正电子湮没谱学-0017

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正电子湮没谱实验数据处理方法

正电子湮没谱实验数据处理方法

正电子湮没谱实验数据处理方法陈志权1. 正电子寿命谱分析方法:通常正电子湮没的寿命谱可以写为一到几个指数成分之和:∑==ni i I t L 1i(1) texp(-)(τ其中τi 及I i 为正电子在处于不同湮没态时的湮没寿命及其强度。

上式是在理想情况下的正电子寿命谱表达式。

在实际测量中,由于仪器存在时间分辨率,我们测量所得到的寿命谱变成了理想寿命谱与谱仪时间分辨函数的卷积:∑∫=∞′−′′−=ni t i t t d e t t R I N t Y i 1(2) )()(λN t 为实验测量寿命谱的总计数。

R(t)为谱仪的时间分辨函数。

通常认为是高斯函数形式:(3) 2log 2,1)(2)/(FWHM e t R t ==−σπσσ其中FWHM 为高斯函数的半高宽(Full Width at Half Maximum),σ为标准偏差。

则Y(t)可变换成如下的形式:(4) )/2/(21)(2)2/(1σσλσλλt erfc e I N t Y i t n i i t i i −=+−=∑其中,erfc(x)称为误差余函数,它的定义为:(5) 21)(1)(02dt e x erf x erfc xt∫−−=−=π在正电子寿命谱中,时间零点不是在t=0,而是在t 0处。

因此上式实际上为:(6) 2(21)(0)2/()(120σσλσλλt t erfc e I N t Y i t t n i i t i i −−=+−−=∑另外,在实际的正电子寿命谱测量中,Y(t)通常是以多道分析器(MCA)中每一道的计数来表示的。

为考虑道宽的影响,应建立每道中计数的数学表达式,即第j 道的计数Y j 应为从时间t j-1到t j 的积分,即为:(7) )(1dt t Y Y jj t t j ∫−=(8) )]()([201101,,σσλt t erf t t erf Y Y I Y j ni j j i j i iij −+−−−=−=−∑ 式中: (9) 2()2/()(,20σσλσλλt t erfc eY j i t t j i i j i −−=+−−利用高斯-牛顿非线性拟合算法,对实验测量的正电子寿命谱进行拟合,即可得到正电子在各个湮没态下的寿命τi及其强度I i。

正电子谱学原理

正电子谱学原理

正电子谱学原理⏹ 正电子 ⏹ 正电子湮没...)3,2(=>-+-+n n e e γ⏹ 双光子湮没n = 2⏹ 正电子寿命⏹ 湮没光子的能量和Doppler 展宽 ⏹ 湮没光子的角关联2γ湮灭过程中动量守恒的矢量图C M P T 0/≈θ2/L cP E =∆Doppler 展宽的线性参数⏹ 正电子源放射性同位素)28.1(22112211MeV e Ne Na γ++->+单能慢正电子束正电子实验⏹ 正电子湮没技术(70年代) ⏹ 正电子湮没谱学(80年代) ⏹ 正电子谱学(90年代后期) ⏹ 正电子谱学的主要特点:对固体中原子尺度的缺陷研究和微结构变化十分敏感,是其他手段无法比拟的。

对研究材料完全无损伤,可进行生产过程中的实时测量,能够满足某些特点的测量要求。

理论比较完善,可以精确计算很多观测量同实验进行比较。

固体内部的信息由光子毫无失真的带出,对样品要求低,不需特别制备或处理,不受半导体导电类型和载流子浓度等因素影响。

作为电子的反粒子,正电子容易鉴别,又能形成电子偶素,可以替代电子探针来获得材料中更多的信息,在许多实验中能够大大降低电子本底。

正电子谱学基本实验技术⏹正电子寿命谱⏹湮灭能谱的Doppler展宽及其S参数⏹湮没辐射的角关联⏹慢正电子束慢正电子束装置单能正电子的注入深度正电子扩散慢正电子束流的慢化体结构其中,S: 22Na源P: 铅屏蔽M: 钨慢化体T: 靶材料C: 有补偿线圈 D: 高纯锗探测器 E: 液氮冷却装置Slowpos-USTC :慢电子束流装置示意图Slowpos-USTC :慢电子束的数据测量和控制系统慢正电子束特点:◆ 可探测真实表面(几个原子层)的物理化学信息 ◆ 探测物体内部局域电子密度及动量分布 ◆ 可获得缺陷沿样品深度的分布⏹ 单能正电子平均注入深度的经验公式:62.1)()/()/(/4003===n keV E cm g keV A A AE Z n n为正电子注入能量为靶密度,其中ρρ正电子谱学应用之一Open volume defects of superconducting thin filmYBa2Cu3O7-δ高温超导体中空位型缺陷不仅是不可避免的,而且也是必须的。

