光刻胶 液晶显示材料生产工艺流程
液晶显示器制造工艺流程基础技术
液晶显示器制造工艺流程基础技术一．工艺流程简述：前段工位：ITO玻璃的投入（grading）玻璃清洗与干燥（CLEANING）涂光刻胶（PR COAT）前烘烤（PREBREAK）曝光（DEVELOP）显影（MAIN CURE）蚀刻（ETCHING）STRIP CLEAN）图检（INSP）清洗干燥（CLEAN） TOP涂布（TOP COAT）UV烘烤（UV CURE）固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN）PI PRINT）固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN）丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING烘烤（CUPING FURNACE）喷衬垫料（SPACER SPRAY）对位压合（ASSEMBL Y）固化（SEAL MAIN CURING）1．ITO图形的蚀刻：（ITO玻璃的投入到图检完成）A．ITO玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO玻璃装入传递篮具中，要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求，切记ITO层面一定要向上插入篮具中。
B．玻璃的清洗与干燥：将用清洗剂以及去离子水（DI水）等洗净ITO玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。
C．涂光刻胶：在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理：（如下图）光刻胶膜D．以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。
E．曝光：用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示）UVITOF．显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理。
（如图：）ITOG．坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。
光刻胶生产工艺流程
光刻胶生产工艺流程
光刻胶是一种用于半导体制造中的关键材料，用于制作微型电路芯片。
下面是光刻胶的生产工艺流程。
光刻胶生产的第一步是材料准备。
这包括所有用于制造光刻胶所需的化学物质和原材料的准备。
这些原材料可能包括聚合物、溶剂和添加剂等。
接下来，将原材料按照特定的配方混合。
这一步骤需要精确控制原材料的比例和混合的时间。
混合完毕后，会得到一种具有特定粘性和黏度的胶状材料。
然后，在一个高温高压的反应容器中，将混合物进行凝胶化反应。
这一步会使胶状材料的结构发生变化，形成具有特定结构和性质的凝胶。
接下来，通过涂覆工艺将凝胶涂覆到硅片或其他基板上。
涂覆工艺需要将凝胶均匀地涂敷在基板上，并确保涂层的厚度恰到好处。
然后，通过高温烘烤将涂覆的凝胶干燥。
这一步可以去除涂层中的溶剂，使凝胶形成坚硬的膜。
接下来，利用光刻技术，在涂覆的凝胶上进行曝光。
曝光过程中，将使用一个光面板，上面有特定的图案。
通过曝光，光刻胶会在受光的地方变得更加溶解，形成一个图案。
然后，将曝光后的凝胶进行显影。
显影是通过在特定的化学液体中浸泡凝胶，使光刻胶在曝光时变得更加溶解，从而形成一个精细的图案。
最后，通过烘烤和其他后处理步骤，使图案固化，并去除不需要的凝胶。
这样就得到了一块具有微小图案结构的半导体芯片。
总的来说，光刻胶的生产过程包括材料准备、混合、凝胶化、涂覆、烘烤、曝光、显影和后处理等步骤。
通过这一系列步骤，我们可以制造出高精度的半导体芯片，为电子行业提供了重要的支持。
液晶灌注工艺
喷粉 Spacer Sprayer
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组合段工艺示意图
框胶
定向材料
点胶
定向材料
液晶盒
撑垫剂
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投料 ITO Input
ITO基板经拆封后，阻 值、尺寸、厚度检查确 认无误，以25pcs为一 篮，装入Cassette中， 准备基板清洗制程。
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涂胶前洗净 PR Cleaning
PR 前洗净机之工 程目的在于去除基 上脏点、油污、纤 维以达到PR涂布最 佳效果。
刻前处理
15
蚀刻 Etching
产品进行显影后，准 备蚀刻制程，此制程 将基板上无光阻部份 之ITO利用蚀刻液去 除，成为需要之图形 。
16
