半导体物理实验——变温霍尔效应测试
变温霍尔实验讲义

变温霍尔效应实验霍尔效应的测量是研究半导体性质的重要实验方法。
利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来确定半导体的导电类型和 载流子浓度。
通过测量霍尔系数与电导率随温度的变化,可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的温度系数等基本参数。
本仪器采用现代电子技术和计算机数据采集系统,对霍尔样品在弱场条件下进行变温霍尔系数和电导率的测量,来确定半导体材料的各种性质。
一、基本原理1.霍尔效应和霍尔系数霍尔效应是一种电流磁效应(如图一)图一 霍尔效应示意图当半导体样品通以电流Is ,并加一垂直于电流的磁场B ,则在样品两侧产生一横向电势差U H ,这种现象称为“霍尔效应”,U H 称为霍尔电压,B I R H S H U =(1) 则IsB dU H H R = (2) R H 叫做霍尔系数,d 为样品厚度。
对于P 型半导体样品,qp H R 1=(3) 式中q 为空穴电荷电量,p 为半导体载流子空穴浓度。
对于n 型半导体样品,H R 1-= (4)式中为n 电子电荷电量。
考虑到载流子速度的统计分布以及载流子在运动中受到散射等因素的影响。
在霍尔系数的表达式中还应引入霍尔因子A ,则(3)(4)修正为p 型半导体样品qp AH R = (5), n 型半导体样品,qn A H R -= (6)。
A 的大小与散射机理及能带结构有关。
在弱磁场(一般为200mT )条件下,对球形等能面的非简并半导体,在较高温度(晶格散射起主要作用)情况下,A=1.18,在较低的温度(电离杂质散射起主要作用)情况下,A=1.93,对于高载流子浓度的简并半导体以及强磁场条件A=1。
对于电子、空穴混合导电的情况,在计算RH 时应同时考虑两种载流子在磁场偏转下偏转的效果。
对于球形等能面的半导体材料,可以证明:22)()(nb p q nb p A R H +-= (7) 式中 U pU n b = ,Up 、Un 分别为电子和空穴的迁移率,A 为霍尔因子,A 的大小与散射机理及能带结构有关。
变温霍尔效应实验报告

变温霍尔效应实验报告变温霍尔效应实验报告引言变温霍尔效应是一种基于霍尔效应的实验现象,通过在材料中施加不同的温度梯度,可以观察到电流产生的变化。
本实验旨在探究变温霍尔效应的原理和应用,并通过实验验证相关理论。
实验目的1. 理解霍尔效应和变温霍尔效应的基本原理;2. 掌握变温霍尔效应实验的操作方法;3. 分析实验数据,验证变温霍尔效应的存在。
实验原理霍尔效应是指当电流通过一块导电材料时,垂直于电流方向施加磁场,会在材料的一侧产生电势差。
这一现象可以用以下公式描述:VH = B * I * RH其中,VH为霍尔电压,B为磁感应强度,I为电流,RH为霍尔系数。
变温霍尔效应则是在霍尔效应的基础上,通过改变材料的温度,观察霍尔电压的变化。
根据热电效应的原理,当材料的温度发生变化时,电子和空穴的浓度会发生变化,从而影响霍尔电压的大小。
实验装置1. 变温霍尔效应实验装置;2. 电源;3. 磁铁。
实验步骤1. 将变温霍尔效应实验装置连接好,并接入电源;2. 调节磁铁的位置和磁场强度,使其垂直于电流方向;3. 设置不同的温度梯度,记录相应的霍尔电压值;4. 根据实验数据,绘制出霍尔电压与温度梯度的关系曲线。
实验结果与分析根据实验数据,我们得到了一组霍尔电压与温度梯度的关系曲线。
从曲线可以看出,在不同的温度梯度下,霍尔电压呈现出不同的变化趋势。
当温度梯度增大时,霍尔电压也随之增大,呈现出线性关系。
这与变温霍尔效应的理论预测相符。
通过分析实验数据,我们可以得出以下结论:1. 变温霍尔效应存在,通过改变温度梯度可以调节霍尔电压的大小;2. 温度梯度与霍尔电压呈线性关系,即温度梯度越大,霍尔电压越大。
实验应用变温霍尔效应在实际应用中具有广泛的潜力。
例如,在热电转换器件中,可以利用变温霍尔效应实现能量的转换和传输。
此外,变温霍尔效应还可以应用于热敏电阻、温度传感器等领域。
结论通过本次实验,我们深入了解了变温霍尔效应的原理和应用。
变温霍尔效应

UH1 UH2 UH3 UH4
B 、I B 、I B 、I B 、I
+
+
+ + -
UH+UE-UN-URL+UI -UH-UE-UN-URL-UI UH+UE+UN+URL-UI -UH-UE+UN+URL+UI
UH = (UH1-UH2+UH3-UH4)/4 - UE ≈ (UH1-UH2+UH3-UH4)/4 UI=((UH1+UH4)-(UH2+UH3))/4 UR=UN+URL=((UH3+UH4)-(UH1+UH4ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ)/4
图表 5ln|RH|--1/T 曲线
本实验中测量样品霍耳系数的温度范围为 80K 至 294K,共测了 46 个点。由于在测量 过程中,恒温器读数跳动以及电压读数也不稳定,数据不免有误差。
