半导体器件的发展趋势

半导体器件的发展趋势
半导体器件的发展趋势

半导体器件的发展趋势

社会发展快速发展,一些传统的功能材料很单一,已经不能够满足人们的需求,所以就出现了具有半导体特性的有机材料,比如塑料、高分子聚合物,这些有机半导体材料有可能会取代传统的由si和gaas来制作的材料。有机半导体材料具有独特的优势,它的原料很容易得到,而且原料的重量轻、成本低,制作的工艺简易,还有就是具有良好的环境稳定性。有机半导体材料所制作的器件属于可回收利用的器件,能做到有效环保。根据传统的知识体系来讲,有机体是不能够导电的,所以都是被作为绝缘材料。上个世纪70

年代,科学家发现了如果对聚乙炔分子掺杂,就可以成为良性的导体,之后,半导体技术就开始被深入研究,并且取得了很大的成绩。上个世纪80年代,有机半导体研究领域迅速扩张,很多世界知名的企业都使用半导体技术,比如ibm通用、柯达等等;还有剑桥大学和普林斯顿大学也都设立了半导体的研究院。开发出了能够改善半导体稳定性以及特性的新技术以及新型的材料,这些新技术以及新型材料被广泛应用到各行各业当中,大大提高了有机电子器件的性能,比如有机发光二极管、有机传感器、有机场效应晶体管以及有机光伏电池等等。有机半导体器件正在越来越多的应用到各个行业当中,市场份额也在逐年快速增长。

在大家的不懈努力下,有机半导体技术和材料都取得了很大的发展,这个学科集合了材料学、物理和化学等等很多学科,是一个

中科大半导体器件原理考试重点

《半导体器件原理》课程复习提纲 2017.12 基础:半导体物理、半导体器件的基本概念、物理效应。 重点:PN结、金半结、双极型晶体管、JFET、MESFET、MOSFET。根据物理效应、物理方程、实验修正等,理解半导体器件的工作原理和特性曲线,掌握器件的工作方程和各种修正效应,了解器件的参数意义,能够进行器件设计、优化、应用、仿真与建模等。 第一章:半导体物理基础 主要内容包括半导体材料、半导体能带、本征载流子浓度、非本征载流子、本征与掺杂半导体、施主与受主、漂移扩散模型、载流子输运现象、平衡与非平衡载流子。 半导体物理有关的基本概念,质量作用定律,热平衡与非平衡、漂移、扩散,载流子的注入、产生和复合过程,描述载流子输 运现象的连续性方程和泊松方程。(不作考试要求) 第二章:p-n结 主要内容包括热平衡下的p-n结,空间电荷区、耗尽区(耗尽层)、内建电场等概念,p-n结的瞬态特性,结击穿,异质结与高低结。 耗尽近似条件,空间电荷区、耗尽区(耗尽层)、内建电势等概念,讨论pn结主要以突变结(包括单边突变结)和线性缓变结为例,电荷分布和电场分布,耗尽区宽度,势垒电容和扩散电容的概念、定义,直流特性:理想二极管IV方程的推导;

对于考虑产生复合效应、大注入效应、温度效应对直流伏安特性的简单修正。PN的瞬态特性,利用电荷控制模型近似计算瞬变时间。结击穿机制主要包括热电击穿、隧道击穿和雪崩击穿。要求掌握隧道效应和碰撞电离雪崩倍增的概念,雪崩击穿条件,雪崩击穿电压、临界击穿电场及穿通电压的概念,异质结的结构及概念,异质结的输运电流模型。高低结的特性。 第三章:双极型晶体管 主要内容包括基本原理,直流特性,频率响应,开关特性,异质结晶体管。 晶体管放大原理,端电流的组成,电流增益的概念以及提高电流增益的原则和方法。理性晶体管的伏安特性,工作状态的判定,输入输出特性曲线分析,对理想特性的简单修正,缓变基区的少子分布计算,基区扩展电阻和发射极电流集边效应,基区宽度调制,基区展宽效应,雪崩倍增效应,基区穿通效应,产生复合电流和大注入效应,晶体管的物理模型E-M模型和电路模型G-P 模型。跨导和输入电导参数,低频小信号等效电路和高频等效电路,频率参数,包括共基极截止频率fα和共射极截止频率fβ的定义,特征频率f T的定义,频率功率的限制,其中少子渡越基区时间,提高频率特性的主要措施。开关特性的参数定义,开关时间的定义和开关过程的描述,利用电荷控制方程简单计算开关时间。 开关晶体管中最重要的参数是少子寿命。异质结双极型晶体管的结构及优点。

常用半导体器件复习题

第1章常用半导体器件 一、判断题(正确打“√”,错误打“×”,每题1分) 1.在N型半导体中,如果掺入足够量的三价元素,可将其改型成为P型半导体。()2.在N型半导体中,由于多数载流子是自由电子,所以N型半导体带负电。()3.本征半导体就是纯净的晶体结构的半导体。() 4.PN结在无光照、无外加电压时,结电流为零。() 5.使晶体管工作在放大状态的外部条件是发射结正偏,且集电结也是正偏。()6.晶体三极管的β值,在任何电路中都是越大越好。( ) 7.模拟电路是对模拟信号进行处理的电路。( ) 8.稳压二极管正常工作时,应为正向导体状态。( ) 9.发光二极管不论外加正向电压或反向电压均可发光。( ) 10.光电二极管外加合适的正向电压时,可以正常发光。( ) 一、判断题答案:(每题1分) 1.√; 2.×; 3.√; 4.√; 5.×; 6.×; 7.√; 8.×; 9.×; 10.×。

