图形电镀教材
《电镀培训教材》PPT课件

第二章 塑胶电镀
一.塑胶电镀对塑胶件的技术要求: 1.要求光度高的部位,制件必须表面平滑。 2.零件表面设计符合电镀要求,即较大平面中间应呈突 起状,一般突起在0.10-0.15mm;菱角部位到圆,v型 槽的宽度应是深度3倍,盲孔深度为直径的1/2-1/3。 3.零件应有足够的强度,壁厚一般在3mm左右,最薄不 应低于1.9mm,最厚不应大于3.8mm. 4.有镶嵌件的塑胶制品,应为铝制件。 5.应留有电镀装挂位置。装挂位置应设计在不影响外观 部位。
b.溶剂浸渍法 将零件完全浸入(20-22)℃1:1的甲乙酮和 丙酮的混合溶液液中15秒,取出后立即甩干,检验裂纹状态。
解决办法:在60-75℃的温度下加热2-4h,或在25%(体积) 的丙酮中浸泡30分。
常用塑胶热处理温度:ABS塑胶65-75 ℃,聚丙烯80-100 ℃, 氯化聚醚80-120 ℃,聚碳酸酯110-130 ℃,改性聚苯烯50-60 ℃,聚苯醚100-120 ℃;聚酰胺在沸水中处理。
3.阴极电流效率 改善阴极电流效率,提高电解液的分散能力和覆 能盖能力。
4.机体的表面状况 提高机体表面光洁度,采用短时间冲击电波, 提高氢在机体上的过电位等,可以消除机体对分散能力和覆盖 能力的不良影响。
5.几何因素的影响 在实际生产中采用辅助阴极和象形 阳极,合理调节阴阳极之间的距离等方法尽可能消除 对几何因素对电解液分散能力的影响。镀铬电解液是 一个特殊,它是一种强氧化性的酸性电解液,在所应 用的电解液中分散能力最差的一种,在镀铬时为了提 高电解液的分散能力往往从电化学性能以外的角度出 发,采用防护阴极,是用辅助阳极和非金属屏蔽以及 合理调节电极之间的距离等方法,使其处于最佳的电 流分布状态。
250350
600
《图形电镀培训教材》课件

欢迎大家来到《图形电镀培训教材》PPT课件。在这个课件中,我们将深入 探讨图形电镀的定义、原理、实验室安全、技术、材料以及常见问题及解决 方案。
简介
图形电镀是一种将金属沉积到特定部位以形成图案的电化学过程。本节将介 绍图形电镀的定义、分类以及广泛应用领域。
原理
了解电化学反应原理、电镀液的组成以及电镀过程的物理化学特性对于掌握 图形电镀技术至关重要。
3
设备及工具的使用
了解图形电镀所需的设备和工具,包括电源、电解槽和电极等,以及正确的使用 方法。
图形电镀材料
电镀金属的选择
根据需求和应用场景,选择合适的电镀金属对于获得理想的电镀效果非常重要。
预处理剂的选择
预处理剂用于清洁和准备电镀表面。了解不同预处理剂的特性以及选择正确的剂量。
电镀液的选择
电镀液的配方对电镀质量和效果有重大影响。深入了解不同电镀液的特性及其应用。
实验室安全
在进行图形电镀实验时,实验室安全是必不可少的。学习实验室安全观念、操作规程以及事故例分析有 助于确保实验室安全。
图形电镀技术
1
图形电镀流程
掌握图形电镀的流程是实践该技术的基础。从电镀前的处理到设备及工具的使用, 了解每个步骤的重要性。
2
电镀前的处理
良好的前处理可以确保图形电镀的质量和耐久性。本节将介绍电图形电镀问题及解决方 案
出现电镀效果不理想、产生气泡、起皮、断层等问题时,掌握解决方案是必 要的。本节将介绍常见问题的原因及解决方法。
结语
本课件探索了图形电镀的未来发展,总结了教材的重点,并提供了参考文献 供大家深入学习。
电镀知识简介培训教材-课件

Cu Hg Ag Pt Au
LOTES
镀层的防腐
电镀简介
防止化学腐蚀:进行镀金或镀银处理
防止原电池腐蚀:
1.镀层本身的化学性质:采用电极电位较低的镀层保护底
材﹔
2.提高镀层的厚度﹔
3.减少镀层的孔隙﹔
4.改良环境。比如:要海运的连接器最好采用隔绝包装甚至
采用真空包装
Confidential QA
Pd/Ni plating contact area
后
处
Water cleaning
Hot air drying
Packaging
理
Confidential QA
电镀简介
Acid activation Overall Ni plating
LOTES
电镀安全知识
电镀简介
1.连接器电镀特殊药品