从 ln|RH|--1/T 图像来看,基本符合锑化铟样品的霍尔系数随温度变化的理论,如图 表 5。从实验数据可看出在温度较低阶段,即杂质电离饱和阶段,霍尔系数不稳定,有微小 幅度的升降,与读数跳动而读不准确有关。 3.3 室温下的载流子浓度 在室温下,载流子主要是电子,对单一载流子而言,由载流子浓度 3 由 3.1 得到 RH==964.1cm /C。可得 : ni=1019/(1.6х9.641х10-4)=6.497х1021m-3 3.4 电子和空穴迁移率的比值 b 从实验可得,在温度为 160K 时,RH 有极值 3.888,由于在杂质电离饱和阶段读数不完 全稳定,因此 RHS 取下表中的平均值即 4.0245。
RH 会达到一个负极值:
RHM
3 1 (b 1) 2 (b 1) 2 RHS 8 N A q 4b 4b
半导体霍尔效应实验

东南大学材料科学与工程实验报告 学生姓名 徐佳乐 班级学号 12011415 实验日期 2014/9/4 批改教师 课程名称 电子信息材料大型实验 批改日期 实验名称 半导体霍尔效应实验 报告成绩一、 实验目的1、 了解半导体中霍尔效应的产生原理,霍尔系数表达式的推导。
2、 掌握霍尔系数和电导率的测量方法。
3、 通过测量数据的处理判别样品的导电类型,计算室温下所测半导体材料的霍尔系数、电导率、载流子浓度和霍尔迁移率。
二、 实验原理霍尔效应的测量是研究半导体性质的重要实验方法。
利用霍尔效应,可以确定半导体的导电类型和载流子浓度。
利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来研究半导体的导电机制(本征导电和杂质导电)和散射机制(晶格散射和杂质散射),进一步确定半导体的迁移率、禁带宽度、杂质电离能等基本参数。
测量霍尔系数随温度的变化,可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的特性。
1、 霍尔效应和霍尔系数设一块半导体的x 方向上有均匀的电流流过,在z 方向上加有磁场,则在这块半导体的y 方向上出现一横向电势差,这种现象被称为“霍尔效应”, 称为“霍尔电压”,所对应的横向电场称为“霍尔电场”。
霍尔电场强度的大小与流经样品的电流密度和磁感应强度的乘积成正比:ZX H H B J R E ••=式中比例系数称为“霍尔系数”。
半导体样品的长、宽、厚分别为l 、a 、b ,半导体载流子(空穴)的浓度为p ,它们在电场作用下,以平均漂移速度沿x 方向运动,形成电流。
在垂直于电场方向上加一磁场,则运动着的载流子要受到洛仑兹力的作用该洛仑兹力指向-y 方向,因此载流子向-y 方向偏转,这样在样品的左侧面就积累了空穴,从而产生了一个指向+y 方向的电场——霍尔电场。
当该电场对空穴的作用力q 与洛仑兹力相平衡时,空穴在y 方向上所受的合力为零,达到稳态。
在稳态时,有 :若是均匀的,则在样品左、右两侧面间的电位差:而x 方向的电流: 由以上的式子得: 所以对p 型半导体: n 型半导体: 所以的计算式: 2、 半导体电导率半导体电导率:电导率测试公式:结合电导率和霍尔系数的测量,可以计算载流子的迁移率: 实验得出与温度T 的关系曲线如图1.现在以p 型半导体为例分析:(1) 低温区。
实验三 半导体霍尔效应测量实验

实验三半导体材料的霍尔效应测量实验1实验原理1)霍尔效应霍尔效应指的是在外加磁场的作用下,给半导体通入电流,内部的载流子受到磁场引起的洛伦兹力的影响,空穴和电子向相反的方向偏转,这种偏转导致在垂直电流和磁场方向上产生正负电荷的积累,形成附加的横向电场,直至电场对载流子的作用力与洛伦兹力抵消,此时的电场强度乘以半导体样品的宽度后,可以得到霍尔电压V H。
设磁感应强度为B,电子浓度(假设为n型半导体)为n,则电流表达式为I H=nevbd,而霍尔电压产生的电场为E H=vB霍尔电压的表达式为:V H=E H b=vBb =I HnebdBb =1neI H Bd=R HI H Bd其中R H称为霍尔系数:R H=1 ne可以通过V H,B, I H的方向可以判断样品的导电类型,通过V H和 I H的关系曲线可以提取出R H,进一步还可以得到电子(空穴)浓度。
在实际测量中,还会伴随一些热磁副效应,使得V H还会附带另外一些电压,给测量带来误差。
为了消除误差,需要取不同的I H和B的方向测量四组数据求平均值得到V H,如下表示I H正向I H负向B正向V1V3B负向V2V42)范德堡法测量电阻率由于实验使用的霍尔元件可视为厚度均匀、无空洞的薄片,故可使用范德堡法进行电阻率的测量。
在样品四周制作四个极小的欧姆接触电极1,2,3,4。
如图2所示。
14图 1 霍尔效应原理示意图先在1、2端通电流,3、4端测电压,可以定义一个电阻R1=|V34| I12然后在2、3端通电流,1、4端测电压,求R2=|V14| I23理论上证明样品的电阻率与R1、R2的关系为ρ=πdln2R1+R22f可以通过查表可知范德堡因子f与R1/R2的关系,从而求得样品的电阻率。
2实验内容本实验所用仪器为SH500-A霍尔效应实验仪、恒流电源、高斯计。
实验步骤如下:1)连线掌握仪器性能,连接恒流电源与霍尔效应试验仪之间的各组连线。
2)测量霍尔系数,判断样品的导电类型测量半导体样品的霍尔系数。
变温霍尔效应

