GaN基LEDs可靠性分析#优选、
GaN基LED芯片的光效提升研究

第42卷第4期2021年4月激光杂志LASER JOURNALVol.42,No.4April,2021 GaN基LED芯片的光效提升研究崔悦J许英朝'J刘春辉2,林苗茜-李洋洋-陈浩I'厦门理工学院电气工程及其自动化学院,厦门361024;2厦门理工学院光电与通信工程学院,厦门361024;'厦门理工学院福建省光电技术与器件重点实验室,厦门361024摘要:GaN基LED芯片具有制备工艺简单、低成本、良率高等优点,提高LED芯片的出光效率已成为国内外专家的研究重点。
采用tracepro软件,并基于蒙特卡洛法对ITO表面具有微孔结构的LED芯片的光萃取效率进行模拟仿真,相比ITO层没有微孔结构的LED芯片,有微孔结构的LED芯片的光萃取效率有明显的提升。
通过光刻技术和湿法蚀刻技术制备ITO厚度为30nm的LED芯片,在ITO层制作周期微结构。
通过光电性检测,在通入20mA电流时,相比IT0层没有微孔结构的LED芯片,有微孔结构的LED芯片样品的输出光功率分别提高3.9%、6.76%和4.66%,并在此基础上优化了的电极结构,使电流密度分布均匀得到有效提升。
关键词:LED芯片;ITO;tracepro;微孔结构中图分类号:TN383文献标识码:A doi:10.14016/ki.jgzz.2021.04.031Research ofluminous efficiency of GaN-based LED chip improvementCUI Yue',XU Yingchao2'3,LIU Chunhui2,LIN Miaoqian1,LI Yangyang1,CHEN Hao1 1School of Electrical Engineering and Automation Xiamen University of Technology,Xiamen361024,China;2School of Optoelectronics and Communication Engineering,Xiamen University of Technology,Xiamen361024,China;3Fujian Key Laboratory of Optoelectronic Technology and Devices,Xiamen University of Technology,Xiamen361024,ChinaAbstract:The GaN-based light-emitting diodes(LED)have been comprehensively studied because of the benefits of easy preparation,reasonable cost and high production.The Monte Carlo method was simulated the light extraction efficiency of GaN-based LED chips by Tracepro software.The simulation of LED chips results shows that the micropore structure availably promotes the light output efficiency of LED chips.LED chips of the ITO layer with a thickness of30nm were fabricated by photolithography and wet etching.The experiment results show that the light output power of LED chips with different microporous structure undercurrent of20mA increased by3.9%, 6.76%and 4.66%compared with the LED chip with no microporous structure in the ITO layer.It is firmed that the periodic microstructure in the ITO layer can availably promote the output optical power of LED.The uniformity of the current density distribution was promoted by the electrode structure optimised.Key words:LED chip;ITO;tracepro;microstructure收稿日期:2020-ll-15基金项目:福建省自然科学基金面上项目(No.2019J01876);福建省教育厅中青年教师教育科研项目资助省属高校专项(No.JK2017036);厦门市科技计划项目(No.3502Z20183060);厦门市科技计划重大项目(No.3502ZCQ20191002)作者简介:崔悦(1995-),女,在读硕士生,主要研究方向为智能照明电器与光电子器件。