二、填空题(每题1分) 1.N型半导体中的多数载流子是电子,P型半导体中的多数载流子是。2.由于浓度不同而产生的电荷运动称为。 3.晶体二极管的核心部件是一个,它具有单向导电性。 4.二极管的单向导电性表现为:外加正向电压时,外加反向电压时截止。5.三极管具有放大作用的外部条件是发射结正向偏置,集电结偏置。6.场效应管与晶体三极管各电极的对应关系是:场效应管的栅极G对应晶体三极管的基极b,源极S对应晶体三极管,漏极D对应晶体三极管的集电极c。7.PN结加正向电压时,空间电荷区将。 8.稳压二极管正常工作时,在稳压管两端加上一定的电压,并且在其电路中串联一支限流电阻,在一定电流围表现出稳压特性,且能保证其正常可靠地工作。 9.晶体三极管三个电极的电流I E 、I B 、I C 的关系为:。 10.发光二极管的发光颜色决定于所用的,目前有红、绿、蓝、黄、橙等颜色。 二、填空题答案:(每题1分) 1.空穴 2.扩散运动 3.PN结 4.导通 5.反向 6.发射机e 7.变薄 8.反向 9.I E =I B +I C 10.材料 三、单项选择题(将正确的答案题号及容一起填入横线上,每题1分)

第1章半导体器件习题及答案教学总结

第 1 章半导体器 件 习题及答案

第1章半导体器件 一、是非题(注:请在每小题后[]内用” V"表示对,用” X "表示错) 1、P型半导体可通过在本半导体中掺入五价磷元素而获得。() 2、N型半导体可以通过在本征半导体中掺入三价元素而得到。() 3、在N型半导体中,掺入高浓度的三价杂质可以发型为P型半导体。() 4、P型半导体带正电,N型半导体带负电。() 5、N型半导体的多数载流子是电子,所以它带负电。() 6半导体中的价电子易于脱离原子核的束缚而在晶格中运动。() 7、半导体中的空穴的移动是借助于邻近价电子与空穴复合而移动的。() 8、施主杂质成为离子后是正离子。() 9、受主杂质成为离子后是负离子。() 10、PN结中的扩散电流是载流子在电场作用下形成的。() 11、漂移电流是少数载流子在内电场作用下形成的。() 12、由于PN结交界面两边存在电位差,所以,当把PN结两端短路时就有电流流过。() 13、PN结在无光照、无外加电压时,结电流为零。() 14、二极管的伏安特性方程式除了可以描述正向特性和反向特性外,还可以描述 二极管的反向击穿特性。() 15、通常的BJT管在集电极和发射极互换使用时,仍有较大的电流放大作用。 () 16、有人测得某晶体管的U BE=0.7V, I B=20^A,因此推算出r be=U BE/|B=0.7V/20 卩A=35k Q()

17、 有人测得晶体管在U BE =0.6V , I B =5^A,因此认为在此工作点上的r be 大约为 26mV/l B =5.2k ◎() 18、 有人测得当U BE =0.6V , I B =10^A O 考虑到当U BE =0V 时I B =0因此推算得到 、选择题 (注:在每小题的备选答案中选择适合的答案编号填入该题空白处 .1、在绝对零度(0K )时,本征半导体中 __________ 载流子 A.有 B.没有 C.少数 D.多数 2、在热激发条件下,少数价电子获得足够激发能,进入导带,产生 ___________ F 很大关系。A.温度B. 掺杂工艺C.杂质浓度C.晶体缺陷 7、当PN 结外加正向电压时,扩散电流 _____ 漂移电流,耗尽层 _____ 。当PN 结 外加反向电压 时,扩散电流 _____ 漂移电流,耗尽层 ____ 。 A.大于B.小于C.等于D.变宽E.变窄F.不变 8、二极管正向电压从0.7V 增大15%时,流过的电流增大 ________ 。( A 1. 15% B 1 ?大于 仅供学习与交流,如有侵权请联系网站删除谢谢2 U BE 1 B 0.6 0 10 0 60(k ) ,多选或不选按选错论) A.负离子 B. 空穴 C. 3、 半导体中的载流子为 ________ 。 空穴 4、 N 型半导体中的多子是 ________ < 5、 P 型半导体中的多子是 _________ < &在杂质半导体中,多数载流子的浓度 度则与 ______ 有 正离子 D. 电子-空穴对 \.电子 B. 空穴 C. 正离子 D. 电子和 A.电子 B. 空穴 C. 正离子 D. 负离子 A.电子 B. 空穴 C. 正离子 D. 负离子 _____ ,而少数载流子的浓

半导体器件物理 试题库

半导体器件试题库 常用单位: 在室温(T = 300K )时,硅本征载流子的浓度为 n i = 1.5×1010/cm 3 电荷的电量q= 1.6×10-19C μn =1350 2cm /V s ? μp =500 2 cm /V s ? ε0=8.854×10-12 F/m 一、半导体物理基础部分 (一)名词解释题 杂质补偿:半导体内同时含有施主杂质和受主杂质时,施主和受主在导电性能上有互相抵消 的作用,通常称为杂质的补偿作用。 非平衡载流子:半导体处于非平衡态时,附加的产生率使载流子浓度超过热平衡载流子浓度, 额外产生的这部分载流子就是非平衡载流子。 迁移率:载流子在单位外电场作用下运动能力的强弱标志,即单位电场下的漂移速度。 晶向: 晶面: (二)填空题 1.根据半导体材料内部原子排列的有序程度,可将固体材料分为 、多晶和 三种。 2.根据杂质原子在半导体晶格中所处位置,可分为 杂质和 杂质两种。 3.点缺陷主要分为 、 和反肖特基缺陷。 4.线缺陷,也称位错,包括 、 两种。 5.根据能带理论,当半导体获得电子时,能带向 弯曲,获得空穴时,能带 向 弯曲。 6.能向半导体基体提供电子的杂质称为 杂质;能向半导体基体提供空穴的杂 质称为 杂质。 7.对于N 型半导体,根据导带低E C 和E F 的相对位置,半导体可分为 、弱简 并和 三种。 8.载流子产生定向运动形成电流的两大动力是 、 。