a.剧毒物品:
(2)装饰性电镀:装饰零件的外表,使其光亮美观:首饰,金佛
(3)功能性电镀:
提高零件表面硬度,耐磨性:轮胎钢圈镀铬;
增加金属表面的反光和防反光能力:灯饰
提高导电性能:塑料电镀,镀金、银;
提高导磁性能:磁盘镀镍;
提高光的反射性能:汽车灯反光底罩﹔
防止局部渗碳,渗氮:钢材镀镍铬前用镀铜打底;
修复尺寸:精密仪器﹔
接触部分的接触信赖性, 在其接触部位进行镀金处理,
电化学腐蚀:金属和电解质溶液接触时﹐由于电化学作用而引起的 腐蚀﹒
原因:形成了原电池﹐在此腐蚀电池中﹐负极发生氧化,
Confidential QA
LOTES
镀层的腐蚀
电镀简介
原电池形成:
二氧化硫,氧气,水,硫 化氢等腐蚀性气体
图形电镀工艺教材

图形电镀工艺教材图形电镀工艺教材一. 图形电镀简介:在平板电镀后,板件经过干膜曝光显影后需要经过图形电镀。
图形电镀的目的在于加大线路和孔内铜厚(主要是孔铜厚度),确保其导电性能和其他物理性能。
根据不同客户不同板件的性能要求,一般孔壁铜厚在0.8mil-1.2mil之间(平板层+图电层),由板件特性决定其平板层和图电层的分配。
一般来说,平板电镀层仅保证可以保护稀薄的沉铜层即可,一般在0.3mil-0.4mil左右,特殊铜厚要求和线路分布不均除外,图形层则保证在0.4-0.6mil,在保证总铜厚的基础上,如果图形分布均匀,比较厚的图形层可以节省铜球耗用和蚀刻成本,提高蚀刻速度,降低蚀刻难度。
反之,如果线宽要求不严,而图形分布不均线路孤立,则可以提高平板层厚度,降低图形电镀层厚度。
图形电镀后是蚀刻流程。
二. 图形电镀基本流程:板件经过贴膜曝光显影后形成一定的线路,图形电镀就是针对干膜没有覆盖的铜面进行选择性加厚。
图形主要流程如下(水洗视条件不同,为一道至两道):进板—除油—水洗—微蚀—水洗—酸浸(硫酸)—电镀铜—水洗—酸浸(氟硼酸)—电镀(铅)锡—水洗—出板—退镀(蚀夹具)—水洗—进板1 .除油:电镀除油流程为酸性除油,主要是除去铜面表面的污物。
因板件经过干膜流程后,不可避免地会在板面带上手印、灰尘、油污等,为使板面洁净,保证平板铜层和图形铜层的层间结合力,必须在电镀前加上清洁板面的流程。
采用酸性环境除油效果比碱性除油差,但避免了碱性物质对有机干膜的攻击,主要成分为硫酸和供应商提供的电镀配套药水(安美特—FR,B图电\\C图电\\脉冲线;罗门哈斯—LP200,B(II)线;成分均为酸性表面活性剂)。
酸性除油剂的浓度测定是通过测定计算浓硫酸(98%)浓度来相对估算(无法直接测定,而配缸和消耗都是1:1比例),因此在换缸和补充的时候要保证两者要等量添加,以保证测定浓度和实际浓度的一致性。
2. 微蚀:除油的微蚀流程主要作用为去除表面和孔内的氧化层,并将铜层咬蚀出微观上粗糙的界面,以进一步提高图形电镀层和平板层的结合力。
图形电镀培训教材

发现因电镀所致孔内无铜现象。盲埋孔板均已开始大批量制
作,工艺已基本成熟。
九.工业安全与环境保护 图形电镀线自动化程度高,且使用很多化学药品,故应特别注 意生产安全及环境保护,特别是废水、废气的处理,将是获取 QS9000、ISO1400认证的必备条件。作为工艺工程师,有必要 在此相关方面多加努力。例如:安全生产操作规则、药品储存 及废水的排放前处理等。
目录
一.前言 二.基本概念与电镀原理
三.生产线简介
四.生产流程 五.工艺参数 六.生产操作及注意事项 七.常见问题与对策 八.工序潜力与展望 九.工业安全与环境保护
十.参考资料
一.前言
在PCB制作过程中,镀铜占有相当重要位置。随着PCB工业 的发展,镀层的要求也越来越高,为了使本公司的工程管理人员
2.2 微蚀缸 作用:清洁铜面,并使铜面变得较粗糙,增强镀铜时铜层的附着力。 影响:1)微蚀缸的停留时间为1min左右,若板在该缸的停留时间太
长,微蚀过度时,会造成板上孔内无铜,使板报废。
2)若时间太短或过硫酸钠浓度不够时,可能会不能经受热冲 击测试导致铜层剥离而报废。 2.3 浸硫酸缸 作用: 清洁板面,避免将杂物及水带入铜缸,减少镀铜缸内溶液受
CVS 分析 一次/月 每周一次 Hull 试验 cell 室温
20-30℃
pp.