正电子湮没技术

正电子湮没技术
❖ 制样措施简便,适应旳材料广泛,经过射线带出信
息有利于现场测量特点,在固体物理、材料科学及 物理冶金和化学等领域得到了越来越广泛旳应用。
正电子发展历史
❖ 1939年狄拉克从理论上预言正电子旳存在 ❖ 1932年安德森,1933年Blackett和Occhian Line从试验上观察到正电子
旳存在
1 d
2 d
I1
f
1
2 2
f d f d
I2
1 2
f
d
(9)
低缺陷浓度近似
❖ 当缺陷浓度很低时,和都很小,由式(4) 和(7)可近似求得如下成果:
❖ 热化后旳正电子处于正电子导带带底旳基态, 即非局域旳布洛赫态,并服从玻尔兹曼分布:
f
(E , T
)
(m
kBT
)3 2
exp(
E
kBT )
正电子在固体物质中旳捕获
❖ 在热扩散阶段,正电子波函数可能会与晶格 中旳点阵缺陷交迭。因为不具有带正电原子 实旳点阵空位是正电子旳吸引中心,假如吸 引势足够强,正电子波函数会局域到缺陷处 形成局域态或称作正电子捕获态,直到与缺 陷处旳电子湮没为止。
❖ 空位型缺陷涉及: 空位 刃型位错 空位团 微孔洞等。
空位
刃位错点阵示意图
堆垛层错缺陷
晶粒间界
缺陷旳表达符号
点缺陷名称
点缺陷所带有效电荷
×
中性
·
正电荷
’ 负电荷
缺陷在晶体中所占的格位
❖ 点缺陷名称:空位缺陷用V,杂质缺陷则用该杂 质旳元素符号表达,电子缺陷用e表达,空穴缺陷 用h表达。
❖ 缺陷符号旳右下角旳符号标志着缺陷在晶体中所 占旳位置:用被取代旳原子旳元素符号表达缺陷 是处于该原子所在旳点阵格位上;用字母i表达缺 陷是处于晶格点阵旳间隙位置。

正电子湮没寿命谱数据处理方法

正电子湮没寿命谱数据处理方法
be obta.med by mis method.Coded by the MAn,AB,based 甜ld raIldom iIlitial Value generation of nle genetic
on
t11e global searCh
algorimm
(GA),

multi-exponential缸nCtion
and meir co玎espondillg witll廿le fittiIlg
fitt吨of the PALS haS been a仕empted.The l漱iIlles
each coInponent
neIlsi够of
were砌ned.CoInpared
doesn’t lead
to
by吐1e
least squares
而且能较方便地制成适合于正电子寿命谱测量所用的源(源强为几pCi~几十pCi);它的
能量为1.28MeV的伴随丫射线很适合于作为寿命谱的起始信号。轴a衰变产生的正电
子能谱连续分布,峰值为178 eV,最大值为O.545 MeV,其衰变纲图如图1-2所示。
珠a
22Ne
激发态
丫’
22Ne
基态 图1_2 22Na的衰变纲图 Fig
(1.1)
变成丫光子的现象,这个现象称为正电子湮没。根据e+每对湮没后发射光子的数目不同, 可分为单光子湮没、双光子湮没和多光子湮没。以双光子湮没为例,如果e+.e。对湮没前 是静止的,按(1.1)式,湮没后所产生的两个丫光子的能量均为51lkeV。图1.1是e+吒-
双光子湮没示意图。
广西大学硕士掌位截咒炙
1.1.1正电子与正电子湮没 正电子(e+)是电子(e-)的反粒子,Dimc于1931年首先在理论上预言了它的存