9.在Si-SiO 2系统中,存在 、固定电荷、 和辐射电离缺陷4种基 本形式的电荷或能态。 10.对于N 型半导体,当掺杂浓度提高时,费米能级分别向 移动;对于P 型半 导体,当温度升高时,费米能级向 移动。 (三)简答题 1.什么是有效质量,引入有效质量的意义何在?有效质量与惯性质量的区别是什么? 2.说明元素半导体Si 、Ge 中主要掺杂杂质及其作用? 3.说明费米分布函数和玻耳兹曼分布函数的实用范围? 4.什么是杂质的补偿,补偿的意义是什么? (四)问答题 1.说明为什么不同的半导体材料制成的半导体器件或集成电路其最高工作温度各不相同? 要获得在较高温度下能够正常工作的半导体器件的主要途径是什么? (五)计算题 1.金刚石结构晶胞的晶格常数为a ,计算晶面(100)、(110)的面间距和原子面密度。 2.掺有单一施主杂质的N 型半导体Si ,已知室温下其施主能级D E 与费米能级F E 之差为 1.5B k T ,而测出该样品的电子浓度为 2.0×1016cm -3,由此计算: (a )该样品的离化杂质浓度是多少? (b )该样品的少子浓度是多少? (c )未离化杂质浓度是多少? (d )施主杂质浓度是多少? 3.室温下的Si ,实验测得430 4.510 cm n -=?,153510 cm D N -=?, (a )该半导体是N 型还是P 型的? (b )分别求出其多子浓度和少子浓度。 (c )样品的电导率是多少? (d )计算该样品以本征费米能级i E 为参考的费米能级位置。 4.室温下硅的有效态密度1932.810 cm c N -=?,1931.110 cm v N -=?,0.026 eV B k T =,禁带 宽度 1.12 eV g E =,如果忽略禁带宽度随温度的变化

半导体器件知识点归纳三

四、MOSFET 1、分类 FET:JFET、MESFET、IGFET(MOSFET) MOSFET:增强型NMOS、增强型PMOS、耗尽型NMOS、耗尽型PMOS,增强与耗尽由阈值电压决定,常用为增强型器件。 2、结构 四端:G(栅)、D(漏)、S(源)、B(衬底),源区和漏区之间为沟道,栅极电压控制沟道的导通与关闭,源极和漏极电压控制沟道电流的大小。 3、工作原理 NMOS:栅压小于阈值电压,沟道关闭;栅压大于等于阈值电压时,沟道导通,沟道电流随漏源电压增大而增大,直到饱和; PMOS:栅压大于阈值电压,沟道关闭;栅压小于等于阈值电压时,沟道导通,沟道电流随源漏电压增大而增大,直到饱和。 4、工作区间(定性讨论) 在栅源电压(V GS)大于阈值电压(V T)的情况下 线性区:源漏电压(V DS)很小,漏极电流(I D)与V DS成线性关系; 饱和区:V DS逐渐增大到一定值时,I D达到一个饱和值,不再随V DS增大而增大; 击穿区:V DS继续增大,达到漏源击穿电压BV DS,导致I D急剧增加。 5、阈值电压 具体定义、原理、公式推导参看书上,通过公式可以总结出影响阈值电压的几个因素,对于阈值电压的理解非常重要,阈值电压的大小关系到器件的工作状态及电压范围,器件设计和电路设计中都是一个及其重要的参数。 用NMOS简单概括一下:NMOS衬底为P型半导体,源漏区分别是N型掺杂,栅极为0电压时,沟道跟衬底一样,是P型,不存在导电电子,没有电流产生;当栅极电压为正并逐渐增大时,正电压会排斥沟道空穴向衬底方向移动,同时吸引衬底电流流向沟道,使得沟道电子越来越多,最终导致沟道类型发生反型;当栅极电压达到一个被称之为阈值电压的值时,沟道发生强发型,沟道电子在漏源电压作用下由源区向漏区移动,产生电流,即器件开启。 PMOS的机理可以类似分析,只是需要注意PMOS沟道导电的是空穴。 在定性理解机理的基础上一定按照书上的推导定量的得到阈值电压的公式,并且记住,再次强调,这一点非常重要。 6、衬底偏置效应(体效应) 一般情况下,NMOS的源极跟衬底相连,并且接芯片的最低电位,但是在实际电路中,由于设计需要,往往会出现源极接到了一个比衬底高的电位上,源极电压会吸引沟道电子移向源极,从而使沟道电子变少,要使沟道达到强反型,就需要更大的栅极电压,这就是阈值电压的增大。 同理,对于PMOS,源极一般与PMOS管的体(N阱)相连,接芯片最高电位,实际设计中会有源极接到比体要低一些的电位上,会吸引沟道中的空穴移向源极,同样导致沟道空穴变少,要是沟道达到强发型,就需要更低的栅极电压,即阈值电压减小,阈值电压的绝对值也是增大的。 7、直流电流电压方程(定量讨论) 直流电流电压方程显示的输出特性即是对工作区间的定量讨论。 前提条件(V GS>V T器件导通)

