的电压称为反向崩溃电压,可以用“VR ”来表示。

VR 特性:1. VR 是衡量P/N 结反向耐压特性,当然VR 赿高赿好;2. VR 值较低在电路中使用时经常会有反向脉冲电流经过,容易击穿变坏;3. VR 又通常被设定一定的安全值来测试反向电流(IF 值),一般设为5V ;4. 红、黄、黄绿等四元晶片反向电压可做到20 -40V ,蓝、纯绿、紫色等晶片反向电压只能做到5V 以上。

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APD光电二极管特性测试实验APD光电二极管特性测试实验1,实验目的1,学习掌握APD光电二极管的工作原理2,学习掌握APD光电二极管的基本特性3,掌握APD光电二极管特性测试方法4,了解APD光电二极管的基本应用2,实验内容有1,APD光电二极管暗电流测试实验2,APD光电二极管光电流测试实验3,APD光电二极管伏安特性测试实验4,APD光电二极管雪崩电压测试实验5、APD光电二极管光电特性测试实验6、APD光电二极管时间响应特性测试实验7、APD光电二极管光谱特性测试实验3、实验仪器1、光电检测综合实验仪器12、光路组件1组3、测光表1组4、1组5和2#重叠插头对(红色,50厘米)和10组6和2#重叠插头对(黑色,50厘米)10根7相电力电缆,1根8相电源线,1本9实验说明书,1台4示波器,雪崩光电二极管APD—雪崩光电二极管是一种具有内部增益的光电探测器,可用于探测微弱的光信号并获得较大的输出光电流。

雪崩光电二极管的内部增益基于碰撞电离效应。

当高反向偏置电压施加到PN结时,5耗尽层中的电场非常强,并且光生载流子在通过时将被电场加速。

当电场强度足够高(约3x10v/cm)时,光生载流子获得大量动能。

它们与半导体晶格高速碰撞,电离晶体中的原子,从而激发新的电子-空穴对。

这种现象被称为碰撞电离碰撞电离产生的电子-空穴对也在强电场的作用下加速,并重复前面的过程。

由于多次碰撞电离,载流子迅速增加,电流迅速增加。

这一物理过程被称为雪崩倍增效应。

++图6-1是APD的结构与电极接触的外侧的P区和N区被重掺杂,分别由P和N+表示;在I区和n区的中间是另一层宽度较窄的p区APD在大的反向偏置下工作。

当反向偏置电压增加到++到一定值时,耗尽层从N-P结区延伸到P区,包括中间P层区和I+区图4的结构是直通APD结构从图中可以看出,电场分布在区域一相对较弱,但在区域N-P++相对较强。

碰撞电离区,即雪崩区,位于n-p区虽然I区的电场比N-P区低得多,但也足够高,达到4(最高2×10V/cm),从而保证载流子达到饱和漂移速度。

当入射光被照射时,由于窄的雪崩区域,光子不能被完全吸收,并且相当多的光子进入I区域I区非常宽,可以充分吸收光子,提高光电转换效率。

我们称区域1中光子吸收产生的电子-空穴对为初级电子-空穴对在电场的作用下,初级光生电子从I区漂移到雪崩区,在雪崩区产生雪崩倍增。

而所有主空穴+被p层直接吸收雪崩区碰撞电离产生的电子-空穴对称为二次电子-空穴对。

可以看出,I区仍然用作吸收光信号的区域,并产生初级光生电子-空穴对。

此外,它还具有分离初级电子+和空穴的功能。

初级电子通过碰撞电离在氮磷区域形成更多的电子空穴对,从而实现初级光电流的放大。

APD的结构和电场分布图6-1中的碰撞电离产生的雪崩倍增过程本质上是统计的,即一个复杂的随机过程。

每个初级光生电子-空穴对在哪里产生,碰撞电离在哪里发生,总共有多少个次级电子-空穴对碰撞都是随机的。

因此,与PIN 光电二极管相比,APD具有更复杂的特性。

APD的雪崩倍增因子m定义为m = IP/IPo,其中IP为APD的平均输出电流;IP0是平均初级光生电流从定义中可以看出,倍增因子是APD的当前增益因子由于雪崩倍增过程是随机过程,倍增因子是高于平均值的随机波动,雪崩倍增因子m 的定义应该理解为统计平均倍增因子m随反向偏置的增加而增加,随w的增加而呈指数增加APD的噪声包括量子噪声、暗电流噪声、漏电流噪声、热噪声和附加乘法噪声。