正电子湮没符合多普勒展宽技术的材料学研究进展

正电子湮没符合多普勒展宽技术的材料学研究进展

正电子湮没符合多普勒展宽技术的材料学研究进展
叶凤娇;张鹏;张红强;况鹏;于润升;王宝义;曹兴忠
【期刊名称】《物理学报》
【年(卷),期】2024(73)7
【摘要】正电子湮没技术是研究材料微观结构的一种原子尺度表征方法,通过分析正电子湮没行为可以得到湮没位点处局域电子密度和原子结构信息.近年来,正电子湮没谱学技术已经发展成为优于常规手段的特色表征技术,其中符合多普勒展宽技术在研究缺陷附近的电子和原子结构方面具有独特优势,商谱曲线中高动量区域形状的变化反映了正电子湮没位点周围的元素信息.在常规符合多普勒展宽技术发展基础上,能量可调的慢正电子束流符合多普勒展宽技术在获取表面微观结构的深度分布信息上展示出独特的作用,同时也弥补了常规符合多普勒展宽技术只能表征体材料中缺陷环境的不足.本文结合国内外相关进展,综述了符合多普勒展宽技术在各类材料中的研究进展:1)合金中空位型缺陷和纳米沉淀的演化行为;2)半导体中晶格空位与杂质原子的相互作用;3)氧化物中氧空位和金属阳离子浓度的变化.除此之外,在聚合物中自由体积孔洞的大小、数量及分布的估算表征领域中,符合多普勒展宽技术也逐步得到应用.
【总页数】20页(P62-81)
【作者】叶凤娇;张鹏;张红强;况鹏;于润升;王宝义;曹兴忠
【作者单位】中国科学院高能物理研究所
【正文语种】中文
【中图分类】TG1
【相关文献】
1.低本底符合正电子湮没辐射多普勒展宽装置的研制
2.单通道符合正电子湮没多普勒展宽实验技术
3.正电子湮没辐射多普勒展宽谱的处理及其应用
4.环氧树脂/纳米SiO2复合材料摩擦学性能与正电子湮没谱的研究
5.正电子湮没谱学在金属材料氢/氦行为
研究中的应用
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正电子湮灭谱测试

正电子湮灭谱测试

正电子湮灭谱测试
正电子湮灭谱(PES)测试是一种量子化学的实验,用于研究分子的电子结构和化学反应机理。

它通过检测正电子湮灭事件发生的能量和角度,可以测量分子电子态的能量和振动结构。

正电子湮灭谱测试的原理是,当一个正电子与分子中的核碰撞时,电子会从分子中湮灭,释放出能量。

这些能量,即电子湮灭的能量,是由正电子的能量转变为电子湮灭的角度和能量组成的。

正电子湮灭谱测试可以检测电子湮灭过程中释放的能量和角度,从而测量分子电子态的能量和振动结构。

正电子湮灭谱测试的典型实验装置包括一个正电子源,用于产生撞击分子的正电子;一个电子检测器,用于检测湮灭电子的能量和角度;一个谱仪,用于计算和显示湮灭电子的能量和角度;以及一个控制系统,用于控制测试过程。

正电子湮灭谱测试的结果可以用来研究分子的电子结构和化学反应机理。

它可以用来检测分子的振动模式,从而推断分子的结构和反应机理,以及研究物质的性质。

此外,正电子湮灭谱测试还可用于探索物质结构的变化,以及研究新的材料和分子的性质。

总之,正电子湮灭谱测试是一种量子化学的实验,用于研究分子的电子结构和化学反应机理。

它可以检测电子湮灭的能
量和角度,从而测量分子电子态的能量和振动结构。

研究人员可以利用正电子湮灭谱测试探索分子的结构和反应机理,以及研究新的材料和分子的性质。

正电子湮灭

正电子湮灭

正电子湮灭正电子湮灭技术正电子湮没技术(Positron Annihilation Technique-PAT)是一门把核物理和核技术应用于固体物理与材料科学研究的新技术,近20多年来该技术得到了迅速发展。