磺酸
镀锡
磺酸
锡离子 磺酸
SAT-21 添加剂 SAT-22 添加剂
一次/天
一次/天
1-2min
8.010.0min
/
500l/ min. 5m pp.
两次/周 每周一次 Hull cell 试 验
7-8
蚀夹
硝酸
400-520g/l
图形电镀培训教材

工序简介
图形电镀是外层图形转移后的电镀铜/锡工 序,其作用不外乎如下两点:
1、通过电镀加厚使孔内及板面铜厚达到客 户的需要。
2、电铜后继续镀一层锡作为抗蚀剂,为外 层蚀刻做准备。 注:除胶渣/化学沉铜→板面电镀→外层图形转 移(外层干膜)→图形电镀
上板 ↓ 除油 ↓ 三级水洗 ↓ 微蚀 ↓ 二级水洗 ↓
镀铜缸的控制
✓定期做化学分析。 ✓整流器输出的稳定。 ✓均匀的空气搅拌或喷流。 ✓减少外来污染。 ✓定期清洗铜球、钛篮、阳极袋及网屏。 ✓定期做低电流处理。 ✓定期做活性炭处理。
检测方法及工具
✓霍尔槽测试(Hull Cell Test)。 ✓CVS 定量分析添加剂的含量。 ✓热冲击/热循环测试镀层的可靠性。 ✓切片分析(Micro Section)。 ✓延展性铜(CuSO4.H2O) ✓硫酸(H2SO4) ✓氯离子(Cl-)
硫酸铜
✓ 提供电镀启动时的铜离子,随后由阳 极铜球不断溶解出的铜离子取代溶液中 失去的铜离子。
✓ 含量过高,深镀能力(Throwing Power) 差。
✓ 含量过低,高电位区域易烧板。
硫酸
✓增强镀液导电性,提高深镀能力。 ✓减低阴阳极的极化作用。 ✓过高,容易烧板。 ✓过低,导电不良。
镀铜添加剂的组合
镀铜添加剂大致分为以下三种:
➢光亮剂(Brightener)。 ➢载运剂(Carrier)。 ➢平整剂(Leveller)。
光亮剂
✓一般为有机硫化物或氮化物。 ✓作用好似油门。 ✓在板面附近起催化作用。 ✓协助晶粒的成长。
图形电镀用的是125T-2,而板面电镀用的是 EP-1000R。
主要成分:硫酸、硫酸亚锡 EC Part A(R&H) EC Part B(R&H)
线路板图形电镀培训教材

深圳市祥光达光电科技有限公司 唐青山 13682465117
6
电镀铜的原理
直流 整流器
ne-
ne-
+
阳极 离子交换
电镀上铜层 阴极 (受镀物件) 镀槽
Cu
Cu2+ + 2e-
Cu2+ + 2e-
Cu
电镀液组成(H2O+CuSO4.5H2O+H2SO4+Cl +添加剂) 深圳市祥光达光电科技有限公司 唐青山 13682465117
电镀铜镀层厚度估算方法(mil) — 电镀阴极电流密度(ASD) X 电镀时间(分钟) / 114 1 mil = 25.4 µm
深圳市祥光达光电科技有限公司 唐青山 13682465117
21
电镀铜溶液和电镀线的评价
镀 铜 均 匀 性
★ 定义及说明
镀铜均匀性是指板表面及孔内镀铜厚度的分布,通常 是指线路板表面镀铜厚度的分布,表面铜厚均匀性的好 坏,将直接影响到蚀刻等后工序的制作。
*各添加剂相互制约地起作用.