GaN基发光二极管寿命测试及失效分析

收稿日期:2006-10-21.基金项目:国家自然科学基金资助项目(60506012);北京市教育委员会基金项目(KZ200510005003);北京市人才强教计划项目(05002015200504);国家/9730计划资助项目(2006CB604902).光电器件GaN 基发光二极管寿命测试及失效分析周跃平,郭 霞,王海玲,高 国,沈光地(北京工业大学北京光电子实验室,北京100022)摘 要: 将来自相同外延片和相同制作工艺的30只GaN 基绿色发光二极管管芯分成3组,分别加30、40和60mA 电流进行不同时间的老化试验。
在老化之前和老化期间测量了器件的光输出功率和I 2V 特性。
将测得的光输出功率数据对时间进行指数函数拟合,得到了每一组器件的退化率及寿命,并推出器件在正常使用条件下的寿命。
实验数据分析表明在电流应力作用下,GaN 基绿色发光二极管的正向电压随着老化时间的增加单调上升,同时光功率下降。
在60mA 下老化的管芯的串联电阻退化严重。
对失效器件进行了失效机理分析。
关键词: 发光二极管;电压降;退化;寿命测试;失效中图分类号:T N31218 文献标识码:A 文章编号:1001-5868(2007)03-0345-04Life Tests and Failure Analysis of GaN 2based LEDsZH OU Yue 2ping,GU O Xia,WANG H ai 2ling,GAO Guo,SH EN Guang 2di(Beijing Optoelectr onic Technology Lab 1,Beijing Univer sity of Technology,Beijing 100022,CHN)Abstr act: T hree groups of GaN 2based gr een LED chips which were taken from the same expitaxy and were made with the same manufacturing processes have been biased at different DC for ward cur rents:30mA,40mA,60mA at room temper ature for different time.The optical properties and I 2V characteristic of these chips were measured befor e and during the aging test.The data of light output power were fitted as exponential function on the time index and the degradation rates of every group chips wer e obtained,and then the life time of ever y group chips using under normal conditions was extrapolated.T est data analysis showed that the forward voltage of the GaN 2based chips aged under electric stress increased monotonously with time meanwhile the light output power decreased.T he series resistance of chips aged under 60mA DC current degraded badly.And failure mechanism for the failure chips was analyzed.Key words: LED;forwar d voltage;degradation;life test;failure1 引言GaN 基发光二极管在平板显示及固体光源等领域得到了越来越广泛的应用[1,2]。