正电子湮没技术包括多种实验方法,其中最常用的主要有3种,即正电子湮没寿命谱测量、2γ湮没角关联和湮没能量的Doppler展宽。

简言之,正电子湮没技术是通过入射正电子与材料中电子结合湮没来反映材料中微结构状态与缺陷信息的。

与其他现代研究方法相比,正电子湮没技术具有许多独特的优点。

首先,它对样品的种类几乎没有什么限制,可以是金属、半导体,或是绝缘体、化合物、高分子材料;可以是单晶、多晶、纳米晶、非晶态或液晶,只要是与材料的电子密度、电子动量密度有关的问题,原则上都可以用正电子湮没的方法进行研究。

第二,它所研究的样品一般不需要特殊制备,其制样方法简便易行。

另外,正电子湮没技术对材料中原子尺度的缺陷和各种相变非常灵敏。

如今正电子湮没技术作为一种新型的应用核分析技术,已广泛应用于材料科学、物理、化学、生物、医学、天文等领域,本文仅就正电子湮没技术在测试领域研究中的一些基本应用(原理)作一介绍。

正电子湮没无损测试技术是一种研究物质微观结构的方法,一种先进的材料微观结构-自由体积的探测和表征技术,可用于固体物理晶体缺陷与材料相结构与相结构转变的研究,目前已成为一种研究物质微观结构、缺陷、疲劳等的新技术与手段。

检测实施过程中,放射源作用材料时会产生带有正电荷的、尺寸与电子相当的质点,这种正电子可以被纳米大小的缺陷吸引而与电子相撞击。

在正负电子撞击过程中,两种质点湮没,从而放出一种伽玛射线。

伽玛射线能谱显示出一种清晰可辨的有关材料中的缺陷大小、数量以及型别的特征。

显然,这些特征可以标识最早阶段的损伤,即裂纹尚未出现的损伤;同时可以在不分解产品的情况下定量地评估其剩余寿命,笔者对该技术的原理及其应用进行了介绍。

正电子湮没无损测试所采用的正电子源最初来自于放射源的β+源,通过放射源的作用在材料中产生正电子。

正电子湮灭谱

正电子湮灭谱

正电子湮灭谱一种研究物质微观结构的方法。

正电子是电子的反粒子,两者除电荷符号相反外,其他性质(静止质量、电荷的电量、自旋)都相同。

正电子进入物质在短时间内迅速慢化到热能区,同周围媒质中的电子相遇而湮没,全部质量(对应的能量为2meс2)转变成电磁辐射──湮没γ光子(见电子对湮没)。

50年代以来对低能正电子同物质相互作用的研究,表明正电子湮没特性同媒质中正电子-电子系统的状态、媒质的电子密度和电子动量有密切关系。

随着亚纳秒核电子学技术、高分辨率角关联测量技术以及高能量分辨率半导体探测器的发展,可以对正电子的湮没特性进行精细的测量,从而使正电子湮没方法的研究和应用得到迅速发展。

现在,正电子湮没谱学已成为一种研究物质微观结构的新手段。

实验测量方法主要有正电子寿命测量、湮没γ角关联测量和湮没谱线多普勒增宽测量三类。

正电子寿命谱通常用22Na作正电子源,源强为几微居里到几十微居里。

测量设备类似核能谱学中常用的符合系统,称之为正电子寿命谱仪(见彩图),图1是快-快符合系统方框图。

谱仪时间分辨率一般为3×10-10s左右,最好的已达1.7×10-10s。

22Na放射的正电子入射到测试样品中,同其中的电子发生湮没,放出γ射线。

用1.27MeV的γ光子标志正电子的产生,并作为起始信号,511keV的湮没辐射γ光子标志正电子的“死亡”,并作为终止信号。

两个信号之间的时间就是正电子的寿命。

在凝聚态物体中,自由正电子湮没的平均寿命在(1~5)×10-10s范围内。

正电子湮没寿命谱(PALS)常被用来研究固体中的缺陷,尤其是半导体中的空位型缺陷。

邻位正电子的寿命取决于184个邻位正电子的寿命,而邻位正电子的寿命受邻位正电子周围空位缺陷的影响。

因此,PALS可以看作是一种时域特征描述技术。

双γ角关联图2是一维长狭缝角关联测量系统示意图。

正电子源通常为64Cu、22Na、Co,测量时相对于固定探头以z方向为轴转动另一探头,测出符合计数率随角度的分布,就可以得到电子在某个方向上的动量分布。

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正电子湮没谱学试题2016,2,181.简述闪烁体探测器的基本组成和工作原理。