回顾图案段工艺示意图
导电材料 玻璃基版
UV光
掩膜版 光刻胶
玻璃基版
光刻胶 光刻胶
KOH显影液 光刻胶
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脱膜 Stripping
剥膜制程，目的将其 ITO基板上剩余光阻 清除，使整片基板上 无光阻覆盖，成为有 ITO图形之基板。
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摩擦 Rubbing
定向制程是利用毛绒 布与配向膜进行同一 角度摩擦得均一之定 向效果。
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回顾定向段工艺示意图
酸 光刻胶
玻璃基版
定向材料
导电材料 玻璃基版
定向材料
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摩擦后洗净 After Rubbing Cleaning
将定向后之基板上的 污垢清除，包括脱落 于上方之毛绒屑，使 基板达至最干净状态 。
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涂胶 PR Coating
ITO基板经洗净后， 通过光阻涂布机，将 光阻均匀涂布于ITO 基板上，以便进行下一 制程。
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预烘 Pre Bake
液晶背板工艺流程
液晶背板工艺流程
液晶背板工艺流程是指制造液晶显示器背板的一系列工艺步骤。
以下是一个典型的液晶背板工艺流程。
第一步：光罩设计和制造
光罩是在背板制造过程中用于制造微细结构的透明玻璃或石英板。
光罩的设计需要根据具体的背板制造要求进行，然后通过光刻工艺制造。
第二步：掩膜制造
掩膜是用于显影过程中保护光刻胶的透明片。
掩膜的制造一般通过将光刻胶涂覆在透明片上，然后用特殊设备将掩膜图案制造出来。
第三步：显影
显影是通过将掩膜图案暴露在光下，然后借助显影液去除掩膜上的光刻胶。
该过程将形成开放的背板结构。
第四步：蒸镀金属
蒸镀金属是将一层金属沉积在背板的表面，用于形成导电膜。
这一步骤能够提供电路的连接和信号传输功能。
第五步：刻蚀
刻蚀是通过将介质材料沉积在背板表面，并用特定的化学反应将其清除，用于制造倒置结构和电路。
第六步：封装
在该步骤中，液晶背板的上下玻璃基板将被封装在一起，形成一个密封的结构。
这可以确保背板的稳定性和保护内部电路。
第七步：测试和质检
在生产完成后，液晶背板将进行全面的测试和质检。
这包括测试电路的功能和性能，并检查背板是否有任何缺陷或损伤。
第八步：包装和出货
通过标准的包装流程，将液晶背板打包，并准备出货。
在这个过程中，要确保背板的安全和防止损坏。
以上是一个典型的液晶背板工艺流程。
当然，具体的工艺流程可能会因制造商和产品不同而有所区别。
不过这个流程的基本步骤和原理是相似的。
液晶背板的制造是一个复杂而精密的过程，需要高度的技术和设备支持。
液晶显示器制造工艺流程液晶显示屏工艺LCD
紫外改质
UV Cure
经过无机材预烤后之 基板，需经过"UV"照 射，使无机材膜预先 固化，防止固烤后表 面空洞产生。
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ＴＯＰ主固化
Main Cure
经过无机材印刷并预 烤之ITO基板，需通 过高温烘烤，使基板 上之无机材膜固化。
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PI前洗净 PI Cleaning
•配向膜前洗净 配向膜前洗净机，彻 底清洗基板表面，脏 点、油污，以达到配 向膜印刷最佳效果。
刻前处理
15
蚀刻 Etching
产品进行显影后，准 备蚀刻制程，此制程 将基板上无光阻部份 之ITO利用蚀刻液去 除，成为需要之图形 。
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回顾图案段工艺示意图
导电材料 玻璃基版
UV光
掩膜版 光刻胶
玻璃基版
光刻胶 光刻胶
KOH显影液 光刻胶
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脱膜 Stripping
剥膜制程，目的将其 ITO基板上剩余光阻 清除，使整片基板上 无光阻覆盖，成为有 ITO图形之基板。
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蚀刻检查 Pattern Inspection
基板剥膜完成后，以 图案检查机确认基板 有无短路& 断路。
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涂TOP
TOP Coating