GaN基发光二极管的寿命测试与可靠性分析的开题报告

GaN基发光二极管的寿命测试与可靠性分析的开题报告
一、选题背景及意义
随着半导体发光二极管(LED)的广泛应用,如照明、显示、通讯等领域,对其寿命和可靠性的要求越来越高。
比如,在汽车照明领域中,发光二极管必须满足高温、高湿、
高振动等复杂环境的要求,因此需要对其进行严格的寿命测试和可靠性分析。
而GaN
基发光二极管因其具有优异的电学性能和光学性能,在上述应用方向中得到了广泛的
应用。
因此,对GaN基发光二极管的寿命测试和可靠性分析具有重要作用。
二、研究内容和方法
本篇开题报告拟从以下几个方面进行研究:
1、GaN基发光二极管寿命测试:采用加速寿命测试方法,通过高温、高湿、高电流等条件下对GaN基发光二极管进行寿命测试,记录其退化过程和破坏形态,并分析其寿命规律和影响因素。
2、GaN基发光二极管可靠性分析:通过分析制备工艺、器件结构、耐受电压等因素对GaN基发光二极管的影响,对其可靠性进行分析,探究其可靠性提升的途径。
3、GaN基发光二极管寿命测试系统的建立:搭建完整的GaN基发光二极管寿命测试
系统,包括测试环境控制、测试方法设计、数据采集和分析等部分,实现对GaN基发光二极管寿命测试的快速、准确、可靠的测量。
四、预期成果及意义
本研究拟实现对GaN基发光二极管的寿命测试和可靠性分析,探究相关器件退化过程和规律,为其在实际应用中提高可靠性提供重要的参考和依据。
同时,本研究还将建
立一套完整的寿命测试系统,为从事相关研究和产品开发的企业提供技术支持和服务。
GaN基光子晶体型LED

光子晶体型GaN基LEDXXX(XXX)摘要本文从光子晶体的性能及聚焦离子束技术制备GaN基二维八重准晶光子晶体等方面指出了近年在GaN基光子晶体型LED方面研究的主要进展。
GaN基材料系的刻蚀速率主要取决于聚焦离子束的束流,而与时间无关。
制备时可在10pA至500pA离子束流范围内,通过改变放大倍数、扫描区域、离子束流和刻蚀时间等参数来调整刻蚀的孔径、深度和刻蚀区域大小。
关键词GaN;LED;二维光子晶体;准晶;聚焦离子束刻蚀;出光效率Photonic crystal-type GaN-based LEDXXXXXXAbstract This title show about the performance of photonic crystals and the Focused Ion Beam Fabrication of GaN-based two-dimensional photonic quasicrystals. All of these point out the main research progress of GaN-Based photonic crystals LED in recent years. GaN-based materials depends primarily on the Department of etch rate of the beam focused ion beam instead of the time. When the ion beam range in 10 pA to 500 pA. To adjust the etching parameters such as aperture, depth and size of the etched area, we can make it by changing the magnification, scanning the region, ion beam, and etching time.Key words GaN; LED; two-dimensional photonic crystals; quasicrystals; focused ion beam etching; light extraction eficiency进入21世纪以后环保和节能成为市场热点,LED行业也开始升温。
垒结构对硅衬底gan基绿光led性能的影响

摘要GaN基LED凭借其可控的全色光谱能隙以及优良的物理化学性能,在各种照明、背光等领域有着广泛的应用前景,已逐步成为新一代绿色照明光源。
目前LED照明的主流技术方案是“蓝光LED+黄色荧光粉”合成白光,虽然可以获得较高的光效,但色温、显色指数等色品质不佳。
为了获得真正意义上的高品质LED照明光源,白光需要采用全LED混光来实现,即采用红、绿、蓝三基色LED (RGB)获得白光,这样就可以实现低色温、高显色指数以及高效率的完美结合。
