2010-光学表面亚表层损伤检测和损伤规律研究_党娟娟-(基于激光散射和共聚焦成像原理)西安工业大学

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亚表面损伤表征方法及其在磨削损伤检测中的应用的开题报告

亚表面损伤表征方法及其在磨削损伤检测中的应用的开题报告

一种陶瓷材料表面/亚表面损伤表征方法及其在磨削损伤检测中的应用的开题报告一、研究背景陶瓷材料作为一种特殊的高硬度、高强度无机非金属复合材料,在制造、冶金、航天、军工等领域已经得到了广泛应用。

然而,陶瓷材料的高硬度、脆性和无法修复的特性也造成了其易受磨损、割裂等表面损伤。

磨削是陶瓷材料表面处理的重要技术之一,但随之而来的磨削损伤问题也难以避免,因此检测和定量表征陶瓷材料表面和亚表面的损伤状态,对于保证其使用寿命、提高效率和降低生产成本具有重要意义。

目前,常见的表面/亚表面损伤检测方法主要有金相显微镜、荧光显微镜、扫描电镜、原子力显微镜等。

然而,这些方法都存在一定的局限性,比如不易处理大量样本、不易直接定量表征、需要复杂的准备工作等。

因此,需要开发一种快速、高效、直接定量表征陶瓷材料表面/亚表面损伤的方法,在磨削损伤检测中应用。

二、研究内容本研究旨在开发一种基于斯特列尔(Streler)聚焦脉冲激光散射技术的陶瓷材料表面/亚表面损伤表征方法,并在磨削损伤检测中进行应用。

具体研究内容如下:1、理论研究:建立激光散射理论模型,分析其与表面/亚表面损伤之间的关系,提出可行的表征方法。

(Streler)聚焦脉冲激光器的测试设备,并进行完善的系统控制与数据采集。

3、实验测试:选取不同类型、不同程度的陶瓷材料样本进行散射测试,对比分析样本不同区域的散射光谱,定量表征陶瓷材料表面/亚表面的损伤程度。

4、应用研究:将开发的方法应用于陶瓷材料的磨削损伤检测中,开展系统性实验研究,确定其有效性。

三、研究意义该研究的成果将具有以下重要意义:1、开发了一种快速、高效、直接定量表征陶瓷材料表面/亚表面损伤的新方法,弥补了现有表征方法的不足。

2、提高陶瓷材料表面/亚表面损伤检测的准确性和精度,为保证陶瓷材料的使用寿命和提高效率提供更好的技术手段。

3、该方法具有较强的可扩展性和适应性,可广泛应用于陶瓷材料的表面/亚表面损伤检测及其他领域的相关研究。

光学元件亚表层损伤检测和规律研究

光学元件亚表层损伤检测和规律研究

实 现点 照 明和点探 测 , 自光 源 的光通 过照 明针孑 来 L 发 射 出的光 聚 焦 在 样 品 焦 平 面 0点 上 , 点 所 发 该 出 的光 成像 在探 测针 孔 内 , 点 以外 的任何 发射 光 该 均 被针 孔 阻挡. 样 只有共 焦 面上 的光 才 能全部 通 这 过共 聚焦 针孔 P, 离焦 面 的光被共 聚焦 针孔 滤 除 而 了. 通过 探测 针 孔 P 的光 信 号 被 光 接 收 系统 捕 获
点是散射光远离了入射方向; 第三部分光虽然只散 射 了一次 , 是它 穿 透 了其他 的物 体 , 致 它 的相 但 导 位信息被严重干扰 ; 四部分光为多次散射光, 第 但 是它的后 向散射角却很小. 这几部分光在一定程度
损伤会在一定能量 的激 光辐照下 , 在局 部产生高
温, 造成 元件损 伤 , 国内外 研究 表 明 , 光学元 件在 其 制 造过程 中形 成 的元 件 表 面污 染 和 亚表 面缺 陷 是
导致紫外损伤的主要根源之一l l 1 . 如果想避免引起损伤, 就需要对能导致损伤的 主要 因素进 行识 别. 学元 件 的加 工包 括 锯 切 、 光 粗 磨、 精磨和抛光等加工工序. 由于磨削力的作用 , 每 道工序都将使表面产生裂纹 , 这些裂纹会深入到表 面下一定深度 , 使光学零件产生亚表面损伤 . ]因 此, 确定光学元件亚表面损伤层 的深度及其分布 , 对研究其损伤形成机理 、 优化光学光学元件亚表层损伤检测和规律研究
2 5
图 1] 所示 , 看到一束光入射到某介质后 , 向散 后 射光按照散射次数和角度 , 可以分 为四部分. 第一 部 分光 为单 次散 射 光 , 只 在介 质 中散 射 了一 次 , 它
而 且带 有丰 富 的散 射 点信息 ; 二部分 光 的最 大特 第