利用APR凸版将无机 材图形转印于ITO基 板上之出pin 端或面 内，增加产品可靠性 。
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预固化
Pre Cure
经过无机材印刷后之 ITO基板需将印刷在 上方之无机材烤过， 让其中的有机溶剂挥 发。
一、液晶显示器制造工艺流程
液晶显示屏 工艺（LCD）
前工序（生 产一部）
后工序（生 产二部）
图形段
定向段
组合段 切割 灌晶
lcm液晶显示模组生产加工工艺流程
lcm液晶显示模组生产加工工艺流程LCM液晶显示模组是一种重要的电子元件，广泛应用于电视、电脑、手机等各种电子产品中。
在液晶显示模组的生产加工过程中，需要经历多个工艺流程，以确保产品的质量和性能。
下面将详细介绍LCM液晶显示模组的生产加工工艺流程。
LCM液晶显示模组的生产加工工艺流程开始于基板加工。
基板是液晶显示模组的核心部件，一般采用玻璃基板。
在基板加工过程中，需要进行切割、修整、抛光等工艺，以确保基板的平整度和尺寸精度。
接下来是ITO玻璃加工。
ITO玻璃是一种具有导电性能的玻璃，用于制作液晶显示模组的电极。
在ITO玻璃加工过程中，需要进行清洗、蒸镀等工艺，以形成均匀导电膜。
然后是涂布工艺。
涂布是将液晶材料均匀涂布在基板上的工艺，涂布过程中需要控制温度、湿度和涂布速度等参数，以确保液晶材料的均匀性和质量。
接下来是光刻工艺。
光刻是将液晶材料中的光刻胶暴露在紫外线下，形成图案的工艺。
光刻胶的选择和曝光过程的控制对于液晶显示模组的性能和质量至关重要。
然后是薄膜工艺。
薄膜是液晶显示模组中的重要组成部分，用于调节光的透过率和偏振方向。
薄膜工艺包括蒸镀、溅射等工艺，以形成具有特定光学性能的薄膜层。
接下来是封装工艺。
封装是将液晶显示模组的各个组件进行组装和封装的工艺。
封装过程中需要控制温度和压力等参数，以确保封装质量和产品的可靠性。
最后是测试和包装。
测试是对液晶显示模组进行功能和性能测试的工艺，以确保产品符合规格要求。
经过测试后，产品需要进行包装，以便于运输和销售。
LCM液晶显示模组的生产加工工艺流程包括基板加工、ITO玻璃加工、涂布、光刻、薄膜、封装、测试和包装等多个工艺环节。
每个环节的工艺都需要精确控制和严格执行，以确保产品质量和性能。
通过不断改进工艺和技术，可以提高液晶显示模组的生产效率和产品质量，满足市场的需求。
LCD(液晶显示器)工艺流程
1、 偏光片：偏光片有一个固定的偏光轴。
偏光片的作用是只允许振动方向与其偏光轴方向相同的光通过，而振动方向与偏光轴垂直的光将被其吸收。
这样，当自 然光通过液晶盒的入射偏光片（称为起偏器）后，只剩下振动方向与起偏器偏光轴相同的光，即成为线性偏振光。
2、 ITO 玻璃：在平整的玻璃基板上镀了一层氧化铟锡层。
3、 液晶：具有类似晶体的各向异性的液态物质。
4、 取向层：液晶盒中玻璃片内侧的整个显示区覆盖着一层有机物聚酰亚胺取向薄层，这个取向层经用毛绒布定向摩擦，在薄层上会形成数纳米宽的细沟槽，从而 会使长棒型的液晶分子沿沟槽平行排列。
而上下两片玻璃的取向层是相互垂直的。
故在液晶层中间的液晶分子是逐渐扭曲的。
扭曲向列相液晶显示的工作原理 如下图：上图表示了在正交偏光片之间设置 TN 排列液晶盒时的电光效应，在这种情况下，自然光经过偏光片（检偏）后出射垂直振动方向的偏振光，经过 90度扭曲时，偏振方向亦顺着液晶旋转了 90度。
故无外加电压时光能透过，图 5-2-2（a ），而在施加一定电压时，由于液晶分子发生了偏转，分子长轴方向与电场方向一致 ，光的工艺流程 一、LCD 显示基本结构和原理: TN—取向层液晶层_过渡电极电极_--- 偏光片 ——口 °玻璃基板: ---- 电极封接框玻璃 偏光片偏光片 偏光片旋光性消失，光被遮断，图 5-2-2 （b ）o 如果把电极制作成图形，即实现了显示。
但如果在平行偏光片之间设置 TN 排列液晶盒，则光的透过与遮断关系就恰好与上述情形相反。
这种 TN 效应已成为目前正在广泛普及的TN 型液晶显示元件的工作原理并获得实际应用，可以用于实现白色背景上黑色图案或者黑色背景上白色图案的显示。
二、工艺流程简介：液晶显示器主要由ITO 导电玻璃、液晶、偏光片、封接材料（边框胶） 、导电胶、取向层、衬垫料等组成。
液晶显示器制造工艺流程就是这些材料的加工和组合过程。
液晶显示器制造全部过程大体分为 40多道工序，其中实际 TN-LCD 制程有20多道工序。
光刻胶液晶显示材料生产工艺流程
光刻胶液晶显示材料生产工艺流程第一篇：光刻胶液晶显示材料生产工艺流程光刻胶 photoresist又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。
经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。
光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。