实验8.2 变温霍尔效应前言美国物理学家霍尔(Edwin Herbert Hall ,1855~1938) 1879年在研究载流导体在磁场中的受力情况时,发现在垂直于磁场和电流的方向上产生了电动势,这种现象称为“霍尔效应”.根据霍尔效应,人们用半导体材料制成霍尔元件,它具有对磁场敏感、结构简单、体积小、频率响应宽、输出电压变化大和使用寿命长等优点,因此在测量、自动化、计算机和信息技术等领域得到广泛的应用.霍尔效应对于半导体材料和高温超导体的性质测量非常重要.利用霍尔效应,可以确定半导体的导电类型和载流子浓度.利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来研究半导体的导电机制.测量霍尔系数随温度的变化,可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率等的温度特性.另外,应用霍尔效应可以制造精确测量磁感应强度的高斯计,可以制造电磁无损探伤器件以及电学和非电学测量的线性传感器.实验目的(1).了解半导体中霍尔效应的产生机制,霍尔系数表达式的推导及其副效应的产生和消除.(2).掌握霍尔系数和电导率的测量方法.通过对测量数据的处理结果判别样品的导电类型,计算室温下所测半导体材料的霍尔系数、电导率、载流子浓度和霍尔迁移率.(3).掌握动态法测量霍尔系数及电导率随温度的变化,做出 H R ~1/,T δ~1/曲线,了解霍尔系数和电导率与温度的关系.T (4).了解霍尔器件的应用,理解半导体的导电机制.实验仪器实验仪器包括电磁铁、变温设备、测量线路、特斯拉计、可自动换向恒流电源、计算 机数据采集系统等.磁场可采用电磁铁或永久磁场.为避免磁阻效应对霍尔测量的影响,必须选用弱磁场,弱磁场条件为,迁移率410B μ⋅<μ的单位为cm 2/V·s ,B 的单位为特斯拉(T )或高斯(Gs ).本实验中磁场固定为0.2T (200mT 或2000Gs ).测量线路见图8.2-1,数字1、2、3、4为测试样品引出的四个电极,流过样品的电流由恒流源提供,实验中选用1mA ,电流过大会使样品发热,电流过小则检测信号太弱.霍尔电压,测量样品电导率的压降都利用数据采集仪在计算机上显示.样品电流的换向和磁场的换向可由计算机控制自动完成,也可采用手动操作.12U 34U 变温设备可使样品温度由77K 到420K 范围之间连续变化.把样品架放入紫铜套内,外面包上绝缘材料,再绕以加热用的电阻丝,或在铜套外加热.在霍尔系数的测量中样品的制备是一个重要环节,样品电极位置的对称性、电极接触电阻的大小等都直接影响到测量结果.此外,为了避免两电流电极的少数载流子注入和短路作用对测量结果的影响,两个端面要磨粗糙,并做成长度比宽度及厚度大得多的矩形样品.实验中把一定厚度的硅、锗单晶片或外延硅薄层(外延层和衬底的掺杂浓度不同)样品采用切割或腐蚀方法做成如图8.2-2的矩(或桥)形样品,在1、2、3、4、5、6电极处用蒸发、光刻、合金化等工艺技术制成欧姆接触电极.对于硅、锗半导体,电极金属材料可用铝、金铟合金(对多晶Si )、金锑合金(对非晶Si )、镍等.也有更为简单的四头样品,即纵向有5、6电极,横向只有位于中部的1、3电极.图8.2-1 测量线路示意图 图8.2-2样品接线结构图 实验原理1.半导体内的载流子根据半导体导电理论,半导体内载流子的产生有两种机制:本征激发和杂质电离.(1)本征激发半导体材料内共价键上的电子受到热激发后有可能跃迁到导带上,在原来的共价键上留下一个电子缺位——空穴,这个空穴很容易被邻键上的电子跳过来填补,从而空穴转移到了邻键上.由此可以看出,半导体内电子和空穴两种载流子均参与了导电.这种不受外来杂质影响、由半导体本身靠热激发产生电子-空穴的过程,称之为本征激发.显然,导带上每产生一个电子,价带上必然留下一个空穴.因此,本征激发的电子浓度和空穴浓度n p 应相等,并统称为本征浓度.根据经典的玻尔兹曼统计可得i n 31()exp(/2)'exp(/2)22i c v g g n n p N N E kT K T E kT ===−=− 式中、分别为导带、价带有效状态密度,c N v N 'K 为常数,T 为温度,g E 为禁带宽度,k 为玻尔兹曼常数.(2)杂质电离在纯净的第IV 族元素半导体材料中,掺入微量III 或V 族元素杂质,这称为半导体掺杂.掺杂后的半导体在室温下的导电性能主要由浅杂质决定.如果在硅材料中掺入微量III 族元素(比如B、Al 等),这些第III 族原子在晶体中取代部分硅原子组成共价键时,会从邻近Si-Si 共价健上夺取一个电子成为负离子,而邻近的Si-Si 共价健由于失去一个电子就会产生一个空穴.这样满带中的电子就激发到禁带中的杂质能级上,使硼原子电离成硼离子,而在满带中留下空穴参与导电,这种过程称为杂质电离.产生一个空穴所需的能量称为杂质电离能,这样的杂质叫做受主杂质.由受主杂质电离而提供空穴导电为主的半导体材料称为p 型半导体.当温度较高时,浅受主杂质几乎完全电离,这时价带中的空穴浓度接近受主杂质浓度.同样,在第IV 族元素半导体(如Si、Ge等)中,掺入微量第V 族元素,例如P、As等,那么杂质原子与硅原子形成共价键时,多余的一个价电子只受到磷离子P +微弱的束缚,在室温下这个电子可以脱离束缚使磷原子成为正离子,并向半导体材料提供一个自由电子.通常把这种向半导体材料提供一个自由电子而本身成为正离子的杂质称为施主杂质.以施主杂质电离提供电子导电为主的半导体材料叫做n 型半导体.2.霍尔效应和霍尔系数设一块半导体在x 方向上有均匀的电流x I 流过,在z 方向上加有磁场z B ,则在这块半导体的y 方向上出现一横向电势差H U ,这种现象被称为“霍尔效应”,H U 称为“霍尔电压”,所对应的横向电场H E 称为“霍尔电场”,如图8.2-3所示.