光学亚表面损伤的探测和后处理技术

光学亚表面损伤的探测和后处理技术

光学亚表面损伤的探测和后处理技术
陈宁;张清华
【期刊名称】《工程物理研究院科技年报》
【年(卷),期】2003(000)001
【摘要】光学元件的损伤问题已成为高功率固体激光装置研制的核心问题,而紫外的损伤尤为严重。

光学元件的激光损伤与能吸收能量的多种缺陷有关,例如:表面污染、表面擦伤和材料本体的缺陷(气泡或所含杂质)等。

研究工作拟从光学元件的亚表面损伤人手,探测不同的光学制造工艺造成的特征亚表面缺陷,研究这些缺陷对激光损伤研制的影响。

建立亚表面缺陷化学后处理装置,减少或消除亚表面缺陷所引起激光损伤的程度,为光学元件制造工艺选型提供必要的依据。

【总页数】2页(P356-357)
【作者】陈宁;张清华
【作者单位】无
【正文语种】中文
【中图分类】TN248.1
【相关文献】
1.光学亚表面损伤的探测和后处理技术 [J], 陈宁;张清华;许乔
2.光学玻璃亚表面损伤深度预测及实验研究 [J], 高睿; 姜晨; 严广和; 张勇斌
3.磨削动态特性对光学材料亚表面损伤机理研究 [J], 白金峰; 赵惠英; 朱生根; 赵凌宇; 班新星; 赵家宁
4.基于化学蚀刻检测光学玻璃亚表面损伤深度 [J], 王华东;蒋伟峰;彭光健;张泰华
5.荧光显微立体成像测量光学元件亚表面损伤深度 [J], 邱啸天;田爱玲;王大森;朱学亮;刘丙才;王红军
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光学表面亚表层损伤检测技术研究的开题报告

光学表面亚表层损伤检测技术研究的开题报告

光学表面亚表层损伤检测技术研究的开题报告一、研究背景随着工业、军事和航空航天领域对光学元件的需求日益增加,光学表面亚表层损伤对光学元件性能和寿命的影响越来越大。

因此,对光学表面亚表层损伤及其深层次机理进行研究,对于保证光学元件的品质、延长其使用寿命具有重要意义。

目前,光学表面亚表层损伤检测技术主要包括表面检测和亚表层检测两种方法。

表面检测主要利用显微镜、电子显微镜等仪器对表面缺陷进行观察,但该方法只能检测到表面缺陷,对于亚表层损伤则无法检测。

亚表层检测主要利用光学吸收和荧光的检测原理,对亚表层缺陷进行检测,并进一步揭示其深层次机理。

但是,现有的亚表层检测方法尚存在着检测精度低、检测时间长等问题。

因此,本研究旨在基于光学吸收和荧光的检测原理,开发一种高精度、快速的光学表面亚表层损伤检测技术,揭示光学表面亚表层损伤的深层次机理。

二、研究内容和方法本研究的主要内容包括:1.建立光学吸收和荧光信号模型,探究光学吸收和荧光的透射、反射、散射和吸收等物理过程,确定光学吸收和荧光信号与亚表层损伤的关系。