常用半导体器件

第4章常用半导体器件 本章要求了解PN结及其单向导电性,熟悉半导体二极管的伏安特性及其主要参数。理解稳压二极管的稳压特性。了解发光二极管、光电二极管、变容二极管。掌握半导体三极管的伏安特性及其主要参数。了解绝缘栅场效应晶体管的伏安特性及其主要参数。 本章内容目前使用得最广泛的是半导体器件——半导体二极管、稳压管、半导体三极管、绝缘栅场效应管等。本章介绍常用半导体器件的结构、工作原理、伏安特性、主要参数及简单应用。 本章学时6学时 4.1 PN结和半导体二极管 本节学时2学时 本节重点1、PN结的单向导电性; 2、半导体二极管的伏安特性; 3、半导体二极管的应用。 教学方法结合理论与实验,讲解PN结的单向导电性和半导体二极管的伏安特性,通过例题让学生掌握二半导体极管的应用。 4.1.1 PN结的单向导电性 1. N型半导体和P型半导体 在纯净的四价半导体晶体材料(主要是硅和锗)中掺入微量三价(例如硼)或五价(例如磷)元素,半导体的导电能力就会大大增强。掺入五价元素的半导体中的多数载流子是自由电子,称为电子半导体或N型半导体。而掺入三价元素的半导体中的多数载流子是空穴,称为空穴半导体或P型半导体。在掺杂半导体中多数载流子(称多子)数目由掺杂浓度确定,而少数载流子(称少子)数目与温度有关,并且温度升高时,少数载流子数目会增加。 2.PN结的单向导电性 当PN结加正向电压时,P端电位高于N端,PN结变窄,而当PN结加反向电压时,N端电位高于P端,PN结变宽,视为截止(不导通)。 4.1.2 半导体二极管 1.结构 半导体二极管就是由一个PN结加上相应的电极引线及管壳封装而成的。由P区引出的电极称为阳极,N区引出的电极称为阴极。因为PN结的单向导电性,二极管导通时电流方向是由阳极通过管子内部流向阴极。 2. 二极管的种类 按材料来分,最常用的有硅管和锗管两种;按用途来分,有普通二极管、整流二极管、稳压二极管等多种;按结构来分,有点接触型,面接触型和硅平面型几种,点接触型二极管(一般为锗管)其特点是结面积小,因此结电容小,允许通过的电流也小,适用高频电路的检波或小电流的整流,也可用作数字电路里的开关元件;面接触型二极管(一般为硅管)其特点是结面积大,结电容大,允许通过的电流较大,适用于低频整流;硅平面型二极管,结面积大的可用于大功率整流,结面积小的,适用于脉冲数字电路作开关管。

半导体器件复习题与参考答案

第二章 1 一个硅p -n 扩散结在p 型一侧为线性缓变结,a=1019cm -4,n 型一侧为均匀掺杂,杂质浓度为3×1014cm -3,在零偏压下p 型一侧的耗尽层宽度为0.8μm,求零偏压下的总耗尽层宽度、建电势和最大电场强度。 解:)0(,22≤≤-=x x qax dx d p S εψ )0(,2 2n S D x x qN dx d ≤≤-=εψ 0),(2)(22 ≤≤--=- =E x x x x qa dx d x p p S εψ n n S D x x x x qN dx d x ≤≤-=- =E 0),()(εψ x =0处E 连续得x n =1.07μm x 总=x n +x p =1.87μm ?? =--=-n p x x bi V dx x E dx x E V 0 516.0)()( m V x qa E p S /1082.4)(25 2max ?-=-= ε,负号表示方向为n 型一侧指向p 型一侧。 2 一个理想的p-n 结,N D =1018cm -3,N A =1016cm -3,τp=τn=10-6s ,器件的面积为1.2×10-5cm -2,计算300K 下饱和电流的理论值,±0.7V 时的正向和反向电流。 解:D p =9cm 2/s ,D n =6cm 2/s cm D L p p p 3103-?==τ,cm D L n n n 31045.2-?==τ n p n p n p S L n qD L p qD J 0 + = I S =A*J S =1.0*10-16A 。 +0.7V 时,I =49.3μA , -0.7V 时,I =1.0*10-16A 3 对于理想的硅p +-n 突变结,N D =1016cm -3,在1V 正向偏压下,求n 型中性区存

常用半导体器件

《模拟电子技术基础》 (教案与讲稿) 任课教师:谭华 院系:桂林电子科技大学信息科技学院电子工程系 授课班级:2008电子信息专业本科1、2班 授课时间:2009年9月21日------2009年12月23日每周学时:4学时 授课教材:《模拟电子技术基础》(第4版) 清华大学电子学教研组童诗白华成英主编 高教出版社 2009

第一章常用半导体器件 本章内容简介 半导体二极管是由一个PN结构成的半导体器件,在电子电路有广泛的应用。本章在简要地介绍半导体的基本知识后,主要讨论了半导体器件的核心环节——PN 结。在此基础上,还将介绍半导体二极管的结构、工作原理,特性曲线、主要参数以及二极管基本电路及其分析方法与应用。最后对齐纳二极管、变容二极管和光电子器件的特性与应用也给予简要的介绍。 (一)主要内容: ?半导体的基本知识 ?PN结的形成及特点,半导体二极管的结构、特性、参数、模型及应用电 路 (二)基本要求: ?了解半导体材料的基本结构及PN结的形成 ?掌握PN结的单向导电工作原理 ?了解二极管(包括稳压管)的V-I特性及主要性能指标 (三)教学要点: ?从半导体材料的基本结构及PN结的形成入手,重点介绍PN结的单向导 电工作原理、 ?二极管的V-I特性及主要性能指标 1.1 半导体的基本知识 1.1.1 半导体材料 根据物体导电能力(电阻率)的不同,来划分导体、绝缘体和半导体。导电性能介于导体与绝缘体之间材料,我们称之为半导体。在电子器件中,常用的半导体材料有:元素半导体,如硅(Si)、锗(Ge)等;化合物半导体,如砷化镓(GaAs)等;以及掺杂或制成其它化合物半导体材料,如硼(B)、磷(P)、锢(In)和锑(Sb)等。其中硅是最常用的一种半导体材料。 半导体有以下特点: 1.半导体的导电能力介于导体与绝缘体之间 2.半导体受外界光和热的刺激时,其导电能力将会有显著变化。 3.在纯净半导体中,加入微量的杂质,其导电能力会急剧增强。