答:闪烁探测器是利用辐射在某些物质中产生的电离、激发而产生的荧光来探测电离辐射的探测器。

闪烁探测器由闪烁体、光电倍增管和相应的电子仪器三个主要部分组成。

射线进入闪烁体,与之发生相互作用,闪烁体吸收带电粒子能量而使闪烁体原子、分子电离或激发。

受激原子退激而发出荧光光子。

然后利用反射物和光导将闪烁光子尽可能多的收集到光电倍增管的光阴极,通过光电效应打出光电子。

光电子在光电倍增管中倍增,数量由一个增加到104-109个,电子流在阳极负载上产生电信号,此信号由电子仪器记录和分析。

2.简述正电子谱学的基本原理(正电子的产生,正电子注入、热化、湮没过程,典型寿命值等)。

答:正电子是电子的反粒子,它不天然存在,因为遇电子会发生湮没,往往用人工办法产生。

主要的产生正电子的方法有两种,一种方法是通过加速器或反应堆,利用核反应生成缺中子放射源,如22Na,64Cu,58Co等等。

另外一种方法是通过高能光子的电子对效应产生正电子。

而实验中常常使用第一种方法,从放射源发出的高能正电子入射至固体表面时,它可能被表面散射,也可能穿透表面进入材料体内。

当正电子进入材料体内后,由于正电子带正电,故在固体中正电子受到同样带正电的原子实强烈排斥。

正电子通过与原子实以及电子的非弹性碰撞而很快损失动能,在约1~3ps内慢化到热能。

k B T,室温下为0.025eV。

热化后的这一过程称为正电子的热化。

热化后正电子能量为32正电子在固体中扩散,在扩散过程中会与电子发生自由湮没,也可能被一个空位型缺陷捕获后湮没。

正电子湮没后发射2个或3个γ光子,而由于正电子与电子的湮没过程是电子-正电子对质量转换成电磁能量的相对论质能转换过程,由量子电动力学的不变性导出的选择定则表明,2γ衰变与3γ衰变的事件比为371:1,因此主要的过程是2γ湮没。

当正电子速度远低于光速c时,其湮没率λ(λ=1/τ,τ为正电子寿命)为:λ=πr02cn e,(1)其中n e—正电子周围的电子密度。

而正电子寿命τ与湮没率λ是互为倒数的关系,所以我们通过测量正电子寿命,可以得到正电子所在处的电子密度。

实际上,式(1)给出的湮没率是用独立粒子模型近似的结果。

因此根据此式计算得到的金属正电子寿命约为600ps,这明显大于我们实际测量的金属中的正电子寿命。

产生这一差别的原因在于正电子与电子的电荷符号相反,它们之间存在着强烈的库仑吸引作用,正电子周围的电子密度会增强(称为屏蔽效应),从而明显地缩短正电子的寿命。

因此,在计算正电子在材料中湮没率时,应考虑电子-正电子的关联。

正电子-电子湮没对的动能一般为几电子伏,在质心坐标系中,光子的能量为m0c2=511keV,2个γ光子严格朝相反方向运动,然而在实验室坐标系中,由于湮没对的动量不为零,2个γ光子的运动方向将不在一条直线上,其偏角θ为:θ≈P T。