2.开发一种基于光学吸收和荧光的光学表面亚表层损伤检测系统,建立光学吸收和荧光信号检测模型,实现对亚表层损伤的快速、高精度的检测。

3.采用多种亚表层损伤模拟技术,模拟亚表层损伤的形成和演化过程,探究不同亚表层损伤对光学吸收和荧光信号的影响。

4.利用开发的光学表面亚表层损伤检测系统对不同材料制备的光学元件进行测试,分析亚表层损伤的深层次机理。

本研究的方法主要包括仿真模拟、实验测试、理论分析和数据处理等多种方法。

三、研究意义本研究将揭示光学表面亚表层损伤的深层次机理,发展一种高精度、快速的光学表面亚表层损伤检测技术,为保证光学元件的品质、延长其使用寿命提供有力支撑。

此外,本研究的结果还具有较高的理论和实践意义,可为相关研究提供基础数据和理论指导。

亚表面损伤深度测量的理论研究与实验分析

亚表面损伤深度测量的理论研究与实验分析
撒 与 光 电 子学 进 展
L a s e r& 0 D t o e l e c t r o n i c s Pr o g r e s s ⑥2 0 1 6《 中 国激 光 》 杂 志 社
亚表 面损伤深度测量的理论 研究与实验分析
许 逸 轩 蒋 正 东 王 华 林 何 勇
Na n j i n g ,J i a n g s u 2 1 0 0 9 4 , C h i n a
Ab s t r a c t Th e s u b s u r f a c e d a ma g e o f o p t i c a l c o mp o n e n t s i s t h e s c r a t c h e s a n d c r a c k s wh i c h a r e p r o d u c e d i n wo r k p i e c e p r o c e s s .Th e s u b s u r f a c e d a ma g e wi l l c h a n g e t h e l i g h t f i e l d u n d e r t h e l a s e r i r r a d i a t i o n.As t h e l a s e r i r r a d i a t i o n t i me i n c r e a s e s ,t h e c r a c k s b e c o me l a r g e r a n d g e n e r a t e s c a t t e r i n g ,wh i c h f i n a l l y e f f e c t t h e e n c i r c l e d e n e r g y o f l a s e r b e a m. Th i s p a p e r p r o p o s e s a n e w me t h o d t O e s t i ma t e d a ma g e d e p t h b a s e d o n t h e p r i n c i p l e o f s u b s u r f a c e d a ma g e me a s u r e d b y t o t a l i n t e r n a l r e f l e c t i o n me t h o d .I n c i d e n t a n d e x i t l i g h t wa v e s a r e s u p e r i mp o s e d t O f o r m t h e s t a n d i n g wa v e u n d e r t h e s u r f a c e o f s a mp l e ,a n d t h e p o l a r i z a t i o n s t a t e a n d t h e i n c i d e n t a n g l e o f i n c i d e n t l i g h t a f f e c t t h e d i s t r i b u t i o n o f l i g h t i n t e n s i t y i n t h e s a mp l e .B y a n a l y z i n g t h e r e l a t i o n b e t we e n l i g h t i n t e n s i t y a n d i n c i d e n t a n g l e o f s u b s u r f a c e d a ma g e p o i n t ,t h e d e p t h o f s u b s u r f a c e d a ma g e c a n b e e s t i ma t e d t h r o u g h t h e c h a n g e q u a n t i t y o f t h e i n c i d e n t a n g l e . Ke y wo r d s me a s u r e me n t ;o p t i c a l c o mp o n e n t s ;s u b s u r f a c e d a ma g e ;t o t a l i n t e r n a l r e f l e c t i o n me t h o d;s t a n d i n g wa v e

光学材料亚表面损伤表征方法研究

光学材料亚表面损伤表征方法研究

x射线检测法等. 本文将 以几种重要 的亚表面损伤 测 试 方法 为例 , 对 其 原 理 和实 验 测 试 结 果 进 行 综 合
分析 , 并对 截 面 显 微 法 在 K 9光 学 玻 璃 亚 表 面损 伤
方 面 的应 用进 行 了实验 对 比研 究.
1 光学材料亚表面损伤测试原理及对 比分析
测 方 法 包 括 恒 定 化 学 蚀 刻 速 率 法 、 截面显微法 、 角度 抛光 法 、 磁流 变抛 光法 等 , 非破 坏性 检测 方法 包 括 白光干 涉法 、 超 声 显 微 成像 法 、 散 射 扫 描层 析法 、
变性对 工件进 行抛 光 , 其 理论 基 础 涉及 电磁 学 、 流体 动 力学 、 分析化学 几 个方 面. 磁 流 变抛 光 液 由抛光 轮 带入 抛光 区域 , 在高 强度 梯度 磁 场 的作 用下 , 原本 磁 矩 随机排列 的磁敏 颗粒被磁化 而排列成链 , 形成 柔性 抛光膜 . 非 磁性抛 光 颗粒 在磁 力作 用 下 析 出 , 分布 在 柔性抛 光膜 表 面 , 见图 l J , 在抛 光 轮 的带 动 下抛 光
注与 日俱增 , 而其在 民用工业 、 航空航天方面的广泛 应 用也 对光 学材 料 自身 的表 面质 量提 出 了更高 的要 求. 众所 周 知 … , 广 泛 用 于 光 学 材 料 的加 工 过 程 会
无 可避 免 的在 光学材 料 表面 引入 降低其 性 能 的亚表 面 损伤 和缺 陷 , 如划痕 、 裂纹 、 残余 应力 和 杂质等 等 ,
1 . 1 恒 定 化学 蚀刻 速 率法
颗粒随抛光膜一起高速切过工件从而实现剪切去除.
+ 收 稿 日期 : 2 0 1 3—1 0—2 5