半导体器件知识点归纳二

三、双极结型晶体管 1、BJT的分类 代表工艺、名称、代表类型 2、偏压与工作状态 各种偏压与所对应的工作状态、模拟电路和数字电路应用 3、少子浓度分布与能带图 各个区的少子浓度分布 均匀基区和缓变基区各种工作状态下的能带图画法 4、放大系数 放大电路的两种基本类型:共基极和共发射极 两种基本类型下的直流短路电流放大系数和静态电流放大系数的定义及其计算 两类放大系数间的关系及其典型范围 5、基区输运系数 基区输运系数的定义及近似计算公式 6、基区渡越时间 基区渡越时间的定义及其计算公式 计算公式中各表达式的物理意义 7、发射结注入效率 发射结注入效率的定义及其计算公式 8、缓变基区晶体管的电流放大系数 自建场因子(基区漂移系数)的概念 缓变基区晶体管的基区输运系数、基区渡越时间、发射结注入效率、电流放大系数与均匀基区大致相同,注意区分即可 9、小电流时放大系数的下降 解释产生该现象的原因 10、发射区重掺杂效应 解释其现象、原因及减轻措施 11、BJT的直流电流电压方程 共基极和共发射极的直流电流电压方程 倒向晶体管的概念 倒向晶体管放大系数比正向晶体管小的多的原因 倒向晶体管和正向晶体管的互易关系 12、BJT的直流输出特性 熟悉集电极电流的推导 共基极和共发射极输出特性图 13、基区宽度调变效应 厄尔利效应产生的现象 厄尔利电压的定义及其计算 减小厄尔利效应的方法 14、BJT反向特性 浮空电势的概念 三种反向电流的定义与测量及他们之间的相互关系(物理图像) 共基极和共发射极接法的雪崩击穿电压的定义及测量

发射结击穿电压 15、基区穿通效应 基区穿通电压的计算 基区穿通效应对BJT反向特性的影响 16、基极电阻 基极电阻的定义 基极电阻的主要组成 方块电阻的定义及其计算 17、大注入效应 稍微了解,基本同PN结 大注入效应对电流放大系数的影响 18、基区扩展效应 基区扩展(Kirk)效应的定义 基区扩展效应对电流放大系数的影响 19、基区输运系数与频率的关系 渡越时间的三个作用 基区输运系数的准确表达式(包括缓变基区) 20、四个主要时间常数 发射结势垒电容充放电时间常数(影响注入效率) 发射结扩散电容充放电时间常数(基区渡越时间,影响基区输运系数) 集电结耗尽区延迟时间 集电结势垒电容经集电区充放电的时间常数 理解定义及物理意义 21、晶体管电流放大系数与频率的关系 共基极和共发射极高频小信号下短路电流放大系数及其截止频率 截止频率的定义 22、高频晶体管特征频率的定义、计算与测量 23、高频小信号电流电压方程 共基极和共射极高频小信号下的电流电压方程,理解公式中各符号意义及其表达式小信号等效电路示意图 24、高频晶体管最大功率增益与最高震荡频率 最大功率增益的定义及计算 高频优值的定义及计算 最高震荡频率的定义及计算 理解的基础上记住公式为主,不要求推导 25、影响特征频率与功率增益的因素 对高频晶体管结构的基本要求:浅结、细线条、无源基区重掺杂、N+沉底上生长N-外延层 第三部分的知识点比较繁多而且是考试重点,在理解内容的基础上多总结,对比各个知识点总结出规律,得出相关结论。

1章 常用半导体器件题解

第一章 常用半导体器件 自 测 题 一、判断下列说法是否正确,用“√”和“×”表示判断结果填入空内。 (1)在N 型半导体中如果掺入足够量的三价元素,可将其改型为P 型半导体。( √ ) (2)因为N 型半导体的多子是自由电子,所以它带负电。( × ) (3)PN 结在无光照、无外加电压时,结电流为零。( √ ) (4)处于放大状态的晶体管,集电极电流是多子漂移运动形成的。 ( ×) (5)结型场效应管外加的栅-源电压应使栅-源间的耗尽层承受反向电压,才能保证其R G S 大的特点。( ) (6)若耗尽型N 沟道MOS 管的U G S 大于零,则其输入电阻会明显变小。( ) 解:(1)√ (2)× (3)√ (4)× (5)√ (6)× 二、选择正确答案填入空内。 (1)PN 结加正向电压时,空间电荷区将 A 。 A. 变窄 B. 基本不变 C. 变宽(加上正向电压时,内电场被削弱,空间电荷区变窄) (2)设二极管的端电压为U ,则二极管的电流方程是 C 。 A. I S e U B. T U U I e S C. )1e (S -T U U I (3)稳压管的稳压区是其工作在 C 。 A. 正向导通 B.反向截止 C.反向击穿 (4)当晶体管工作在放大区时,发射结电压和集电结电压应为 B 。 A. 前者反偏、后者也反偏 B. 前者正偏、后者反偏 C. 前者正偏、后者也正偏 (5)U G S =0V 时,能够工作在恒流区的场效应管有 。 A. 结型管 B. 增强型MOS 管 C. 耗尽型MOS 管 解:(1)A (2)C (3)C (4)B (5)A C

三、写出图T1.3所示各电路的输出电压值,设二极管导通电压U D=0.7V。 图T1.3 解:U O1≈1.3V,U O2=0,U O3≈-1.3V,U O4≈2V,U O5≈1.3V, U O6≈-2V。 四、已知稳压管的稳压值U Z=6V,稳定电流的最小值I Z m i n=5mA。求图T1.4所示电路中U O1和U O2各为多少伏。 图T1.4 解:U O1=6V,U O2=5V。