深圳市祥光达光电科技有限公司 唐青山 13682465117
18
电镀层的光亮度
载体 (c) /光亮剂 (b)的机理 c c cb cbc cb b
c c b
cb c cb b b b
c
c c cb cbcb b b
c
c cb
b
载体(c)快速地吸附到所有受镀表面并均一地抑制电沉积 光亮剂(b)吸附于低电流密度区并提高沉积速率. 载体(c)和光亮剂(b)的交互作用导致产生均匀的表面光亮度
15
深圳市祥光达光电科技有限公司 唐青山 13682465117
图形电镀和碱性蚀刻培训讲义PPT文档51页

16、自己选择的路、跪着也要把它走 完。 17、一般情况下)不想三年以后的事, 只想现 在的事 。现在 有成就 ,以后 才能更 辉煌。
18、敢于向黑暗宣战的人,心里必须 充满光 明。 19、学习的关键--重复。
20、懦弱的人只会裹足不前,莽撞的 人只能 引为烧 身,只 有真正 勇敢的 人才能 所向披 靡。
谢谢
11、越是没有本领的就越加自命不凡。——邓拓 12、越是无能的人,越喜欢挑剔别人的错儿。——爱尔兰 13、知人者智,自知者明。胜人者有力,自胜者强。——老子 14、意志坚强的人能把世界放在手中像泥块一样任意揉捏。——歌德 15、最具挑战性的挑战莫过于提升自我。——迈克尔·F·斯特利
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
再用活性碳将其吸附后过滤除去,频率为每半年一次。
注:对于锡缸,可将过滤棉芯更换为活性碳滤芯过滤12
小时即可。
4.FMN处理
去除四价锡的方法。将镀液导入处理槽中, 在强烈搅拌下,加入FMN,至四价锡化合物沉 淀生成,过滤去沉淀即可。
4.铜缸的清洗
长期的生产过程中,阳极泥、铜粉过多,堵塞钛篮
袋,或因钛篮袋破裂等原因而进入槽液中,污染槽液,
-打 气:
1.加速离子的补充,有利于孔内不断新药液 的补充,更有助光剂发挥作用。 2.消除浓差极化,提高允许电流,提高生产 效率 。
3.提供足够的氧气,使Cu+转化成Cu2+ 。
现很多公司已采用喇叭嘴高能量循环取代 传统的打气,用于制作盲孔板和高纵横比厚板。
-摇摆和振荡:
缩小Diffusion layer,赶走孔内的气泡,加速新 液的补充,提高深镀能力。
/ 520l/ min. 5m pp.
CVS 分析 一次/周 每周一次 Hull cell
生产维护 1.铜缸溶液的维护 -日常管理:生产时使用过滤棉芯过滤,每周更换棉芯 -分析及补加:每周两次分析铜离子,硫酸,氯离子的浓度, 按分析进行补加。 -光剂的补充分析:自动加药器按安培小时补加, 每两周做一次CVS分析, Hull-Cell模拟试验
2.锡缸溶液的维护
-每日分析镀液
-每周分析光剂,更换过滤棉芯、预浸缸
-有机污染高,需做活性碳处理;四价锡多,需
做FMN处理
3.活性碳处理 生产过程中,干膜的溶解以及光剂的分解等造成镀液 中有机物含量增高,深镀能力下降,出现狗骨现象。镀层 表面变光亮,硬度增加,镀层变脆,可靠性下降。 此时需对溶液进行碳处理,先用H2O2将副产物氧化,
第一部份
基础知识
图形电镀目的
: 在完成干菲林工序后呈现出线路的铜面上 用电镀方法加厚铜层,再镀上一层锡作为该线路 的保护层。
基本工艺流程
上 板
除油 微蚀 电镀 磺酸洗 镀锡
下
板
酸洗
基本理论
一、镀铜原理:
电镀铜的溶液中主要是硫酸铜(CuSO4)和硫酸(H2SO4),
在直流电压的作用下,在阴极和阳极上分别发生如下反应:
阳极铜球
-硫
酸:
需使用试剂级(AR)硫酸,有导电和溶解阳极的作用。 硫酸的浓度对镀液的分散能力和镀层的机械性能均有影响: 1. 若硫酸的浓度太低,镀液的分散能力下降,一价铜易
水解生成铜粉;
2. 若硫酸的浓度过高,虽然镀液的分散能力较好,但是,
镀层的延展性会降低.