研磨加工中光学材料亚表面损伤的表征方法

研磨加工中光学材料亚表面损伤的表征方法

(5)
Di >ds
使用高斯函数对研磨磨粒的粒度分布进行表征,即
( ) α D x =
e−⎛⎜ ⎝
x−β γ
⎞2 ⎟ ⎠
(6)
式中α、β 和 γ 为磨粒粒度分布相关系数.
考虑到磨粒粒度的连续分布,式(5)中研磨颗
粒受力的求和过程可以转化为积分运算.将式(1)
和式(6)代入式(5),可得
∫ ( ) p
=
伤产生机理.
1.1 亚表面损伤名义深度 研磨过程中,刚性研磨盘经法向载荷作用在试件
表面进行往复运动,介于研磨盘和试件间的研磨颗粒
通过脆性断裂或塑性变形的方式去除试件表面材
料.根据试件的材料去除方式及研磨颗粒的运动形
式,材料去除机理包括两体延性去除、三体延性去
除、两体脆性断裂去除以及三体脆性断裂去除 4 种形 式[5](见图 1).本文以通过三体脆性断裂方式去除 材料的研磨颗粒作为研究对象,并假设磨粒印压产生
为 1.21±0.05;亚表面损伤密度沿深度呈指数递减分布,并在距离表面约为名义深度的 1/2 时,下降趋势变缓.
关键词:亚表面损伤;表征;光学材料;研磨;磁流变抛光
中图分类号:TG580.68
文献标志码:A
文章编号:1672-6030(2008)05-0349-07
Characterization of Subsurface Damage of Optical Materials in Lapping Process
的压痕间间距足够大(使其不产生相互影响).
根据图 1 中研磨颗粒、研磨盘与试件间的几何关 系以及硬度定义,可知研磨颗粒所受法向力为[5-6]
( ) pi = 4 tan2ψ i
Hw

光学薄膜激光损伤及散射检测研究

光学薄膜激光损伤及散射检测研究
重庆大学 硕士学位论文 光学薄膜激光损伤及散射检测研究 姓名:段利华 申请学位级别:硕士 专业:凝聚态物理 指导教师:廖克俊;胡建平 20050501
重庆大学硕士学位论文
中文摘要


本文围绕光学薄膜的激光损伤研究,论述了其损伤机理、影响损伤阈值的因 素以及其抗激光增强工艺,总结了相关规律。建立了符合国际标准的激光损伤阈 值测试及在线检测系统,对光学薄膜及其基体的激光损伤及在线检测做了详细的 实验研究。 对 HF 酸腐蚀后的熔石英样品进行了激光损伤分析, 其损伤由激光驻波场和烧 蚀共同引起。HF 酸腐蚀可以提高熔石英表面的抗激光损伤能力。在一定的激光参 数(波长为 355nm,脉宽为 10ns,频率为 3Hz)下,其损伤尺寸随激光辐照次数呈指 数增长关系。并对损伤阈值测试结果进行了不确定度分析,对比了不同阈值表征 方式对其结果的影响。 研究了 ZrO2 薄膜微结构对其抗激光损伤能力的影响,发现随着微晶粒尺寸的 减小其抗激光损伤阈值具有增长的趋势,且多晶结构的激光损伤阈值明显高于无 定形结构。研究和完善了激光预处理装置的技术方案,对 1064nm 的 HfO2/SiO2 高 反膜进行了激光预处理研究,实验结果表明,薄膜的抗激光损伤能力平均提高 3 倍以上。薄膜经激光预处理后,损伤尺度及严重程度明显减轻。 组建了符合国际规范的 He-Ne 散射法在线检测损伤系统, 对 HfO2/SiO2 高反膜、 增透膜进行了阈值检测,并与等离子体闪光法及 Nomarski 相衬显微法对损伤的判 断做了比较。实验证明,He-Ne 散射法在线检测系统能有效地、可靠地判断激光诱 导损伤。相对等离子体闪光法而言,减少了人为因素,并且在实验中证明,有等 离子体闪光发生,并不一定发生激光诱导损伤。而采用显微镜观测,效率低、工 作量大,对于不明显的损伤不易做出判断。 关键词:光学薄膜,熔石英,激光损伤,激光预处理,化学腐蚀,He-Ne 散射法
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光学表面亚表层损伤检测和损伤规律研究党娟娟田爱玲王春慧王红军刘丙才西安工业大学光电工程学院,陕西西安 710032摘要:光学零件加工过程中引入的亚表层损伤会直接影响到光学零件的使用寿命、长期稳定性、成像质量等重要性能指标。