霍尔电场强度H E 的大小与流经样品的电流密度x J 和磁感应强度z B 的乘积成正比H H x E R J B z =⋅⋅ (8.2-1)式中比例系数H R 称为“霍尔系数”.下面以p 型半导体样品为例,讨论霍尔效应的产生原理并推导霍尔系数的表达式. 半导体样品的长、宽、厚分别为L 、a 、b ,半导体载流子(空穴)的浓度为,它们 p 在电场x E 作用下,以平均漂移速度x v 沿x 方向运动,形成电流x I .在垂直于电场x E 方向图8.2-3 霍尔效应示意图上加一磁场z B ,则运动着的载流子要受到洛仑兹力的作用F qv B =×(8.2-2) 式中为空穴电荷电量.该洛仑兹力指向-y 方向,因此载流子向-y 方向偏转,这样在样品的左侧面就积累了空穴,从而产生了一个指向+y 方向的电场——霍尔电场q y E .当该电场对空穴的作用力y qE 与洛仑兹力相平衡时,空穴在y 方向上所受的合力为零,达到稳态.稳态时电流仍沿x 方向不变,但合成电场x y E E E =+J K 不再沿x 方向,E J K 与x 轴的夹角称“霍尔角”.在稳态时,有y x z qE qv B = (8.2-3)若y E 是均匀的,则在样品左、右两侧面间的电位差H y x z U E a v B a =⋅=⋅ (8.2-4)而x 方向的电流强度x x I q p v ab =⋅⋅⋅ (8.2-5)将(5)式的x v 代入(4)式得霍尔电压1()x z H I B U qp b=⋅ (8.2-6) 由(1)、(3)、(5)式得霍尔系数 1H R qp= (8.2-7) 对于n 型样品,载流子(电子)浓度为,霍尔系数为n 1H R qn =−(8.2-8)上述模型过于简单.根据半导体输运理论,考虑到载流子速度的统计分布以及载流子在运动中受到散射等因素,在霍尔系数的表达式中还应引入一个霍尔因子A ,则(8.2-7)、 (8.2-8)式应修正为p 型: 1H R A qp= (8.2-9)n 型: 1H R A qn=− (8.2-10) A 的大小与散射机理及能带结构有关.由理论算得,在弱磁场条件下,对球形等能面 的非简并半导体,在较高温度(此时晶格散射起主要作用)情况下,3 1.188A π== 一般地,Si 、Ge 等常用半导体在室温下属于此种情况,A 取为1.18.在较低温度(此时电离杂质散射起主要作用)情况下,315 1.93512A π== 对于高载流子浓度的简并半导体以及强磁场条件,A =1;对于晶格和电离杂质混合散 射情况,一般取文献报道的实验值.上面讨论的是只有电子或只有空穴导电的情况.对于电子、空穴混合导电的情况,在计 算H R 时应同时考虑两种载流子在磁场下偏转的效果.对于球形等能面的半导体材料,可以证明: 22'22()()()(p n H p n A p n '2)A p nb R q p n q p nb μμμμ−−==++ (8.2-11) 式中'n p b μμ=,n μ、p μ为电子和空穴的迁移率.从霍尔系数的表达式可以看出:由H R 的符号(也即H U 的符号)可以判断载流子的类型,正为p 型,负为n 型(注意,所谓正、负是指在x 、y 、z 坐标系中相对于y 轴方向而言,见图8.2-3.I 、B 的正方向分别为x 轴、z 轴的正方向,则霍尔电场方向为y 轴方向.当霍尔电场方向的指向与y 正向相同时,则H U 为正);H R 的大小可确定载流子的浓度;还可以结合测得的电导率σ算出如下定义的霍尔迁移率H μ H H R μσ=⋅ (8.2-12)H μ的量纲与载流子的迁移率相同,通常为cm 2/V·s ,它的大小与载流子的电导迁移率有密切的关系.霍尔系数H R 可以在实验中测量出来,若采用国际单位制,由(8.2-6)、(8.2-7)式可得H H x zU b R I B = (m 3/C) (8.2-13)但在半导体学科中习惯采用实用单位制(其中,b :厘米,z B :高斯),则 H H x zU b R I B =×108 (cm 3/C)3.霍尔系数与温度的关系图8.2-4霍尔系数与温度的关系H R 与载流子浓度之间有反比关系,因此当温度不变时,H R 不会变化;而当温度改变时,载流子浓度发生变化,H R 也随之变化.图8.2-4是H R 随温度T 变化的关系图,图中纵坐标为H R 的绝对值,曲线A 、B 分别表示n 型和p 型半导体的霍尔系数随温度的变化曲线.下面简要地讨论曲线B :(1)杂质电离饱和区.在曲线(a)段,所有的杂质都已电离,载流子浓度保持不变.p 型半导体中p n ,(8.2-11)式中可忽略,可简化为 'nb 110H AR AA qp qN ==> 式中为受主杂质浓度. A N (2)温度逐渐升高,价带上的电子开始激发到导带,由于n p μμ>,所以,当温度升到使'1b >'2p nb =时,,出现了图中(b)段.0H R = (3)温度再升高时,更多的电子从价带激发到导带,'2p nb <而使,(8.2-11)式中分母增大,0H R <H R 减小,将会达到一个负的极值(图中(c)点).此时价带的空穴数A p n N =+,将它代入(8.2-11)式,并对求微商,可以得到当 n '1A N n b =− 时,H R 达到极值HM R : 11HM AR A A qp qN == (8.2-14) 由此式可见,当测得HM R 和杂质电离饱和区的H R ,就可定出b ′的大小.