控制:作业时由于带出和打气的氧化作用造成阳极膜
-添加剂:
主要有光亮剂(Brightner),湿润剂(wetter),整平剂 (leveler),载体(carrier)。(我司3F使用的是罗门哈斯公司 的药水)。 光亮剂(2001 Add)-控制整体的光亮性,尤其是 中至高电流密度位置。 湿润剂( 2001 Car)-提高溶液的深镀能力
整平剂 控制低电流密度的光亮平整及抛掷力,亦可
糙,
线路缺口,甚至孔内无铜。
2.微蚀缸 药水: 过硫酸钠(NPS),硫酸(H2SO4) 作用: 清洁铜面,并使铜面变得较粗糙,增强镀铜时铜层的
附着力。
影响:1)微蚀缸的停留时间为1min左右,若板在该缸的停留 时间太长,微蚀过度时,会造成板上孔内无铜,使板 报废。 2)若时间太短或过硫酸钠浓度不够时,可能会不能经
-阳 极铜:
使用含磷0.035~0.075%的铜球,面积应是阴极的两倍。
为什么要使用磷铜阳极? 因为使用磷铜阳极时,
1.阳极在镀液中溶解速度较慢(形成黑色的阳极膜),使 其阳极电流效率接近阴极电流效率; 2.催化Cu+转化成Cu2+的反应,阻止大量的Cu+进入溶液, 形成铜粉或Cu2O,而导致镀层粗糙,产生节瘤; 3.避免生成大量的阳极泥,污染铜缸, 但是,磷铜中的含磷量要有一定值,若含磷量过高,会 导致阳极膜过厚,铜溶解性差,使溶液中的铜离子减少,光剂 消耗量大,易形成针孔,且造成低电流区不光亮;太低则生成的 阳极膜太薄结合力不好。
出现铜粗,毛刺等问题。因此需定期对铜缸进行大清洗。 项目:清洗铜球,钛篮,半年更换一次钛篮袋,清 洗缸壁,槽体。
能力研究
1.深镀能力(Throwing power) 深镀能力,即分散能力,是衡量镀液在凹陷 (即孔内)的镀铜能力。 T.P=Jhct /Jsct=孔内铜厚/表面镀铜厚 Jhct-孔内电流密度 Jsct-表面电流密度
=ηhct+ ηhmt+Irh
扩散层:在距离阴极的一段距离内,金属离子浓
度会逐渐下降,此区称之为扩散层。因此浓度梯
度的存在会消耗电能,因此存在ηmt。 ηmt =0.082J(电流密度)/JL(极限电流密度) 极限电流密度=K(Cb/ δ)
系统选定(Cb)操作方式固定( δ), JL也一定,
搅拌多与孔垂直而使孔内金属离子补充不及时而Cbh
7 .炸棍
药水:硝酸(HNO3) 作用: 将电镀夹具上的金属(Cu粉、Sn粉)除掉。 影响:蚀夹不净时,可能会造成铜粗等现象。
第二部份
电镀铜技术及能力
生产设备简介 现时3F图形电镀线为“竞铭”自动电镀线,
1.设备性能参数: 1) 生产板尺寸:24英寸长×宽×厚 2) 各药水缸均有浮架 3) 17个镀铜槽(1-14#为两个一组,15-17#三个一组) 及3个镀锡槽(无打气)
在极少的情况下,阳极也会发生如下的反应: Cu - e = Cu+ 溶液中的Cu+在足够量硫酸的情况下,可能会被空气中的 氧气氧化成Cu2+: 4Cu+ + 0.5O2 + 4H+ = 4Cu2+ + 2H2O
当溶液中的酸度不足时,会水解形成,形成所谓的“铜
粉”:
2Cu+ + 2H2O = 2Cu(OH)2 + 2H+
降低高电流密度位置烧板的问题。
三.电镀工艺重要设备及功能
-整流器:提供电镀的电源
一般有两种整流机:
1)传统的直流整流器
2)周期反向脉冲整流(此种整流器配合专用添 加剂可大大改善电镀的分散能力。) 我司使用的是直流整流器