而目前绿光的发光效率远远落后于蓝光和红光LED,学术界称之为“Green gap”,这也成为实现RGB白光光源的主要技术瓶颈。
因此,进一步提升绿光LED量子效率成为近几年LED领域的研究热点。
与垒之间的晶格失配导致量子阱中存在较大应力,这种应力对绿光LED的光电性能有明显影响,但一直没有统一的认知。
基于硅衬底LED技术平台,本文通过改变垒结构较为系统地研究了垒对硅衬底绿光LED应力、光电特性、结温特性以及老化特性的影响。
获得了以下研究成果:1)采用高分辨率X射线衍射(HRXRD)测试了三种不同垒结构(垒中含InGaN、垒含AlGaN以及全GaN垒)的Si衬底GaN基绿光LED外延薄膜(1015)面非对称衍射倒易空间分布图,定性的表征了三种结构量子阱的应力状态,结果表明,垒层中引入InGaN和AlGaN均能明显减小绿光量子阱所受的压应力,其中引入InGaN时所受压应力最小。
2)将上述三种垒结构的Si衬底GaN基绿光LED外延片制作成垂直结构芯片,研究了其变温电致发光(VTEL)性能,结果表明:在同一温度下,随着电流密度的增加,三种结构的EL峰值波长均发生蓝移,但程度存在差异。
环境温度为低温13K时,随着电流密度的增加,垒中含AlGaN的蓝移量大于全GaN垒,全GaN垒和垒中含InGaN的蓝移量相近。
在环境温度为300K(室温)时,蓝移量的大小也不同,大小关系为:全GaN垒大于垒中含AlGaN,垒中含AlGaN又大于垒中含InGaN。
GaN基LED芯片可靠性优化技术探究

GaN基LED芯片可靠性优化技术探究作者:解鹏涛来源:《科技创新与应用》2015年第20期摘要:在目前传统的GaN发光二极管中,因为发光部产生的热量无法得到有效的释放直接导致热量出现不断累加的情况致使LED芯片出现了严重的恶化。
文章主要探讨了GaN基LED具体芯片自身可靠性优化技术的相应研究,分别讲述了具体的研究方案以及实验结果等内容。
关键词:GaN;LED芯片;可靠性;优化技术;研究文章主要讲述了侧壁具有较强导热保护层的GaN基LED结构,这种结构能够实现侧壁出现表面钝化,最终改变整个器件具有的发热特性,利用较高电流对各种绝缘材料自身的保护层以及LED开展老化的相应实验,综合分析输出功率随时间变化存在的各种关系并实施侧壁保护针对LED具体可靠性的相应研究。
同时最终的实验结果证明GaN基发光二极管自身功率速度变化仍然比较缓慢,并且证明AlON材料保护层的LED具体的光输出功率发生的老化现象比较缓慢,这种保护层有助于提升LED芯片具有的可靠性。
主要是由于AlON这一材料自身具有较强的导热性,同时能够有效的促进LED热量的实际疏散。
与此同时这种材料具有较强的钝化作用,能够有效的减少LED自身的悬挂键,能够有效的提升器件自身具有的可靠性。
1 研究方案1.1 结构模型文章主要针对发光芯片在整个侧面位置出现导热性较强的保护膜能够有效传导存在的热量并不断降低边缘出现的局部高温,同时利用表面钝化有效减少出现的悬挂键。
其中制定的GaN 基LED具体结构示意图如图1所示。
图1 含侧壁保护层LED基本结构示意图文章具体的研究方案:首先,制定没有保护层的GaN基LED,同时进行相应可靠性的具体测试。
其次,在传统结构的基础之上建立保护层并进行相应的可靠性分析。
1.2 LED基本制作工艺文章主要在传统LED基本结构的侧壁位置形成相应的保护层,从而不断改善器件自身具有的可靠性。
同时,首先需要制造的就是具有传统结构的LED基本器件。
GaN基白光LED可靠性研究与失效分析

GaN基白光LED可靠性研究与失效分析宋嘉良;文尚胜;马丙戌;符民;胡捷频;彭星;方方;廖少雄;康丽娟【摘要】针对LED样品检测中的样品短路失效、LED光源黑化、光通量下降和芯片表面通孔异常现象,采用金相切片、机械微操、静电测试等方式结合扫描电镜和能谱仪(EDS)等表征手段对失效机制进行了分析,揭示了LED失效原因.包括镀层银离子与杂质硫离子导致光源黑化;芯片抗静电电压低,部分样品发生静电击穿;失效芯片通孔下面的Ni-Sn共晶层存在大量空洞,使得复杂结构的芯片通孔应力不均,样品工作时芯片表面开裂破碎,从而导致PN结短路失效;封装胶中残存的杂质离子腐蚀芯片负电极导致电极脱落而出现漏电、光衰和死灯等现象.