(4)当温度继续升高,达到本征范围时,半导体中载流子浓度大大超过受主杂质浓度, 所以H R 随温度上升而呈指数下降,H R 则由本征载流子浓度来决定,此时杂质含量不同或杂质类型不同的曲线都将趋聚在一起,见图8.2-4中(d)段.i N 4.半导体的电导率在半导体中若有两种载流子同时存在,则其电导率σ为p qp qn n σμμ=+(8.2-15)图8.2-5 电导率σ与温度T 的关系实验得出σ与温度T 的关系曲线如图8.2-5所示.现以p 型半导体为例分析:(1) 低温区.在低温区杂质部分电离,杂质电离产生的载流子浓度随温度升高而增 加,而且p μ在低温下主要取决于杂质散射,它也随温度升高而增加.因此,σ随的增加 T 而增加,见图8.2-5的(a )段.(2) 室温附近.此时,杂质已全部电离,载流子浓度基本不变,这时晶格散射起主要作用,使p μ随T 的升高而下降,导致σ随T 的升高而下降,见图8.2-5的(b )段.(3) 高温区.在这区域中,本征激发产生的载流子浓度随温度升高而指数地剧增,远远超过p μ的下降作用,致使σ随T 而迅速增加,见图8.2-5的(c )段.实验中电导率σ可由下式计算出:1I l U abσσρ⋅==⋅ (8.2-16) 式中ρ为电阻率,I 为流过样品的电流,U σ、l 分别为两测量点间的电压降和长度. 对于不规则形状的半导体样品,常用范德堡(Van der Pauw)法测量,它对电极对称性 的要求较低,在半导体新材料的研究中用得较多.5.霍尔效应中的副效应在霍尔系数的测量中,会伴随一些由热磁副效应、电极不对称等因素引起的附加电压叠 加在霍尔电压H U 上,下面作些简要说明:(1)爱廷豪森(Ettinghausen)效应.在样品x 方向通电流x I ,由于载流子速度分布的统计性,大于和小于平均速度的载流子在洛仑兹力和霍尔电场力的作用下,沿y 轴的相反两侧偏转,其动能将转化为热能,使两侧产生温差.由于电极和样品不是同一种材料,电极和样品形成热电偶,这一温差将产生温差电动势,而且有E U E x U I B z ∝⋅这就是爱廷豪森效应.方向与电流E U I 及磁场B 的方向有关.(2)能斯脱(Nernst)效应.如果在x 方向存在热流x Q (往往由于x 方向通以电流,两端电极与样品的接触电阻不同而产生不同的焦耳热,致使x 方向两端温度不同),沿温度梯度方向扩散的载流子将受到z B 作用而偏转,在y 方向上建立电势差,有N U N x U Q B z ∝⋅这就是能斯脱效应.方向只与N U B 方向有关.(3)里纪-勒杜克(Righi-Ledue)效应.当有热流x Q 沿x 方向流过样品,载流子将 倾向于由热端扩散到冷端,与爱廷豪森效应相仿,在y 方向产生温差,这温差将产生 温差电势,这一效应称里纪-勒杜克效应.RL U RL x z U Q B ∝⋅RL U 的方向只与B 的方向有关.(4) 电极位置不对称产生的电压降.在制备霍尔样品时,y 方向的测量电极很难 0U 做到处于理想的等位面上,见图8.2-6.即使在未加磁场时,在A 、B 两电极间也存在一个由于不等位电势引起的欧姆压降0U 00x U I R =⋅其中0R 为A 、B两电极所在的两等位面之间的电阻,方向只与0U x I 方向有关.图8.2-6 电极位置不对称产生的电压降0U 样品所在空间如果沿y 方向有温度梯度,则在此方向上产生的温差电势也将叠加在T U H U 中,与T U I 、B 方向无关.6.副效应引起的系统误差的消除综上所述,在确定的磁场B 和电流I 下,实际测出的电压是H U 、、、和这5种电压的代数和.根据副效应的性质,可以通过改变实验条件,消除它们的影响. E U N U RL U 0U 上述5种电势差与B 和I 方向的关系如表8.2.1所示.表8.2.1 电势差与B 和I 方向的关系 H UE U N U RL U 0U IB I B I B I B I B 有关有关有关 有关无关有关无关有关有关 无关 这些副效应引起的附加电压的正负与电流或磁场的方向有关,我们可以通过改变电流和磁场的方向,来消除、、,具体做法如下:N V R V 0V ① 给样品加(+B、+I)时,测得3、4两端横向电压为U1=+UH +UE +UN +URL +U0+UT② 给样品加(+B、-I)时,测得3、4两端横向电压为U2=-UH -UE +UN +URL -U0+UT③ 给样品加(-B、-I)时,测得3、4两端横向电压为U3=+UH +UE -UN -URL -U0+UT④ 给样品加(-B、+I)时,测得3、4两端横向电压为U4=-UH -UE -UN -URL +U0+UT由以上四式可得 1234H E H U -U +U -U U +U U =4≅ (8.2-17)将实验时测得的U1、U2、U3和U4代入上式,就可消除UN、URL、U0、UT 等附加电压引入的误差.通常比E U H U 小得多,可以略去不计. 若要消除的影响,可将霍尔片置于恒温槽中,也可将工作电流改为交流电.因为的建立需要一定的时间,而交变电流来回换向,使始终来不及建立. E U EU E U 实验内容1.测量室温下锗样品的霍尔系数和电导率首先熟悉样品架、磁场、测量线路,仪器和软件.把样品(商品化的四头样品)置于电磁铁两磁极间的中心,样品与磁场方向垂直,B 固定为0.2T .样品电流定为1mA (3、4两电极间).