乘法噪声是APD中的主要噪声倍增噪声的产生主要与两个过程有关,即由光子吸收产生的初级电子-空穴对的随机性和在增益区产生的次级电子-空穴对的随机性这两个过程不能被精确地测量,所以APD乘法因子只能是一个统计平均的概念,表示为一个复杂的随机函数由于APD具有电流增益,因此APD的响度远远高于PIN的响应度,R0 =(IP/P)=(ηq/HF)量子效率仅与初级光生载流子的数量有关,不涉及乘法,因此量子效率值始终小于1APD的线性工作范围不如PIN宽,适合检测微弱光信号。

当光功率达到几个uw以上时,输出电流和入射光功率之间的线性关系变坏,并且可以实现的最大倍增增益也降低,即出现饱和现象APD的这种非线性转换的原因类似于引脚,主要是因为器件上的偏置电压不能保持恒定。

随着的偏置电压降低,雪崩区变窄,倍增因子降低。

这种效果比个人识别码的效果更明显它会压缩数字信号的脉冲幅度或使模拟信号的波形失真,因此应避免。

APD在低偏压下没有倍增效应当偏置电压上升时,产生倍增效应,并且输出信号电流增加当反向偏置电压接近某一电压VB时,电流倍增最大,此时APD称为击穿,电压VB称为击穿电压。

如果反向偏置电压进一步增加,雪崩击穿电流使器件对光生载流子越来越不敏感。

因此,APD的偏置电压接近击穿电压,通常在几十伏到几百伏的范围内应该注意的是,击穿电压不是APD的击穿电压,在电压被去除后,APD仍然可以正常工作。

APD暗电流分为原生暗电流和倍增暗电流,并随着倍增因子的增加而增加。

此外,还有未倍增的漏电流。

APD的响应速度主要取决于载流子完成倍增过程所需的时间、载流子穿过耗尽层所需的渡越时间、二极管结电容和负载电阻的RC时间常数等。

然而,运输时间的影响相对较大,通过改进结构设计,剩余的因素可以减少到非常少。

5、实验准备1、实验前请仔细阅读光电检测综合实验仪的说明书,并找出实验箱各部分的功能和拨码开关的意义;2,当电压表和电流表显示为“1 _”时,表示超出测量范围,应更换为适当的测量范围;3.连接前,确保电源已关闭4。

在实验过程中,请不要同时打开两个或多个光源开关,这将导致实验中测试的数据不准确。

6,实验步骤1,APD光电二极管暗电流测试实验装置原理框图如图6-2图6-2(1)组装光路组件,将照度计显示头与光路组件的照度计探头的正负输出电极连接(红色为正电极,黑色为负电极),将光源调制单元J4与光源接口连接(2)“光源驱动单元”的三掷开关BM2设定为“静态特性”,设定开关S1、S2、S3、S4、S5、S6和S7全部设定(3)将“照度调节”调至最小,连接照度计,将DC电源调至最小,打开照度计。

此时,照度计的读数应为0(4)根据图6-2所示电路图,电源1选用DC电源,负载R1选用RL6 = 1kΩ,电流表选用200uA。

(5)打开电源开关,慢慢调节DC电源电位计,直到微安表显示读数。

记录此时电压表u和电流表的读数I.I,即在u偏压下APD光电二极管的暗电流。

(注意:测试暗电流时,光电器件应置于黑暗环境中30分钟以上,否则在测试过程中电压表需要一段时间才能稳定)。

(6)实验完成后,将DC电源调整到最小值,关闭电源,并移除所有连接2,APD光电二极管光电流测试(1)组装光路组件,将照度计显示头与光路组件的照度计探头输出的正负电极连接(红色为正电极,黑色为负电极),并使用排练数据线将光源调制单元J4与光路组件的光源接口连接(2)将“光源驱动单元”的三掷开关BM2设置为“静态特性”,并将设置开关S1设置为“S2、S3、S4、S5、S6、S7”(3)根据图6-2所示的电路图,选择DC电源作为电源1,选择负载RL作为RL6=1K欧姆,选择电流表作为200uA。