【期刊名称】《发光学报》【年(卷),期】2018(039)012【总页数】9页(P1705-1713)【关键词】LED;可靠性分析;电极;芯片;封装【作者】宋嘉良;文尚胜;马丙戌;符民;胡捷频;彭星;方方;廖少雄;康丽娟【作者单位】华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,广东广州 510640;华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,广东广州 510640;华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,广东广州 510640;华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,广东广州 510640;华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,广东广州 510640;复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心,上海 200433;广东金鉴检测科技有限公司,广东广州 511300;广州虎辉照明科技公司,广东广州510170;华南师范大学美术学院,广东广州 510631【正文语种】中文【中图分类】TN312.8;TN304.21 引言发光二极管(Light emitting diode,LED)作为一种新型光源,具有绿色环保、光电转化效率高、寿命长、工作电压低、响应速度快等优点,在显示、通信和照明等领域有良好的应用和发展前景,具有极高的受关注度[1-3]。
Si衬底LED芯片制造和封装技术

Si衬底LED芯片制造和封装技术引言1993年世界上第一只GaN基蓝色led问世以来,LED制造技术的发展令人瞩目。
目前国际上商品化的GaN基LED均是在蓝宝石衬底或SiC衬底上制造的。
但蓝宝石由于硬度高、导电性和导热性差等原因,对后期器件加工和应用带来很多不便,SiC同样存在硬度高且成本昂贵的不足之处,而价格相对便宜的si衬底由于有着优良的导热导电性能和成熟的器件加工工艺等优势因此Si衬底GaN基LED制造技术受到业界的普遍关注。
目前日本日亚公司垄断了蓝宝石衬底上GaN基LED专利技术,美国CREE公司垄断了SiC衬底上GaN基LED专利技术。
因此,研发其他衬底上的GaN基LED生产技术成为国际上的一个热点。
1Si衬底LED芯片制造1.1技术路线在si衬底上生长GaN,制作LED蓝光芯片。
工艺流程:在si衬底上生长AlN缓冲层一生长n型GaN-生长InGaN多量子阱发光层-生长P型AlGaN层-生长p型GaN层-键合带Ag反光层并形成p型欧姆接触电极一剥离衬底并去除缓冲层一制作n型掺si层的欧姆接触电极一合金―钝化一划片一测试一包装。
1.2主要制造工艺si衬底GaN基LED芯片结构图见图1。
图1si 衬底GaN 基LED 芯片结构图从结构图中看出,si 衬底芯片为倒装薄膜结构,从下至上依次为背面Au 电极、si 基板、粘接金属、金属反射镜(P 欧姆电极)GaN 外延层、粗化表面和Au 电极。
这种结构芯片电流垂直分布,衬底热导率高,可靠性高;发光层背面为金属反射镜,表面有粗化结构,取光效率高。
1.3关键技术及创新性用Si 作GaN 发光二极管衬底,虽然使LED 的制造成本大大降低,也解决了专利垄断问题,然而与蓝宝石和SiC 相比,在Si 衬底上生长GaN 更为困难,因为这两者之间的热失配和晶格失配更大,si 与GaN 的热膨胀系数差别也将导致GaN 膜出现龟裂,晶格常数差会在GaN 外延层中造成高的位错密度;另外si 衬底LED 还可能因为si 与GaN 之问有0.5v 的异质势垒而使开启电压升高以及晶体完整性差造成P 型掺杂效率低,导致串联电阻增大,还有si 吸收可见光会降低LED 的外量子效率。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
GaN基LEDs可靠性分析(一)引言由于GaN基LEDs的高效率(对于白光LEDs 光功率可达150 lm/W),长寿命(在实验条件下寿命可达10万小时)[]1,低成本,以及对于击穿和静电放电高的忍耐力,它代表了下一代光源几乎所有的理想特性,是半导体照明中的明星产业。
随着对GaN材料的深入研究以及半导体工艺的新进展,目前半导体发光二极管已经向高效率高亮度方向迅速发展,其应用领域也越来越广,包括指示灯、交通信号灯、液晶背光源、显示屏、半导体照明等。
由于其应用领域日趋广泛,发光管的可靠性研究显得日趋重要。
白光LEDs主要由五部分构成:如图(一)所示:(1)有量子阱的半导体芯片;(2)封装材料确保其有高的机械强度和低的热阻;(3)为了达到最佳光提取效果的透镜;(4)把LEDs芯片发出的蓝光转化成白光的磷层;(5)为了获得有效热传输的铜构架。
图(一)白光LEDs的结构简图以上所有的部分都会随着LEDs寿命出现不同程度的退化,潜在的限制了器件的寿命。
在过去的几年里已经有不少人提出GaN基LEDs的光输出会随着使用时间出现很大的退化。