【免费下载】常用半导体器件及应用单元测验附答案

项目六 常用半导体器件及应用 班级 姓名 成绩 一、填空题:(35分) 1.制作半导体器件时,使用最多的半导体材料是 硅 和 锗 。 2.根据载流子数目的不同,可以将半导体分为 本征半导体 、 P 型半导体 和 N 型半导体 三种。 3.PN 结的单向导电性是指:加正向电压 导通 ,加反向电压 截止 。PN 结正偏是指P 区接电源 正 极,N 区接电源 负 极。 4.半导体二极管由一个 PN 结构成,它具有 单向导电 特性。 5.硅二极管的门坎电压是 0.5V ,正向导通压降是 0.7V ;锗二极管的门坎电压是 0.2V ,正向导通压降是 0.3V 。 6.半导体稳压二极管都是 硅 材料制成的。它工作在 反向击穿 状态时,才呈现稳压状态。 7.晶体三极管是由三层半导体、两个PN 结构成的一种半导体器件,两个PN 结分别为 发射结 和 集电结 ;对应的三个极分别是 发射极e 、 基极b 、 集电极c 。 8.半导体三极管中,PNP 的符号是 ,NPN 的符号是 。9.若晶体三极管集电极输出电流I C =9 mA ,该管的电流放大系数为β=50,则其输入电流I B =_0.18_mA 。10.三极管具有电流放大作用的实际是:利用 基极 电流实现对 集电极 电流的控制。因此三极管是 电流 控制型器件。11.三极管的输出特性曲线可分为三个区域,即_放大_区,__饱和_区和_截止_区。12.放大电路静态工作点随 温度 变化而变化, 分压式 偏置电路可较好解决此问题。13.对于一个晶体管放大器来说,一般希望其输入电阻要 大 些,以减轻信号源的负担,提高抗干扰能力;输出电阻要 小 些,以增大带动负载的能力。二、判断题:(10分,将答案填在下面的表格内) 题号12345678910答案××√××√√×√× 1.P 型半导体带正电,N 型半导体带负电。( ) 2.半导体器件一经击穿便即失效,因为击穿是不可逆的。( ) 3.桥式整流电路中,若有一只二极管开路,则输出电压为原先的一半。( ) 4.用两个PN 结就能构成三极管,它就具有放大作用。( ) 5.β越大的三极管,放大电流的能力越强,管子的性能越好。 6.三极管和二极管都是非线性器件。( ) 7.三极管每一个基极电流都有一条输出特性曲线与之对应。( )等多项对全系统启备高中免不

半导体器件工艺与物理期末必考题材料汇总

半导体期末复习补充材料 一、名词解释 1、准费米能级 费米能级和统计分布函数都是指的热平衡状态,而当半导体的平衡态遭到破坏而存在非平衡载流子时,可以认为分就导带和价带中的电子来讲,它们各自处于平衡态,而导带和价带之间处于不平衡态,因而费米能级和统计分布函数对导带和价带各自仍然是适用的,可以分别引入导带费米能级和价带费米能级,它们都是局部的能级,称为“准费米能级”,分别用E F n、E F p表示。 2、直接复合、间接复合 直接复合—电子在导带和价带之间直接跃迁而引起电子和空穴的直接复合。 间接复合—电子和空穴通过禁带中的能级(复合中心)进行复合。 3、扩散电容 PN结正向偏压时,有空穴从P区注入N区。当正向偏压增加时,由P区注入到N区的空穴增加,注入的空穴一部分扩散走了,一部分则增加了N区的空穴积累,增加了载流子的浓度梯度。在外加电压变化时,N扩散区内积累的非平衡空穴也增加,与它保持电中性的电子也相应增加。这种由于扩散区积累的电荷数量随外加电压的变化所产生的电容效应,称为P-N结的扩散电容。用CD表示。 4、雪崩击穿 随着PN外加反向电压不断增大,空间电荷区的电场不断增强,当超过某临界值时,载流子受电场加速获得很高的动能,与晶格点阵原子发生碰撞使之电离,产生新的电子—空穴对,再被电场加速,再产生更多的电子—空穴对,载流子数目在空间电荷区发生倍增,犹如雪崩一般,反向电流迅速增大,这种现象称之为雪崩击穿。 1、PN结电容可分为扩散电容和过渡区电容两种,它们之间的主要区别在于 扩散电容产生于过渡区外的一个扩散长度范围内,其机理为少子的充放 电,而过渡区电容产生于空间电荷区,其机理为多子的注入和耗尽。 2、当MOSFET器件尺寸缩小时会对其阈值电压V T产生影响,具体地,对 于短沟道器件对V T的影响为下降,对于窄沟道器件对V T的影响为上升。 3、在NPN型BJT中其集电极电流I C受V BE电压控制,其基极电流I B受V BE 电压控制。 4、硅-绝缘体SOI器件可用标准的MOS工艺制备,该类器件显著的优点是 寄生参数小,响应速度快等。 5、PN结击穿的机制主要有雪崩击穿、齐纳击穿、热击穿等等几种,其中发 生雪崩击穿的条件为V B>6E g/q。 6、当MOSFET进入饱和区之后,漏电流发生不饱和现象,其中主要的原因 有沟道长度调制效应,漏沟静电反馈效应和空间电荷限制效应。 二、简答题 1、发射区重掺杂效应及其原因。 答:发射区掺杂浓度过重时会引起发射区重掺杂效应,即过分加重发射区掺杂不但不能提高注入效率γ,反而会使其下降。 原因:发射区禁带宽度变窄和俄歇复合效应增强