测1、2电极间的电压,改变磁场和电流方向,共测四次;求的平均值得到霍尔电压12U 12U H U .测,不加磁场,电流换向后再测一次,取两次的平均值,得平均值得U 34U σ.2.变温霍尔系数及电导率的测量把样品连同样品架放入装有液氮的杜瓦瓶内,冷到77K 后将样品架放入磁场中固定,由计算机控制,自动测量随样品自动升温的霍尔系数,并测量高温霍尔系数.测完后再放入液氮中降温,动态测量电导率随温度的变化.3.数据处理(1)判断样品的导电类型.(2)计算室温下的霍尔系数及电导率,并计算样品的载流子浓度和霍尔迁移率. (3)由变温测量的数据,做出以下几条随温度变化的曲线1T ρ∝;1T σ∝;1H Tμ∝; 并定性解释,由曲线求出禁带宽度g E .实验步骤(1)打开实验仪器及电脑程序,单击“数据采集”.(2)将样品放入机座,对好槽口固定.(3)将“测量方式”拨至“稳态”,样品“电流换向方式”拨至“手动”,磁场测量和控制仪换向转换开关拨至“手动”,调节电流至磁场为设定值(200mT ).(4)“测量选择”拨至“H R ”测得分别正向磁场B +,样品正向电流I +时霍尔电压,1U B +,I −时,2U B −,I −时,3U B −,I +时.4U (5)将电磁铁电流调到零,测量选择拨至“δ”测得I +时,5U I −时值.6U (6)将样品架拿出放入液氮中(装有液氮的保温杯或杜瓦瓶)降温.(7)“测量选择”拨至“H R ”,“样品电流”换至“自动”,“测量方式”换至“动态”,“磁场控制”换至“自动”并调节电流至磁场设定值(200mT )(如无电流按“复位”按钮后调节)温度显示为77K 时,将样品架放回电磁铁中,单击“数据采集”和“电压曲线”,可看到测量数据,随着样品自然升温,可测得四条曲线.当温度接近室温时,调节温度设定至加热指示灯亮,并继续调大,升温至420K 时,保存数据.(8) 将调节温度设定调至最小(逆时针)将样品再放入液氮中降温.(9) 测量选择拨至“δ”,单击“数据采集”和“电压曲线”,可看到测量数据,当温度降至77K 时拿出,随着样品自然升温,可测得二条曲线.当温度接近室温时,调节温度设定至加热指示灯亮,并继续调大,升温至420K 时,保存数据.将调节温度设定调至最小(逆时针).(10) 打开保存的霍尔数据,单击霍尔曲线可得霍尔系数随温度变化的曲线.(11) 打开保存的电导率数据,单击电导曲线可得电导率随温度变化的曲线.思考题1.分别以p 型、n 型半导体样品为例,说明如何确定霍尔电场的方向.2.霍尔系数的定义及其数学表达式是什么?从霍尔系数中可以求出哪些重要参数? 3.霍尔系数测量中有哪些副效应,通过什么方式消除它们?你能想出消除爱廷豪森效应的方法吗? 4.定性说明曲线T 1=ρ;T1=σ. 参考文献[1] 黄昆,谢希德.半导体物理学.北京:科学出版社,1958[2] 刘恩科,朱秉升,罗晋生.半导体物理学.北京:国防工业出版社,1994[3] E. H. Putley. The Hall effect and related phenomena, London Butterworths,1960[4] 中科院理化测试中心.半导体检测与分析.北京:科学出版社,1984[5] 南京大学科教仪器厂. HT-648型变温霍尔效应实验仪使用说明书,2007。
半导体霍尔效应实验

(1)低温区。在低温区杂质部分电离,杂质电离产生的载流子浓度随温度升高而增加,而且 在低温下主要取决于杂质散射,它也随温度升高而增加。因此, 随T的增加而增加。见图的a段。室温附近,此时杂质已全部电离,载流子浓度基本不变,这时晶格散射起主要作用,使 随T的升高而下降,导致 随T的升高而下降,见图的b段。
将测量样品杆放入电磁铁磁场中(对好位置)。
打开电脑桌面HT648型变温霍尔效应控制程序,进入数据采集状态,选择电压曲线。如果没有进入数据采集状态,则按一下《Ⅰ》复位开关后进入数据采集状态。记录磁场电流正反向的霍尔电压 记录测试所得霍尔电压和霍尔系数数值。
将《Ⅱ》<测量选择>拨至 ,记录电流正反向的电压 记录所得样品的电导率。
(2) 高温区。在这段区域中,本征激发产生的载流子浓度随温度升高而指数地剧增,远远超过 的下降作用,使 随T而迅速增加,如图的c段。
3、 霍尔系数和温度的关系
电子空穴混和半导体材料的霍尔系数表达式:
A:为霍尔因子;b:为电子和空穴迁移率的比,大于1。
霍尔系数与温度的关系如图2:
A:n型半导体 B:p型半导体
1ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ 霍尔效应和霍尔系数
设一块半导体的x方向上有均匀的电流 流过,在z方向上加有磁场 ,则在这块半导体的y方向上出现一横向电势差 ,这种现象被称为“霍尔效应”, 称为“霍尔电压”,所对应的横向电场 称为“霍尔电场”。
霍尔电场强度 的大小与流经样品的电流密度 和磁感应强度 的乘积成正比:
式中比例系数 称为“霍尔系数”。
当该电场对空穴的作用力q 与洛仑兹力相平衡时,空穴在y方向上所受的合力为零,达到稳态。在稳态时,有 :
变温霍尔效应实验报告

变温霍尔效应摘要本实验利用范德堡法测量变温霍尔效应从85K到290K的温度范围内测量了碲镉汞单晶霍耳电压随温度变化的23组有效数据。