大量的机理被证明会减低LEDs的光输出,例如:2-;(1) 由于器件有源区中非辐射复合的增加,使得内量子效率减低[]10(2) 注入载流子在有源区中的反向隧穿电流[]4;(3) ESD使得p-n结变短;(4) 由于塑料透镜与LEDs发出的短波相互作用,达到一定高温,使透镜性能退化;(5)在一定的高温条件下,磷层的棕变。
当电流流过LEDs 器件有源区,或者达到一定的高温操作,或是置于反偏电流及ESD 条件下都可能使退化机理被激发或加剧,并且所有这些因素在LEDs 的正常操作过程中都有可能发生。
在正常操作条件下,LEDs 能够达到相对高的能量扩散(21mm -的LEDs 能够耗散2-4W 的电功率),进而达到相对高的结温(>C C ︒-︒10080)。
在高温下能够强有力的影响LEDS 的寿命,因为以上所列的许多衰减机理都是由热激发的。
当GaN 基LEDs 用于需要严格控制电流的情况下时,必须确保它有很强的防静电放电能力。
本文在目前的研究基础上,综述研究了GaN 基LEDs 的衰退及失效机理。
在大量的加速寿命试验的基础上,对LEDs 不同部分的失效进行了深入的研究。
本文给LEDs 技术的不足以及设计和评测LEDs 提供了重要的信息。
该实验的测试样品是商业上用的多量子阱GaN基LEDs.我主要从两个方面介绍影响LEDs 可靠性的机理,一个是直流正向偏置下有源区非辐射复合的增加,另一个是反向偏置下LEDs 的衰减机理。
在这之前先介绍一点基本概念及LEDs 的基本结构。
第一个寿命测试--加速寿命试验(ALT):加速寿命试验就是使产品的寿命缩短,其主要机理就是让器件所工作的应力水平比实际正常使用中经历的应力要高,有效地激发产品暴露故障,从而缩短由特定失效杌理所引起的器件失效的正常时间,再根据外推公式,推算器件在正常使用条件下的寿命。
发光二极管是在正向偏置下使用,功耗低,它的失效主要是表现在性能的退化,特别是光输出的退化。
大部分采用电流、温度作为LEDs 加速寿命试验的加速应力,来评估LEDs 的寿命,研究LEDs的可靠性。
LEDs 的基本结构如下图(二)所示,GaN 基LEDs 常用蓝宝石作为基片,然后长一层无残掺杂的GaN 主要是为了降低外延层的位错密度及使热膨胀系数。
有源区是InGaN/GaN 的多量子阱结构。
图(二)LED 的基本结构如下图(二)GaN 基LEDs 的失效机理以下主要从两个对LEDs 可靠性的进行了分析,一个是正向直流偏置下有源区非辐射复合的增加,另一个是反向偏置下LEDs 的衰减机理。
每一种失效机理都是在大量实验的基础上得来的。
样品是商业上的可见的LEDs ,对有源区退化的研究是在裸芯片上进行的,并安装在T018的金属插件上。
实际应用中利用环氧封装的灯由于环氧材料以及封装所引入的损伤使得器件的寿命要比此值低。
对在反向偏置电流下LEDs 的衰退是在裸芯片和封装下都进行的。
每一种衰减机理都是在特殊的应力条件下进行的。
电压应力就是你应用中的电压与零件规格值的比值。
电流应力就是应用中的电流与零件规格值的比值。
A 非辐射复合的增加在LED 发展的早期,就有作者提及LEDs 随直流电应力的衰减是由于增加了器件有源层中的缺陷,这些缺陷导致非辐射复合率的增加,从而使光功率下降[]62-。
这一过程典型的特点是I-V 特性曲线中缺陷相关的电流成分的增加[]102-。
在没有很强自加热的LEDs 中,即使在低电流下这种衰减也会发生[][]10,6。
为达到器件的最佳可靠性,了解这一现象的物理起源尤为重要。
图(三)a 在不同的电流密度下,光功率随着样品老化时间的增加而出现不同程度的降低; b 在老化试验中,外量子效率随电流密度的变化曲线。
(电流应力2/85cm A ,室温)为了达到这一目的,我们在持续电流下进行了一系列应力测试。
该分析是在大量的,不同参数的蓝绿LEDs 的裸芯片上进行,这些芯片被安装在T018插件上。
然后,我们得到了一组绿光LEDs 上的结果,该组LEDs 是有多量子阱(发光区532nm ,有GaN 势垒)。
然后在室温条件下器件被置于持续的电流应力下(电流密度为35-852/cm A ):在电流应力下,结温不超过C o 100。
因此温度应力符合LEDs 的正常操作范围(最大结温不得超过C o 125)[]11。
所以以下描述的衰退机理都代表正常操作条件下LEDs 的衰退机理。
在电流应力在2/85cm A 室温条件下,对LEDs 进行加速寿命实验。
通过测量I-V,C-V 及光功率随电流的变化(L –I ),我们分析了LEDs 的光电特性。
图(三)a 是在电流应力为2/85cm A ,寿命测试时间为1000小时,光功率随电流的变化即(L –I )。