常用半导体器件习题考答案

第7章 常用半导体器件 习题参考答案 7-1 计算图所示电路的电位U Y (设D 为理想二极管)。 (1)U A =U B =0时; (2)U A =E ,U B =0时; (3)U A =U B =E 时。 解:此题所考查的是电位的概念以及二极管应用的有关知识。从图中可以看出A 、B 两点电位的相对高低影响了D A 和D B 两个二极管的导通与关断。 当A 、B 两点的电位同时为0时,D A 和D B 两个二极管的阳极和阴极(U Y )两端电位同时为0,因此均不能导通;当U A =E ,U B =0时,D A 的阳极电位为E ,阴极电位为0(接地),根据二极管的导通条件,D A 此时承受正压而导通,一旦D A 导通,则U Y >0,从而使D B 承受反压(U B =0)而截止;当U A =U B =E 时,即D A 和D B 的阳极电位为大小相同的高电位,所以两管同时导通,两个1k Ω的电阻为并联关系。本题解答如下: (1)由于U A =U B =0,D A 和D B 均处于截止状态,所以U Y =0; (2)由U A =E ,U B =0可知,D A 导通,D B 截止,所以U Y =E ? +9 19=109E ; (3)由于U A =U B =E ,D A 和D B 同时导通,因此U Y =E ?+5.099=1918E 。 7-2 在图所示电路中,设D 为理想二极管,已知输入电压u i 的波形。试画出输出电压u o 的波形图。 解:此题的考查点为二极管的伏安特性以及电路的基本知识。 首先从(b )图可以看出,当二极管D 导通时,电阻为零,所以u o =u i ;当D 截止时,电阻为无穷大,相当 于断路,因此u o =5V ,即是说,只要判断出D 导通与否, 就可以判断出输出电压的波形。要判断D 是否导通,可 以以接地为参考点(电位零点),判断出D 两端电位的高 低,从而得知是否导通。 u o 与u i 的波形对比如右图所示: 7-3 试比较硅稳压管与普通二极管在结构和运用上有 何异同 (参考答案:见教材) 7-4 某人检修电子设备时,用测电位的办法,测出管脚①对地电位为-;管脚②对地电位

常用半导体元件习题及答案

第5章常用半导体元件习题 5.1晶体二极管 一、填空题: 1.半导体材料的导电能力介于和之间,二极管是将 封装起来,并分别引出和两个极。 2.二极管按半导体材料可分为和,按内部结构可分为_和,按用途分类有、、四种。3.二极管有、、、四种状态,PN 结具有性,即。4.用万用表(R×1K档)测量二极管正向电阻时,指针偏转角度,测量反向电阻时,指针偏转角度。 5.使用二极管时,主要考虑的参数为和二极管的反向击穿是指。 6.二极管按PN结的结构特点可分为是型和型。 7.硅二极管的正向压降约为 V,锗二极管的正向压降约为 V;硅二极管的死区电压约为 V,锗二极管的死区电压约为 V。 8.当加到二极管上反向电压增大到一定数值时,反向电流会突然增大,此现象称为现象。 9.利用万用表测量二极管PN结的电阻值,可以大致判别二极管的、和PN结的材料。 二、选择题: 1. 硅管和锗管正常工作时,两端的电压几乎恒定,分别分为( )。 A.0.2-0.3V 0.6-0.7V B. 0.2-0.7V 0.3-0.6V C.0.6-0.7V 0.2-0.3V D. 0.1-0.2V 0.6-0.7V 的大小为( )。 2.判断右面两图中,U AB A. 0.6V 0.3V B. 0.3V 0.6V C. 0.3V 0.3V D. 0.6V 0.6V 3.用万用表检测小功率二极管的好坏时,应将万用表欧姆档拨到() Ω档。 A.1×10 B. 1×1000 C. 1×102或1×103 D. 1×105 4. 如果二极管的正反向电阻都很大,说明 ( ) 。 A. 内部短路 B. 内部断路 C. 正常 D. 无法确定 5. 当硅二极管加0.3V正向电压时,该二极管相当于( ) 。 A. 很小电阻 B. 很大电阻 C.短路 D. 开路 6.二极管的正极电位是-20V,负极电位是-10V,则该二极管处于()。 A.反偏 B.正偏 C.不变D. 断路 7.当环境温度升高时,二极管的反向电流将() A.增大 B.减小 C.不变D. 不确定 8.PN结的P区接电源负极,N区接电源正极,称为()偏置接法。

2章 常用半导体器件及应用题解

第二章常用半导体器件及应用 一、习题 2.1填空 1. 半导材料有三个特性,它们是、、。 2. 在本征半导体中加入元素可形成N型半导体,加入元素可形成P型半导体。 3. 二极管的主要特性是。 4.在常温下,硅二极管的门限电压约为V,导通后的正向压降约为V;锗二极管的门限电压约为V,导通后的正向压降约为V。 5.在常温下,发光二极管的正向导通电压约为V,考虑发光二极管的发光亮度和寿命,其工作电流一般控制在mA。 6. 晶体管(BJT)是一种控制器件;场效应管是一种控制器件。 7. 晶体管按结构分有和两种类型。 8. 晶体管按材料分有和两种类型。 9. NPN和PNP晶体管的主要区别是电压和电流的不同。 10. 晶体管实现放大作用的外部条件是发射结、集电结。 11. 从晶体管的输出特性曲线来看,它的三个工作区域分别是、、。 12. 晶体管放大电路有三种组态、、。 13. 有两个放大倍数相同,输入电阻和输出电阻不同的放大电路A和B,对同一个具有内阻的信号源电压进行放大。在负载开路的条件下,测得A放大器的输出电压小,这说明A 的输入电阻。 14.三极管的交流等效输入电阻随变化。 15.共集电极放大电路的输入电阻很,输出电阻很。 16.射极跟随器的三个主要特点是、、。 17.放大器的静态工作点由它的决定,而放大器的增益、输入电阻、输出电阻等由它的决定。 18.图解法适合于,而等效电路法则适合于。 19.在单级共射极放大电路中,如果输入为正弦波,用示波器观察u o和u i的波形的相位关系为;当为共集电极电路时,则u o和u i的相位关系为。 20. 在NPN共射极放大电路中,其输出电压的波形底部被削掉,称为失真,原因是Q点(太高或太低),若输出电压的波形顶部被削掉,称为失真,原因是Q 点(太高或太低)。如果其输出电压的波形顶部底都被削掉,原因是。 21.某三极管处于放大状态,三个电极A、B、C的电位分别为9V、2V和1.4V,则该三极管属于型,由半导体材料制成。 22.在题图P2.1电路中,某一元件参数变化时,将U CEQ的变化情况(增加;减小;不变)填入相应的空格内。 (1) R b增加时,U CEQ将。 (2) R c减小时,U CEQ将。 (3) R c增加时,U CEQ将。 (4) R s增加时,U CEQ将。 (5) β增加时(换管子),U CEQ将。