-钛 篮:
用来盛装铜球,做为阳极。有方形,圆形等。 -钛篮袋: 作业时,会产生阳极膜,为防止阳极膜碎 以及因电镀而逐渐溶解变小的铜球和锡球 掉落槽中,造成铜粗或锡粗,且污染槽液 而影响镀铜或镀锡品质,须使用钛篮袋。
溶解,铜量渐增而酸量渐低,需日常分析添加以维持良好
的分散能力。
-氯离子:
有助阳极的溶解和光泽剂的发挥作用。使阳极 溶解均匀,镀层光泽平滑;有吸附在电极表面的能 力,稳定Cu+,防止其发生歧化反应减少铜粉的生成, 抑制Cu2+的放电速度 。 氯离子正常时阳极膜呈黑色;过量时呈灰白色, 使阳极钝化,溶液中铜离子降低;过低则在镀层上 产生条纹状粗糙现象。
影响: 1)若镀铜时间过长,则会造成线路和孔内的铜层镀得太
厚,这可能会造成夹膜或孔小。 2)若镀铜时间过短,会造成铜薄,。 3)光剂不够时会造成板面镀层暗淡,粗糙,高电位区有烧 板现象。光剂过多会导致镀铜不上或鱼眼状镀层。
5.浸硫酸缸 药水:硫酸(H2SO4) 作用: 清除板而上残余的铜离子,活化铜面,减少锡缸污染。 影响: 板面杂物去除不尽时,会造成锡缸污染,影响锡缸用 寿命。
处理时间 过滤 3-5min 0.5-1.5mi n 循环 循环
30-50g/l 1-4% 20g/l 30-60 8-10% 60-80g/l 10-12% 40-70ppm 0.52-2.0ml /l 3.0-7.0ml/l
室温 18-32℃
1-2min 70-80min (60-70 min)
工艺参数控制
缸号 14 17 药水 除油剂 微蚀 项目 PC 除油剂 过硫酸钠 硫酸 铜离子 微蚀速率 11 23-39 酸浸 镀铜 硫酸 硫酸铜 硫酸 氯离子 光亮剂 Add 湿润剂 Car 控制项目
200-300ml/l
分析频率 一次/天 一次/班 一次/天 一次/天 两次/周
温度范 围 30-40℃ 25-35℃
阴极 : 铜离子被还原,正常情况下电流效率可达98%
Cu2+ + 2e = Cu +0.34V 有时溶液中会有一些Cu+,于是会有以下反应:
Cu+ + e = Cu
有很少情况下会发生不完全还原反应: Cu2+ + e = Cu+
由于Cu2+的还原电位比H+的还原电位正的多,故一般不会有H2析出.
阳极:阳极反应是溶液中 Cu2+ 的来源:Cu - 2e = Cu2+
-过电压
溶液中带电物质平衡时存在一电位值,该物质发生反应, 须给予额外能量,在电化学中称之为过电压。 电镀中, η= ηct + ηmt +IR
- ηct :电镀反应的过电压 - ηmt:质传反应的过电压 - IR:溶液本身电阻
η s(surface)= ηh(hole)= ηsct+ ηsmt+Irs
酸浸缸
槽液容量(L) 2100 2500 2100 6036(单缸) 2100 6036 6458
槽体材料 PP PP PP PP PP PP PP
镀铜缸
酸浸缸
镀锡缸 蚀夹缸
6.锡缸为什么不可有打气?
在打气的情况下,锡缸中二价锡离子极易被氧化成四 价锡离子的不溶悬浮物;另外,前制程所带来的铜污染也 会引起二价锡氧化成四价锡,溶液中四价锡的含量过高, 镀液混浊,且会影响镀锡的品质。
各缸药水作用
1. 酸性除油缸
药水:PC酸性除油剂
作用: 去除干膜显影后在板面上的残留物以及氧化层和指纹