(4)打开电源,缓慢调节照度调节电位计,直到照度达到300lx(大约为环境照度),缓慢调节DC电源电位计,直到微安计显示读数有很大变化。

记录此时电压表u和电流表的读数I.I,即在u偏压下APD 光电二极管的光电流。

(5)实验完成后,将照度调至最低,将DC功率调至最低,关闭电源并拆除所有连接3,APD光电二极管伏安特性(1)组装光路组件,将光度计的指示器头与光路组件的光度计探头输出的正负电极连接(红色为正电极,黑色为负电极),并使用排练数据线将光源调制单元J4与光路组件的光源接口连接(2)“光源驱动单元”三掷开关BM2设置为“静态”,设置开关S1已设置,S2、S3、S4、S5、S6和S7均已设置(3)根据图6-2所示的电路图,DC电源选择电源1,负载R1选择RL6=1K欧姆(3)打开电源,顺时针调节照度调节旋钮,使照度值为200Lx,保持照度不变,当反向偏置电压为0V、50V、100V、120V、130V、140V、150V、160V、170V、180V时,调节电源电压电位器,使电流表读数,填写下表,关闭电源(注意:在测试过程中,电位计应缓慢调整。

当反向偏置电压高于雪崩电压时,光生电流将迅速增加,电流表的读数将增加N个数量级。

当APD工作在雪崩电压以上时,PN结上的偏置电压将很容易波动,影响增益的稳定性。

因此,产生的光电流是不稳定的,属于正常现象。

记录结果时,只需取一个数量级的值)(特殊说明:在实验过程中,请勿长时间在雪崩电压以上操作APD光电二极管,以免烧毁APD光电二极管。

在工业上,APD光电二极管的工作电压略低于雪崩电压。

)偏置(v)0 50 100 120 130 140 150 160 170 180光电流I (μA) (6)根据上述实验结果,制作了200×照明下APD光电二极管的伏安特性曲线。

(注意:由于APD雪崩光电二极管的个体差异,不同APD光电二极管的雪崩电压相差~ ~50V,测试数据也相差很大。

这是正常现象。

APD光电二极管雪崩电压测试偏置电压(V) 0 50 100 120 130 140 150 160 170 180光生电流1(μA)光生电流2(μA)光生电流3(μA) (1)根据实验3的伏安特性测试方法,重复实验3的实验步骤,分别测量1lx处的光强。

当照度为10lx和50lx时,在反向偏置电压为0V、50V、100V、120V、130V、140V、150V、160V、170V和180V时填写电流表读数,并关闭电源(2)根据上述实验结果,在同一坐标轴下制作了100Lx、300lx和500lx照度下的APD光电二极管伏安特性曲线,并对其进行了分析,找出了光电二极管的雪崩电压。

5.APD光电二极管照度实验装置原理框图如图6-2所示(1)组装光路组件,将照度计的指示器头与光路组件的照度计探头输出的正负电极连接(红色为正电极,黑色为负电极),并使用排练数据线将光源调制单元J4与光路组件的光源接口连接(2)“光源驱动单元”三掷开关BM2设置为“静态”,设置开关S1已设置,S2、S3、S4、S5、S6和S7均已设置(3)根据图6-2所示的电路图,DC电源选择电源1,负载R1选择RL6=1K欧姆(4)逆时针调节“照明调节”旋钮至最小位置打开电源并调节DC功率电位计,直到电压表的显示值略高于实验4中测试的雪崩电压。

保持电压不变,顺时针调节旋钮增加照度值,分别记录不同照度下相应的光生电流值,并填写下表如果电流表或照度计显示为“1 _”,表示超出范围,则应将其更改为适当的范围并重新测试。

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