因此研究适用于光学表面亚表层损伤的检测技术是当今光学工程领域研究的一个热点问题。

本文基于激光散射和共聚焦成像原理的非破坏性检测方法对研磨后的零件表面进行亚表层损伤检测,获得零件表面粗糙度和亚表层三维立体图。

通过对实验结果的讨论,分析了磨粒直径大小对表面粗糙度和亚表层损伤深度的影响,验证了光学材料研磨后亚表层损伤深度和表面粗糙度呈单调递增的非线性关系。

关键词:亚表层损伤;表面粗糙度;激光散射;共聚焦成像;1.引言光学零件的加工包括锯切、粗磨、精磨和抛光等工序。

由于磨削力的作用,每道工序都将使表面产生裂纹,这些裂纹会深入到表面下一定深度,使光学零件产生亚表面损伤。

亚表面损伤层包括缺陷层和变形层,如图1所示,缺陷层由划痕、裂纹和嵌入的加工介质等组成,变形层主要是裂纹尖端应力场产生的残余应力区,因此又被称为亚表面残余应力面[1-2]。

缺陷层中的亚表面裂纹会降低光学零件的使用寿命、长期稳定性、成像质量、镀膜质量和抗激光损伤阈值。

而亚表面残余应力层中的拉应力,可能在后续的加工过程中引发裂纹。

由于亚表层损伤对光学系统性能的严重影响,光学零件亚表层损伤检测方法成为光学加工领域的热点问题。

近年来,亚表层损伤检测技术发展较快,按照对零件表面的影响程度可分为破坏性检测和非破坏性检测。

破坏性检测方法有化学腐蚀法、截面显微法和磁流变抛光斑点技术等;非破坏性检测方法有基于强度检测的全内反射法、光学相干层析技术和激光射线法等。

破坏性检测方法指部分或全部破坏试件,使所要检测的损伤得以体现,然后再根据具体条件计算所要的测量结果,但这些方法均会给被测零件带来损伤,测量的结果也受到测量方法自身因素的影响,并且测量时间比较长,因此具有很大的局限性[3];非破坏性检测方法中的全内反射法是基于强度检测的方法,比较直观,但是只能用于定性观察,不能准确的测量亚表层损伤深度和损伤分布;光学相干层析法的核心是迈克逊干涉仪,由于光学表面亚表层损伤产生的散射光很微弱,为干涉图采集和处理带来了很多困难[2];激光散射法是近年来发展迅速的一种非破坏性检测方法,激光照射被测件,如果被测件存在微小缺陷,微缺陷将会形成散射中心,从而引发散射光,记录光的散射图样,就可得到缺陷的图像,从而可推断内部缺陷的分布[5]。

本文基于激光散射原理的非坏性检测方法,采用五波长共聚焦显微镜对研磨后的零件表面进行亚表层损伤检测。

基金项目:陕西省教育厅项目(08JZ30,09JK487)图1:亚表层损伤示意图2.基于激光散射的测量原理2.1 激光散射光散射是指光线通过不均匀的介质而偏离其原来的传播方向,散开到所有方向的现象[6]。

如图2所示,看到一束光入射到某介质后,后向散射光按照散射次数和角度,可以分为四部分。

第一部分光为单次散射光,它只在介质中散射了一次,而且带有丰富的散射点信息;第二部分光的最大特点是散射光远离了入射方向;第三部分光虽然只散射了一次,但是它穿透了其他的物体,导致它的相位信息被严重干扰;第四部分光为多次散射光,但是它的后向散射角却很小。