光刻胶的技术复杂，品种较多。
根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。
光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。
①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。
②光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。
③光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。
柯达公司的产品KPR胶即属此类。
感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会限制分辨率（见感光材料）的提高。
为进一步提高分辨率以满足超大规模集成电路工艺的要求，必须采用波长更短的辐射作为光源。
由此产生电子束、X 射线和深紫外(＜250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，X射线刻蚀胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至1□m以下。
LCD生产线工艺及材料简介LCD生产线工艺及材料简介LCD为英文Liquid Crystal Display的缩写，即液晶显示器，是一种数字显示技术，可以通过液晶和彩色过滤器过滤光源，在平面面板上产生图象。
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光刻胶
photoresist
又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增
感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液
体。
感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化
反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合
性等发生明显变化。
经适当的溶剂处理，溶去可溶性部
分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。
光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制
版等过程。
光刻胶的技术复杂，品种较多。
根据其化学
反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。
光照
后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不
可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
利用这
种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的
电路图形。
基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为
三种类型。
①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生
成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚
合物，具有形成正像的特点。
②光分解型，采用含有叠
氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由
油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。
③光交联型，采
用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其
分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成
一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典
型的负性光刻胶。
柯达公司的产品KPR胶即属此类。
感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会限
制分辨率（见感光材料）的提高。
为进一步提高分辨率
以满足超大规模集成电路工艺的要求，必须采用波长更
短的辐射作为光源。
由此产生电子束、X 射线和深紫外
(＜250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，X射线刻蚀
胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至1□m以下。