(2)m0c通常θ非常小(θ<1o)。

由于热化后的正电子动量几乎为零,因此与正电子湮没的电子能量与动量就是湮没对的能量和动量,所以测量得到的角关联曲线可反映物质的电子的动量分布。

此外,在实验室坐标系中,由于电子-正电子湮没对具有动量,它还会引起湮没辐射能量的多普勒移动。

由于频移为Δν/ν=νL/c,其中νL为湮没对质心的纵向速度。

因此可得湮没辐射的多普勒能移为:ΔE=cP L/2。

(3)所以湮没辐射的多普勒展宽谱也反映了材料中电子的动量密度分布。

当正电子被空位型缺陷(如位错、空位、微孔洞等)捕获时,由于缺陷处电子密度减小,正电子寿命将变长。

在凝聚态物质中,自由正电子的寿命一般在100~200ps之间,而捕获态正电子的寿命在200~400ps之间。

另外,在缺陷处由于缺少了原子,正电子与高动量的核芯电子湮没发生的概率降低,因此导致湮没辐射角关联或多普勒展宽谱形变窄。

因此通过测量以上的正电子湮没参数,即可了解缺陷的信息。

3.简述正电子的两态捕获模型,以及正电子湮没测量缺陷浓度的原理。

答:在用正电子湮没寿命谱(PALS)研究固体中的缺陷时,所测得的寿命谱经过源修正和去本底后,可以用几个指数衰变成分之和进行拟合。

一般情况下,所测样品中只存在一种缺陷,即正电子寿命只有两个分量。

因此,在分析正电子寿命谱时,所用的模型函数为正电子的数目对时间的微分:dN(t) dt =−N0[I1τ1exp(−tτ1)+I2τ2exp(−tτ2)],(4)式中:N0-寿命谱经过源成分修正和去本底后的总计数,也即是(4)式对时间的积分;τ1,τ2—两个分量的表观寿命;I1,I2—两个寿命分量的相应强度。

上式还要考虑寿命谱仪分辨函数的影响,即模型函数为式(4)与分变函数的卷积。

上述的正电子湮没寿命谱的解析过程可以用正电子的捕获模型来解释。

在捕获模型中,正电子被缺陷捕获可以通过一组微分方程来描述,即自由正电子在非局域态湮没的速率方程和被捕获的正电子在局域态湮没的速率方程。

两态捕获模型即材料中只存在一种类型的缺陷时,上述动力学方程为:dn b(t)dt=−(λb+κ)n b(t), (5)dn b(t)dt=−λd n d(t)+κn b(t),式中:n b(t),n d(t)—分别为t时刻正电子在体态和缺陷态的数目;λb,λd—正电子在体态和缺陷态的湮没率;κ—缺陷的捕获率。

式(5)的初始条件为n b(0)=N0,N0为t=0时正电子的总数目,即正电子在完全热化之前没有发生捕获现象。

上式的解即为正电子的衰变谱:N(t)=N0[I1exp(−tτ1)+I2exp(−tτ2)], (6)其中:τ1=1λb+κ , τ2=1λd=τd ,(7)I1+I2=1, I2=κλb−λd+κ。

在式(7)中,τ1,I1和I2均与捕获率κ有关,因此也与缺陷的浓度有关。

τ1,I1,τ2,I2可以通过对寿命谱进行非线性拟合得到。

正电子的捕获率可以通过下式计算得出:κ=μC d=I2(1τ1−1τ2)=I2I1(1τb−1τd) , (8)式中:μ—正电子捕获系数。

此外,如果在样品中正电子的体寿命τb和缺陷态寿命τd已知的话,正电子的捕获率则只需要平均寿命τm的值就可以得到:κ=μC d=1τb τm−τbτd−τm。

(9)因此,在正电子的捕获系数已知的情况下,正电子寿命实验可以测量缺陷的浓度。

除了从正电子寿命测量直接得到捕获率之外,通过湮没辐射的多普勒展宽测量,我们也可以得到缺陷的很多信息。

多普勒展宽反映的是所测固体中的电子动量分布的信息。

通常用S参数和W参数来表征多普勒展宽谱形的变化,分别定义为中心部分和两侧的计数与511keV湮没峰的总计数之比。

有缺陷捕获正电子时,S参数增大,而W参数减小。

当只存在一种类型的缺陷时,测量所得的S参数与完整晶格中的S参数(S b)和缺陷处的S参数(S d)有以下关系:S=(1-f)S b+fS d, (10)式中:f—正电子被缺陷捕获的比例,f=κ/(λb+κ)。