而后对数据进行了处理分析,做出In|Rh|-1/T图找出了不同温度范围的图像变化特点,与理论图现象比较,分析结果从而研究了碲镉汞的结构特性和导电机制关键词霍耳效应半导体一、引言低温条件下,物质中原子、分子的热运动减弱,特别是接近绝对零度时,物质处在能量的基态或低激发态,物质的电学、磁学等物理性质会发生很大变化,而霍耳效应就是其中的一种。
对通电导体或半导体施加一个与电流方向相垂直的磁场,则在垂直于电流和磁场方向上有一横向电位差出现,此即为霍耳效应。
而在不同温度下,霍耳效应具有不同的特点,霍耳系数随着温度的变化而变化。
在20世纪的前半个世纪,霍尔系数及电阻率的测量一直推动着固体导电理论的发展,特别是在半导体纯度以及杂质种类的一种有力手段,也可用于研究半导体材料电输运特征,是半导体材料研制工作中必不可少的一种常备测试方法。
二、实验原理1、半导体内载流子半导体内载流子的产生有两种不同的机制,本征激发和杂质电离。
本征激发:半导体有两种载流子,即电子和空穴。
本征激发情况下有电子和空穴浓度相等,n=p。
共同浓度n i本征载流子浓度。
由经典玻尔兹曼统计可得:杂质电离:绝大部分的半导体材料都含有一定量的杂质,它们在常温下的导电性能,主要由杂质决定。
根据杂质的不同可以分为P型半导体和N型半导体。
2、载流子的电导率在一般电场情况下,半导体导电也服从欧姆定律,电流密度与电场成正比:j = σE从理论可知,电导率σ与导电类型和载流子浓度有关,当混合导电时:σ=nqμn+pqμp μn μp分别为电子和空穴的迁移率。
载流子浓度随温度的变化可分为三个温区来讨论。
以p 型半导体为例:a)当温度较低时(几十k),只有很少受主电离,空穴浓度远小于受主浓度,产生的空穴浓度:2exp()2iAEP NKT=-<<(1)式中NV 为价带的有效能级密度,NA 为受主杂质浓度。
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变温霍尔效应测量半导体电学特性
霍尔效应的测量是研究半导体性质的重要实验方法。
利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来确定半导体的导电类型和载流子浓度。
通过测量霍尔系数与电导率随温度的变化,可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的温度系数等基本参数。
本实验通过对霍尔样品在弱场条件下进行变温霍尔系数和电导率的测量,来确定半导体材料的各种性质。
【实验目的】
1.了解半导体中霍尔效应的产生机制。
2.通过实验数据测量和处理,判别半导体的导电类型,计算室温下样品的霍
尔系数、电导率、迁移率和载流子浓度。
3.掌握变温条件下霍尔系数和电阻率的测量方法,了解两者随温度的变化规
律。
【实验仪器】
本实验采用CVM200变温霍尔效应测试系统来完成,本仪器系统由可换向永磁体、CME12H变温恒温器、TC202控温仪、CVM-200霍尔效应仪等组成。
本系统自带有两块样品,样一是美国Lakeshore公司HGT-2100高灵敏度霍尔片,厚度为0.18mm,最大工作电流≤10 mA,室温下的灵敏度为55-140 mV/kG; 样二为锑化铟,厚度为1.11mm,最大电流为60mA,其在低温下是典型的P型半导体,而在室温下又是典型的N型半导体,相应的测试磁场并不高,但霍尔电压高,降低了对系统仪表灵敏度、磁铁磁场的要求。
【实验原理】
1.霍尔效应和霍尔系数
Z
Y
X
图1 霍尔效应示意图
霍尔效应是一种电流磁效应(如图1)。
当半导体样品通以电流Is ,并加一垂直于电流的磁场B ,则在样品两侧产生一横向电势差U H ,这种现象称为“霍尔
效应”,U H 称为霍尔电压,
d B I R H S H U =
(1)
则: IsB d U H H R =
(2) R H 叫做霍尔系数,d 为样品厚度。
对于P 型半导体样品, qp H R 1=
(3) 式中q 为空穴电荷电量,p 为半导体载流子空穴浓度。
对于n 型半导体样品, qn H R 1-= (4)
式中为n 电子电荷电量。
考虑到载流子速度的统计分布以及载流子在运动中受到散射等因素的影响。
在霍尔系数的表达式中还应引入霍尔因子A ,则(3)(4)修正为
p 型半导体样品:qp A
H R = (5)
n 型半导体样品,qn A H R -= (6)
A 的大小与散射机理及能带结构有关。
在弱磁场(一般为200 mT )条件下,对球形等能面的非简并半导体,在较高温度(晶格散射起主要作用)情况下,A=1.18,在较低的温度(电离杂质散射起主要作用)情况下,A=1.93,对于高载流子浓度的简并半导体以及强磁场条件A=1。
对于电子、空穴混合导电的情况,在计算R H 时应同时考虑两种载流子在磁场偏转下偏转的效果。
对于球形等能面的半导体材料,可以证明:
2
2)()(nb p q nb p A R H +-= (7) 式中 p b μμn = ,μp 、μn 分别为电子和空穴的迁移率,A 为霍尔因子,A 的大小与散射机理及能带结构有关。
从霍尔系数的表达式可以看出:由R H的符号可以判断载流子的型,正为P 型,负为N型。
由R H的大小可确定载流子浓度,还可以结合测得的电导率算出如下的霍尔迁移率μH
μH=|R H|σ(8)
对于P型半导体μH=μP,对于N型半导体μH=μN
霍尔系数R H可以在实验中测量出来,表达式为
IsB d
U H H
R (9)