这几部分光在一定程度上都反映了被照射介质的内部信息,其中第一部分光的信息最为丰富和完全,第四部分光是影响图像对比度的主要因素,因为它经过多次散射,然后进入了接收系统,第三部分光也影响对比度,第二部分光是漫反射光。

如果要对被照射介质的内部细节成像,最好是能采集到第一部分光,但是这种光比较微弱,并且所能探测的深度有限。

因为越往介质深处,单次散射发生的几率就越小,为了提高对第一部分光的应用效率,就要想办法把其它部分的光去掉。

可以明显的看出图2中第二部分光的出射位置离入射光斑比较远,出射角度远离了入射光的方向,在这样的情况下,只有限制接收光的位置,或者限制接收光的角度,就可以把第二部分离轴出射光去掉。

2.2共聚焦显微成像共聚焦显微系统是一种应用极为广泛的成像工具。

在结构上与普通的光学显微镜相比最主要特点是采用了点探测器,也就是在采集光路中放置了一个共聚焦针孔,用来限制离轴光的进入。

如图3所示,共聚焦显微镜中共焦光路(实线)和离焦光路(虚线),可以看到,只有共焦面上的光才能全部通过共聚焦针孔,而离焦面的光大部分都被共聚焦针孔挡住了。

共聚焦系统能够抑制共焦点以外的光线进入探测器的感光面,因而提高了系统的分辨率。

图2:光波在介质中的散射类型图3:共聚焦显微系统中共焦光路和离焦光路2.3基于激光散射的共聚焦测量原理实验采用日本lasertec 公司OPTELICS S130五波长共聚焦显微镜作为检测设备,其光学原理示意图见图4。

共聚焦显微镜利用放置在光源后的照明针孔S 和放置在检测器前的探测针孔P 实现点照明和点探测,来自光源的光通过照明针孔发射出的光聚焦在样品焦平面O 点上,该点所发出的光成像在探测针孔内,该点以外的任何发射光均被针孔阻挡。

照明针孔S 与探测针孔P 对被探测点O 来说是共轭的,因此被探测点O 即就是共焦点,被探测点所在的平面即为共焦平面。

通过探测针孔P 的光信号被光接收系统捕获后,转化为电信号输送至电脑,在屏幕上呈现为清晰的整幅焦平面图像。

通过计算机数据处理,可以得到被测试件的三维立体图和数据图。

图4:共聚焦显微系统原理图3.试件制备与实验测量3.1试件制备试件材料为石英玻璃毛坯,直径15mm ,厚度5mm ,共九片。

使用陕西省薄膜与光学检测重点实验室Jp350D 型综合加工机床,完成从毛坯到成品的整个工序,加工过程中金刚砂磨料粒度分别为W40、W20和W7。

具体的加工步骤如下:(1)首先用弹性上盘方法将实验用的九片毛坯玻璃上盘,形成加工镜盘;(2)对这九片毛坯玻璃镜盘进行粗磨,使用的磨料为W40的金刚砂,加工时间为20分钟;取出其中的三片并标记为1、2、3号,(3)清洗加工机床;对剩余的六片零件使用W20的金刚砂继续磨削20分钟,再取出其中的三片并标记为4、5、6号;(4)清洗加工机床,对剩余的三片用W7的金刚砂继续研磨20分钟,最后标记为7、8、9号;(5)用弹性上盘方法把磨削好的九个零件同时进行抛光,抛光时间为60分钟;(6)下盘、清洗并储存,用以后续测量;3.2测试过程:1.首先在载物台上放置标准调试片,选择20×显微镜,对标准零件表面进行聚焦,当计算机上出现清晰图像时,选择在共聚焦情况下进行仪器水平调试;2.水平调试完成后,开始进行零件表面测量。

由于零件表面的加工工艺有区别,所以可以分别选用不同放大倍率的显微镜和不同的波段进行测量。

当计算机屏幕上出现清晰图像时,选择在共聚焦情况下进行测量,根据测量目的不同,选择不同的测量范围;3.每个零件表面的测量项目是一致的,所以分别对每个零件表面进行相应的测量,得到零件表面的粗糙度信息、三维立体图和纵向数据图等。