因此,在已知S b和S d以及λb后,通过测量得到的S参数,同样可以求出捕获率以及缺陷的浓度。

4.简述电子偶素的概念、形成、湮没过程及检验方法。

答:正电子除了与电子发生湮没外,还会结合一个电子形成一种亚稳态原子,称为电子偶素(positronium),其符号为Ps。

为了形成电子偶素,材料中的电子密度必须足够低。

对于电子偶素的形成机制,目前已经提出了许多模型。

如俄勒模型、气泡模型等,而广为接受的是Mogensen提出的径迹模型以及Stepanov提出的液滴模型。

正电子在入射至体内后会产生一条径迹,沿着这条径迹,将会产生大量的二次电子。

在正电子径迹的终端,产生的二次电子数目最多。

正电子将与这些径迹终端的电子相互作用,形成电子偶素。

电子偶素有两种态,即p-Ps和o-Ps,前者称为仲电子偶素,后者称为正态电子偶素。

对于入射的非极化正电子,自旋呈对称分布,因此在没有正仲转换的情况下,有75%的可能形成o-Ps,25%的可能形成p-Ps。

对于o-Ps,其中的电子和正电子具有相同的自旋,因此称为三重态,而对于p-Ps,电子和正电子具有反向的自旋,称为单一态。

P-Ps 通常发生自湮没,即正电子与其中的电子湮没,发射2个511keV的γ光子。

对于o-Ps,在真空中才发生自湮没。

由于自旋守恒,o-Ps的自湮没将发射3个γ光子。

理论计算p-Ps 自湮没寿命约为125ps,而o-Ps的自湮没寿命则长达约142ns。

o-Ps在材料中形成后,会拾取周围的一个电子,使得正电子与之发生湮没,从而使o-Ps的寿命大大缩短至1~10ns。

这称为o-Ps的拾取湮没,拾取湮没只发生2个γ光子。

与自由正电子的湮没不同,o-Ps能进行具有自身特性的3γ衰变,有一个相当长的自湮没寿命,而且湮没光子的能谱是连续的。

因此,通常是通过探测o-Ps的湮没信号来探测电子偶素形成,常用技术有如下几种。

第一,测量3γ与2γ产额之比。

当正电子自由湮没时,3γ与2γ产额之比为1/378。

然而若有一部分正电子形成了电子偶素,则由于o-Ps与p-Ps的状态数之比为3:1,而o-Ps 衰变为3γ,因此在有电子偶素形成时测得的3γ与2γ产额必大于1/378。

第二,测量正电子湮没寿命。

在凝聚态物质中,正电子寿命通常为几百ps。

若有电子偶素形成,o-Ps的自湮没寿命长达142ns,且电子偶素的拾取湮没寿命仅几ns,与前者相比差很多,故可用测量寿命谱的方法来探测电子偶素形成。

第三,测量湮没辐射的角关联。

与前两种方法不同,湮没辐射的角关联主要探测p-Ps 的湮没信号。

因为p-Ps寿命极短,基本是自湮没并发射2.特别是热化后的p-Ps质心动能与湮没光子能量相比极小,因而出去局域态的p-Ps将在角关联谱中产生一个极窄的峰。

而正电子的湮没以及o-Ps的拾取湮没都是与能量约几电子伏甚至更高的电子湮没,故它们在角关联谱上的相应动量比p-Ps大得多。

此外,还有一些实验技术是通过测量o-Ps与物质相互作用而使其寿命缩短的证据来说明湮没电子偶素的形成。

如电子偶素和某些分子的化学反应,会使其寿命大大缩短,叫化学淬灭。

外加磁场也能使一部分o-Ps的寿命大大缩短,叫磁淬灭。

因此,如果能探测到化学淬灭和磁淬灭,也可以间接判断有电子偶素形成。

5.简述双探头符合多普勒展宽谱仪的基本原理及优点。

答:由于电子-正电子对具有一定的动量,导致湮没对的动量不为零。

在质心坐标系中,光子的能量为m0c2=511keV,2个γ光子严格朝相反方向运动,然而在实验室坐标系中,由于湮没对的动量不为零,2个γ光子的运动方向将不在一条直线上,二是偏离一定的角度θ。

通常非常小(θ<1o),近似为:θ≈P T/m0c。

(11)在实验室坐标系中,由于电子-正电子湮没对运动也会导致湮没辐射的多普勒展宽,即湮没辐射的γ光子能量为E=m0c2±ΔE,由于频移为Δν/ν=νL/c,可得多普勒能移ΔΕ=cP L/2。

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