LCD生产线工艺及材料简介
LCD生产线工艺及材料简介
LCD为英文Liquid Crystal Display的缩写，即液晶显示器，是一种数字显示技术，可以通过液晶和彩色过滤器过滤光源，在平面面板上产生图象。
当前LCD液晶显示器正处于发展的鼎盛时代，技术发展非常迅速，已由最初的TN－LCD（扭曲向列相），发展到STN－LCD （超扭曲向列相），再到当前的TFT－LCD（薄膜晶体管）。
LCD现已发展成为技术密集、资金密集型的高新技术产业。
液晶显示器主要由ITO导电玻璃、液晶、偏光片、封接材料（边框胶）、导电胶、取向层、衬垫料等组成。
液晶显示器制造工艺流程就是这些材料的加工和组合过程。
液晶显示器的制造是在洁净室环境下进行的，在工艺上可以大体分成清洗与干燥、光刻、取向排列、制盒、切割、灌注液晶、目测、电测、贴片、上引线、包装等工序。
（1）清洗与干燥工艺
清洗是指清除吸附在玻璃表面的各种有害杂质或油污的工艺。
清洗方法是利用各种化学试剂和有机溶剂与吸附在玻璃表面上的杂质及油污发生化学反应和溶解作用，或伴以超生、加热、抽真空等物理措施，使杂质从玻璃表面脱附（或称解吸），然后用大量的高纯热、冷去离子水清洗，从而获得洁净的玻璃表面。
经过清洗的玻璃需要经过干燥处理，主要方法有烘干法、甩干法、有机溶剂脱水法和风刀吹干法等。
该工艺主要用到的设备有超声波清洗机、等离子清洗机及干燥炉的干燥设备。
推荐3M电子氟化液1700
（2）光刻工艺
光刻的目的是按照产品设计要求，在导电玻璃上涂敷感光胶，并进行曝光，然后利用光刻胶的保护作用，对ITO导电层进行选择性化学腐蚀，从而在ITO导电玻璃上得到与掩模版完全对应的图形。
光刻工艺流程为：涂光刻胶——前烘——显影——坚膜——刻蚀——剥离去膜——水洗光刻工艺主要用到的设备有涂布机曝光机等
推荐Uninwell International光刻胶UN-8111
（3）取向排列工艺
此步工艺为在蚀刻完成的ITO 玻璃表面涂覆取向层，并用特定的方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方向取向（排列），此步骤是液晶显示器生产的特有技术。
取向排列工艺主要用到的设备有摩擦机等
（4）丝印制盒工艺
此步工艺是把两片导电玻璃对叠，利用封接材料贴合起来并固化，制成间隙为特定厚度的玻璃盒。
制盒技术是制造液晶显示器的最为关键的技术之一。
（必须严格控制液晶盒的间距）丝印制盒工艺流程包括：丝印边框及银点、喷衬垫料、对位压合、固化。
由于现在对LCD 显示条件要求越来越高，在贴合工序中由原来的手动贴合向采用精度较高的全自动贴合设备转换。
丝印制盒工艺主要用到的设备有丝网印刷机、喷粉机、贴合机、热压机等。
导电浆料推荐Uninwell International BQ系列导电浆料
边框胶推荐Uninwell International UN-9111
（5）切割工艺
在LCD生产制作中为提高制作效率、降低成本、形成批量生产，往往在较大玻璃上制作多个液晶显示器，再分割成小单元进行液晶灌注，切割工艺的目的就是把整盒的玻璃分裂独立液晶显示器的单体。
切割工艺主要用到的设备有切割机和裂片机等。
（6）液晶灌注及封口工艺
液晶灌注的工艺原理是将空盒放置在抽真空的液晶灌注密闭室内，盒中的气体由封口处抽出，然后使封口处接触液晶，并向真空室内充气，液晶在外界气压作用下，被充入空盒内。
封口工艺原理是采用密封胶粘接封口，通过挤压回缩等方法，使封口胶恰当地收缩入封口内，再通过紫外光照射，使封口胶固化，形成牢固的封口。
液晶灌注及封口工艺要用到的设备有液晶灌注机和整平封口机等。
UV封口胶推荐3MLC-1112和LC1211
（7）光台检测及电测工艺
光台检测是根据液晶的旋光特性，在两片相互垂直（或平行）的偏光片之间形成的亮场（或暗场），通过检测人员的肉眼观察以检查产品的质量，通过目测从中挑出废品的过程。
电测工艺是对液晶显示器加上电压信号，来观察实际显示状态是否合格正常的过程。
一般电测机采用交流驱动的方式进行测试。
光台检测及电测工艺主要用到的设备有光台和电测机等。
（8）贴片工艺
贴片工艺就是把液晶显示器粘贴偏光片的工序，该工序可分为切割偏光片和粘贴偏光片。
在粘贴偏光片过程中，由于玻璃不干净等原因造成偏光片无法牢固贴附于玻璃上，这就需要采用偏光片除泡机消除气泡等。
贴片工艺主要用到的设备有切片机、贴片机、偏光片除泡机等。
（9）LCD金属引线的连接和加工工艺
LCD的连接就是将LCD上的电极引脚与驱动电路的电极相连，使驱动电压信号能加到LCD 上，又称为上引脚。
LCD金属引线的连接和加工工艺主要用到的设备有插PIN涂胶机。
推荐Uninwell International BQ-6880E
（10）盒外丝印装饰图形工艺
该工艺只在客户有特殊要求时才进行加工，是用丝网印刷的的方法在LCD屏的指定位置上漏印出起装饰作用的图形。
（11）包装工艺
为便于储存和运输，成品放置在具有一定强度和缓冲性的包装盒内。