通过随机附带的LM eye Software Manualf分析软件,可以得到被测零件表面的粗糙度和亚表层损伤情况。

4.测量结果及分析4.1从表面粗糙度预测亚表层损伤深度因为试件制备过程采用了3种不同的加工工艺,每一组的加工过程选用的研磨砂磨粒直径不同,按照文献[7]所述,脆性材料在加工过程中,试件的表面粗糙度和磨粒直径有着密切的关系,即表面粗糙度随着磨粒直径的增加而线性增加。

表1:零件表面粗糙度数据序号零件表面1 零件表面4 零件表面7Ra(um)8.91 5.859 1.069 Rv(um)125.743 80.042 22.032 表1是3类零件表面表面粗糙度数据,图5~图7是零件1、4、7的表面粗糙度的共焦图像。

根据图表的数据分析,零件1的Ra(轮廓的算术平均偏差)值是8.91,且表面粗糙度最为明显;零件4的Ra值是5.859,表面粗糙度没有零件1明显;零件表面7的Ra值是1.069,表面粗糙度很小,不仔细观察,是很难发现的。

上述结论与文献[7]得出的结论是一致的。

图5:零件1表面粗糙度图6:零件4表面粗糙度图7:零件7表面粗糙度国防科技大学提出通过测量光学表面粗糙度来预测亚表层损伤,称为亚表层损伤/表面粗糙度(SSD/SR)比例模型预测预报法。

在这个方法中,亚表层损伤深度与表面粗糙度成单调递增的非线性关系(SSD~SR4/3)。

就是说通过观察和测量零件表面的表面粗糙度就可以估算出零件表面的亚表层损伤深度。

根据(SSD~SR4/3)方法来预测,那么零件1的亚表层损伤深度是最大的,零件7的亚表层损伤深度是最小的。

4.2亚表层损伤深度分析按照亚表层损伤/表面粗糙度(SSD/SR)比例模型预测预报法,零件1的亚表层损伤深度应该是最大的,零件7的亚表层损伤深度是最小的,零件4的亚表层损伤深度介于零件1和零件7直间。

图8~图10是零件1、4、7的三维立体图和纵向数据图,每幅图都呈现出从表面位置往下裂纹逐渐降低,并且裂纹密度也逐渐减小。

图8a中裂纹很密,100nm左右的裂纹居多,从表面位置往下裂纹的长度在逐渐减小,并且裂纹密度也在减小,图8b纵向数据图中,裂纹比较宽,其中最长的裂纹约有200nm;图9a中零件4的的裂纹深度大约为75nm左右,从表面位置往下裂纹的长度在逐渐减小,并且裂纹密度也在减小,与图8a中的零件1比较,裂纹的宽度有所降低。

图9b纵向数据图中显示,从表面以下25nm左右的裂纹是一条直线,而75nm左右的裂纹就比较的宽了,其中最长的裂纹约有100nm;图10a可以看出零件7的裂纹深度为10nm左右,还存在少数裂纹深度为30nm左右的条纹,图10b纵向数据图中从表面位置往下裂纹的密度在减小,图中最长裂纹有30nm左右。

分析以上测量数据得出:零件1的亚表层损伤深度(200nm),零件4的亚表层损伤深度(100nm);零件7的亚表层损伤深度(30nm);通过以上比较,可以说明五波长共聚焦显微镜测量得到的亚表层损伤深度和SSD/SR比例模型预测预报法得到的结果是一致的。

图8a:零件表面1的三维立体图 图8b:零件表面1的纵向数据图图9a:零件表面1的三维立体图 图9b:零件表面1的纵向数据图图10a:零件表面1的三维立体图图10b:零件表面1的纵向数据图5.结论本文利用五波长共聚焦显微镜测量研磨加工过程中引入的亚表层损伤。

从实验得到的图像中分析了加工过程中磨料直径大小和表面粗糙度之间的关系、以及被测零件表面的表面粗糙度与亚表层损伤深度之间的关系。

得到如下结论:1.验证了在同样的加工工艺条件下,光学零件加工过程中研磨磨粒直径的大小对加工试件的表面粗糙度的影响,且加工试件的表面粗糙度和磨粒直径成一定的比例关系;验证了SSD/SR比例模型预测预报法,即光学零件的表面粗糙度越大,亚表层损伤深度越深。

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