01常用半导体器件练习题

第1章常用半导体器件 一.选择题 1、半导体导电的载流子是____C____,金属导电的载流子是_____A__。 A.电子B.空穴C.电子和空穴D.原子核 2、在纯净半导体中掺入微量3价元素形成的是___A_____型半导体。 A. P B. N C. PN D. 电子导电 3、纯净半导体中掺入微量5价元素形成的是____B____型半导体。 A. P B. N C. PN D. 空穴导电 4、N型半导体多数载流子是B,少数载流子是 A ;P型半导体中多数载流子是 A ,少数载流子是 B 。 A.空穴B.电子C.原子核D.中子 5、杂质半导体中多数载流子浓度取决于 D ,少数载流子浓度取于 B 。 A.反向电压的大小B.环境温度C.制作时间D.掺入杂质的浓度 6、PN结正向导通时,需外加一定的电压U,此时,电压U的正端应接PN结的 A , 负端应接PN结 B 。 A.P区B.N区 7、二极管的反向饱和电流主要与 B 有关。(当温度一定时,少子浓度一定,反向电流几乎不 随外加电压而变化,故称为反向饱和电流。) A.反向电压的大小B.环境温度C.制作时间D.掺入杂质的浓度 8、二极管的伏安特性曲线反映的是二极管 A 的关系曲线。 A.V D-I D B.V D-r D C.I D-r D D.f-I D 9、用万用表测量二极管的极性,将红、黑表笔分别接二极管的两个电极,若测得的电阻很 小(几千欧以下),则黑表笔所接电极为二极管的 C 。 A.正极B.负极C.无法确定 10、下列器件中, B 不属于特殊二极管。 A.稳压管B.整流管C.发光管D.光电管 11、稳压二极管稳压,利用的是稳压二极管的 C 。 A.正向特性B.反向特性C.反向击穿特性 12、稳压管的稳定电压V Z是指其 D 。

1章 常用半导体器件 习题

第一章题解-1 第一章 常用半导体器件 习 题 1.1 选择合适答案填入空内。 (1)在本征半导体中加入 元素可形成N 型半导体,加入 元素可形成P 型半导体。 A. 五价 B. 四价 C. 三价 (2)当温度升高时,二极管的反向饱和电流将 。 A. 增大 B. 不变 C. 减小 (3)工作在放大区的某三极管,如果当I B 从12μA 增大到22μA 时,I C 从1m A 变为2m A ,那么它的β约为 。 A. 83 B. 91 C. 100 (4)当场效应管的漏极直流电流I D 从2m A 变为4m A 时,它的低频跨导g m 将 。 A.增大 B.不变 C.减小 解:(1)A ,C (2)A (3)C (4)A 1.2 能否将1.5V 的干电池以正向接法接到二极管两端?为什么? 解:不能。因为二极管的正向电流与其端电压成指数关系,当端电压为1.5V 时,管子会因电流过大而烧坏。 1.3 电路如图P1.3所示,已知u i =10s in ωt (v),试画出u i 与u O 的波形。设二极管正向导通电压可忽略不计。 图P1.3

第一章题解-2 解图P1.3 解:u i 和u o 的波形如解图P1.3所示。 1.4 电路如图P1.4所示,已知u i =5s in ωt (V),二极管导通电压U D =0.7V 。试画出u i 与u O 的波形,并标出幅值。 图P1.4 解图P1.4 解:波形如解图P1.4所示。 1.5 电路如图P1.5(a )所示,其输入电压u I1和u I2的波形如图(b )所示,二极管导通电压U D =0.7V 。试画出输出电压u O 的波形,并标出幅值。 图P1.5 解:u O 的波形如解图P1.5所示。

半导体器件附答案

第一章、半导体器件(附答案) 一、选择题 1.PN 结加正向电压时,空间电荷区将 ________ A. 变窄 B. 基本不变 C. 变宽 2.设二极管的端电压为 u ,则二极管的电流方程是 ________ A. B. C. 3.稳压管的稳压是其工作在 ________ A. 正向导通 B. 反向截止 C. 反向击穿区 4.V U GS 0=时,能够工作在恒流区的场效应管有 ________ A. 结型场效应管 B. 增强型 MOS 管 C. 耗尽型 MOS 管 5.对PN 结增加反向电压时,参与导电的是 ________ A. 多数载流子 B. 少数载流子 C. 既有多数载流子又有少数载流子 6.当温度增加时,本征半导体中的自由电子和空穴的数量 _____ A. 增加 B. 减少 C. 不变 7.用万用表的 R × 100 Ω档和 R × 1K Ω档分别测量一个正常二极管的正向电阻,两次测 量结果 ______ A. 相同 B. 第一次测量植比第二次大 C. 第一次测量植比第二次小 8.面接触型二极管适用于 ____ A. 高频检波电路 B. 工频整流电路 9.下列型号的二极管中可用于检波电路的锗二极管是: ____ A. 2CZ11 B. 2CP10 C. 2CW11 D.2AP6 10.当温度为20℃时测得某二极管的在路电压为V U D 7.0=。若其他参数不变,当温度上 升到40℃,则D U 的大小将 ____ A. 等于 0.7V B. 大于 0.7V C. 小于 0.7V 11.当两个稳压值不同的稳压二极管用不同的方式串联起来,可组成的稳压值有 _____ A. 两种 B. 三种 C. 四种 12.在图中,稳压管1W V 和2W V 的稳压值分别为6V 和7V ,且工作在稳压状态,由此可知输 出电压O U 为 _____ A. 6V B. 7V C. 0V D. 1V

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