式中U H、Is、d,B分别为霍尔电势、样品电流、样品厚度和磁感应强度。
单位分别为伏特(V)、安培(A),米(m)和特斯拉(T)。
但为与文献数据相对应,一般所取单位为U H伏(V)、Is毫安(mA)、d厘米(cm)、B高斯(Gs)、则霍尔系数R H的单位为厘米3/库仑(cm3/C)。
但实际测量时,往往伴随着各种热磁效应所产生的电位叠加在测量值U H上,引起测量误差。
为了消除热磁效应带来的测量误差,可采用改变流过样品的电流方向及磁场方向予以消除。
2.霍尔系数与温度的关系
R H与载流子浓度之间有反比关系,当温度不变时,载流子浓度不变,R H不变,而当温度改变时,载流子浓度发生,R H也随之变化。
实验可得|R H |随温度T变化的曲线。
3.半导体电导率
在半导体中若有两种载流子同时存在,其电导率σ为
σ=qpu P+qnu n(10)
实验中电导率σ可由下式计算出
σ=I/ρ=Il/Uσad (11)
式中为ρ电阻率,I为流过样品的电流,Uσ、l分别为两测量点间的电压降和长度,a为样品宽度,d为样品厚度。
【实验数据记录及处理】
1. 数据分析
(1). 霍尔系数和载流子浓度
霍尔电压的方向与电流方向、磁场方面和载流子类型有关,具体详见教课书。
本系统所提供的样二在室温下为n 型载流子导电,在液氮温度下为p 型载流子导电。
请于实验前用指南针确定电磁铁极性与电流方向的关系,判断载流子类型。
进行霍尔测量时,有雨存在热电势、电阻压降等许多副效应,这些副效应多数有自己的特定方向,与电流无关,故要在不同电流方向和磁场方面下进行四次霍尔电压测量,得到四个值:V H1、V H2、V H3、V H4。
最后,霍尔电压:
)(4
14321V V V V V H H H H H +++= (12)
代入(9)式即可求出霍尔系数。
对于单一载流子导电的情况: 载流子浓度为:H
R n 6.11019
= (米-3) (13) (2). 电阻率:
标准样品的电阻率:
IL
daV σρ=(欧姆*米) (14) 其中σV 为电导电压(正反向电流后测得的平均值),单位为伏特;d 是样品厚度,单位为米;a 是样品宽度,单位为米;L 是样品电位引线N 和C 之间的距离,单位为米;I 是通过样品的电流,单位为安培。
对范德堡样品:
)(2ln 2..op mn on mp R R f d
+=πρ (15)
(2ln 4If d
π=)2121V V V V N N M M +++
其中:I 为通过样品的电流(假设在测量过程中使用了同样的样品电流)
f 为形状因子,对对称的样品引线分布,f ≈1
(3). 霍尔迁移率:
霍尔迁移率: ρμH
R = (16)
对于混合导电的情况,按照上式计算出来的结果无明确的物理意义。
它们既不代表电子的迁移率,也不代表空穴的迁移率。
2. 数据记录:
(测一组室温数据,在液氮温度下,间隔10K 变温测量,再记录6组数据)
3. 数据处理:
(1) 计算出室温下两样品的霍尔系数、载流子浓度、电阻率、霍尔迁移率
(2) 计算出变温条件下两样品的电阻率,以温度为横坐标,电阻率为纵坐标,在坐标纸上做ρ-t 关系曲线
【注意事项】
(1) 请戴手套取液氮,防止冻伤。
(2) 实验完毕后,一定请将中心杆旋颂,防止由于热膨胀系数不同,卡住聚四氟乙烯绝热塞,损坏恒温器。
【思考题】
(1). 如何从电场、磁场、霍尔电压的方向来判定半导体的导电类型?
(2).测量样品霍尔系数时,怎样才能消除负效应?
【附录】
(一)常温下测量霍尔系数R H 和电导率σ
1.打开电脑、霍尔效应实验仪(I )及磁场测量和控制系统(II )
电源开关。
( 以下简称I 或II )
(如《II 》电流有输出,则按一下《I 》复位开关,电流输出为零。
)
2.将霍尔效应实验仪(I ),<样品电流方式>拨至“自动”, <测
量方式>拨至“动态”, 将II 〈换向转换开关〉拨至“自动”。
按一下《I 》复位开关,电流有输出,调节《II 》电位 器,至电流
为一定电流值同时测量磁场强度。
(亦可将II 开关拨至手动,
调节电流将磁场固定在一定值,一般为200mT 即2000GS )。
3.将测量样品杆放入电磁铁磁场中(对好位置)。
4.进入数据采集状态,选择电压曲线。
如没有进入数据采集状态,则按一下《I》复位开关后进入数据采集状态。
记录磁场电流正反向
的霍尔电压V3、V4、V5、V6。
可在数据窗口得到具体数值。
5.将《I》<测量选择>拨至σ,记录电流正反向的电压V1、V2。
6.按讲义计算霍尔系数R H,电导率σ等数据。
(二)变温测量霍尔系数R H和电导率σ
1.将《I》<测量选择>拨至“R H”,将〈温度设定〉调至最小(往左旋到底,加热指示灯不亮)
2.将测量样品杆放入杜瓦杯中冷却至液氮温度。
3.将测量样品杆放入电磁铁磁场中(对好位置)。
4.重新进入数据采集状态。
(电压曲线)
5.系统自动记录随温度变化的霍尔电压,并自动进行电流和磁场换向。
到了接近室温时调节〈温度设定〉至最大(向右旋到底)。
也可一开
始就加热测量。
6.到加热指示灯灭,退出数据采集状态。
保存霍尔系数RH文件。
7.将《I》<测量选择>拨至“σ”
8.将测量样品杆放入杜瓦杯中冷却至液氮温度。
9.将测量样品杆拿出杜瓦杯。
10.重新进入数据采集状态。
11.系统自动记录随温度变化的电压,到了接近室温时调节〈温度设定〉至最大。
12.当温度基本不变,退出数据采集状态。
保存电导率σ文件。