图(三)b 是同一个LED 在不同测试阶段,内量子效率随电流的变化曲线。
如图1(a )所示再在低的电流应力下,LED 发出的光功率显著减少。
另一方面,对于高的测试电流(2/60cm A ),随着老化时间的增加,LED 的光功率并没有探测出明显的变化。
这一结果显示应力导致了LED 有源区非辐射复合中心的产生[]12[]13,再低的测试电流下,这些复合中心能够俘获注入的载流子并使其通过非辐射复合中心复合。
另一方面,在高的测试电流下,复合中心会因为高密度的注入载流子而饱和,这样他就不能有效地限制LED 的内量子效率。
这一结果使得η−I 特性曲线在低电流下发生了偏移,并且由于增加了非辐射复合,使得器件的最大外量子效率减小。
相似的衰退机理已经在文献中被报道过了[]6[]9,并被解释成如下机理:(1)通过光电分光技术和噪声测试分析得出靠近有源区的非辐射缺陷增加[]9(2)Mg 相关的络合物通过分解扩撒到器件的有源区。
(3)器件的有源区产生了氮空位[]6。
所有这些机理都会增加非辐射复合率,因此引起LEDs 光谱的衰减。
图(3)对于样品的I –V 特性曲线进行细致的分析可以看出直流应力也能够使得反向电流和(V <2 V)的正向偏置电流增加。
图三的结果支持了假说即:应力能够增加样品中有源区缺陷的增殖[]9。
图(四)同一样品,加应力前后的I-V 特性曲线。
电流应力为2/85cm A 。
为了进一步了解该衰退过程的起源,通过C-V 测量,我们有分析了带电载流子在LEDs 有源区的空间分布。
图五是在电流应力为2/85cm A ,室温条件下,其中一只LED 的C-V 曲线变化。
黑色的线代表应力之前的特性曲线。
插入的图是由C-V 曲线外推出的可视电荷(ACD )的分布简图[]14。
由于P 型区相对于N 型区是重掺杂的,且空间电荷区的宽度与掺杂浓度成反比,所以在该图中只涉及了无掺杂的量子阱区和二极管N 型区。
显而易见,随着电压从2V 减小到-2V ,空间电荷区的边界从A 区偏移到了B 区,A,B 代表电荷的积累点即器件有源区的量子阱区[]14。
当达到更高的反向偏置电流(V<-6V )器件有源区完全耗尽,空间电荷区(SCR )进入了N 型区,即图中所示区域C ,电荷浓度为3171053-⨯-cm 。
如图(五)所示,电压产生了结电容的增加,尤其当电压为-2V<V<2V 时。
如以上所论述,当电压在-2V 和2V 变化时,空间电荷区的边界在有源区内,因此图四的C-V 曲线证明了应力产生了LEDs 有源区内电荷浓度的变化。
图(五)在电流应力为2/85cm A 室温下,样品的C-V 特性曲线。
频率为1MHZ 。
插入的图是由C-V 特性曲线外推出的ACD 简图。
通过计算LEDs 有源区内增加的电荷浓度,这一影响的定量描述如下式所示:dV V C V C qA Q fv v t t ⎰-=∆1))()((10 q 是电子电量,A 是结面积,)(V C t 是应力时间为t 时的结电容,)(0V C 是t=0时的结电容,f V V ,1是测量前后的电压。
在图六中我们得到结论:由于应力,有源区的空间电荷浓度显著增加,很好的吻合了光功率的减低。
这就很好的支持了假说:应力产生样品有源区空间电荷的变化。
图(六)黑线代表在电流应力为2/85cm A ,电流密度为2/10cm A ,光功率随老化时间的变化;红色的圈代表电流应力为2/85cm A 室温时,电荷浓度随老化时间的变化。
有报道表明LEDs 有源区空间电荷的变化与以下相关:1)缺陷浓度的增加[]9;2)空间电荷区(SCR )电荷的重新分配,可能与杂质及掺杂相关。
这些在直流电操作过程中都有可能发生,即使在相对低的结温下。
事实上,在阈值条件下注入样品中的高能载流子也会在有源区内产生缺陷。
另一方面,目前有报道证明杂质和掺杂剂可以向有源区扩散,并表明螺位错在杂质和掺杂剂的扩散过程中起着重要的作用。
有源区中杂质的存在能够增加非辐射复合率,使得LEDs 光功率降低,如Mg 在有源区中时会成为非辐射复合中心。
B 反向偏置电流下的衰减GaN 基 LEDs 的可靠性研究常常在正向偏置电流下做进行,然而置于反向电流下也能使LEDs 产生量的或者灾难性的损坏。
反向偏置能够使GaN 基 LEDs 发生量或者彻底的失效。
在反向偏压下,最主要的失效模式是漏电流增加,进而使击穿电压下降[]4。
在这一节中我们将研究InGaN-based 基LEDs 在反偏压下的失效机理。
在反向偏压下主要的传导机理是是隧穿电流[]4,电流通过大量的局域点流动,这些泄露路径与结构缺陷相关(如螺位错和V 字形缺陷)。
路径通过场发射显微镜很容易被定位,事实上,反向偏置下,注入LEDs 有源层的载流子能产生像点状的辐射发射。