光栅式位移测量
光栅尺位移传感器原理
光栅尺位移传感器原理
光栅尺位移传感器是一种常用的测量设备，其工作原理基于光的干涉原理。
该传感器由一对平行的光栅组成，一个光栅作为参考，另一个光栅与被测物体相连，用于测量物体的位移。
当光经过两个光栅之间的空隙时，光波会发生干涉。
依据干涉原理，当两束波长相同、频率相同的光线相遇时，它们会相互干涉产生干涉条纹。
根据干涉条纹的间距变化，可以推测出物体的位移。
当物体发生位移时，连接在物体上的光栅也会随之移动。
这会导致光栅间的间距发生变化，从而改变干涉条纹的间距。
传感器通过检测干涉条纹的间距变化，可以准确测量物体的位移。
为了检测干涉条纹的变化，传感器通常使用光电检测器来接收通过光栅传递的光信号，并将其转换为电信号。
经过放大和处理后，电信号可以被转化为数字信号，从而实现对位移的测量。
光栅尺位移传感器具有高精度、高分辨率和良好的稳定性等优点，因此在许多领域中得到广泛应用。
例如，它常用于机械加工、自动化控制、精密测量等领域，用于准确测量物体的位移和运动状态。
光栅测量位移的原理
光栅测量位移的原理首先是干涉原理。
当一束入射光线照射到光栅上时，光将会在透明条纹和不透明条纹之间发生干涉。
因为光栅上的条纹等间距，入射光线会被光栅分成多个子光线，每个子光线都会与光栅上的一条条纹发生干涉。
这些干涉会产生一系列衍射光点，形成干涉图。
其次是衍射原理。
当一束入射光线通过光栅上的条纹时，会发生衍射现象。
衍射产生的衍射角度与光栅的条纹间距有关。
因此，通过测量衍射角度，可以确定物体相对于光栅的位移。
基于以上两个原理，光栅测量位移的原理可以被描述如下：1.入射光线通过光栅：将一束入射光线照射到光栅上，光线会分成多个子光线，并在光栅上形成干涉图。
2.干涉图的形成：子光线与光栅上的条纹之间发生干涉，形成一系列衍射光点。
这些光点形成干涉图，可以被观察到。
3.位移的影响：当测量的物体发生位移时，物体相对于光栅的位置也会发生变化，进而改变入射光线与光栅的相对位置。
4.衍射角度的测量：位移导致入射光线与光栅的相对位置变化后，新的入射光线将会产生新的干涉图。
通过测量新的干涉图中的衍射角度变化，可以确定位移的值。
5.位移计算：在已知光栅的结构参数（如条纹间距）的情况下，通过衍射角度与位移之间的关系，可以计算出位移的具体数值。
需要注意的是，光栅测量位移的精度受到很多因素的影响，如光栅的条纹间距、光源的波长、检测器的分辨率等。
为了提高测量的精度，通常需要采用一些增强技术，比如使用激光作为光源、采用高分辨率的检测器等。
总结起来，光栅测量位移的原理基于干涉和衍射现象。
通过测量入射光线经过光栅后形成的干涉图的特征（如衍射角度），可以确定位移的值。
光栅测量位移的原理在工业生产和科学研究中具有广泛的应用。
光栅精密位移测量技术发展综述
光栅精密位移测量技术发展综述光栅精密位移测量技术是一种利用光栅原理进行精密位移测量的技术。
光栅是一种经过光学加工产生的具有一定周期的光学结构，由透光区和不透光区组成。
在应用中，通过将光线以一定的入射角度照射到光栅上，经过光栅的作用后，透射或反射出的光线将被分裂成不同的光束，形成一定的光衍射图案。
根据光衍射图案特征的变化，可以实现对被测量体位移的测量。
第一阶段：光栅发展初期（20世纪60年代至70年代）在20世纪60年代至70年代，光栅技术刚刚开始被应用于位移测量领域。
当时的光栅仅能实现粗略的位移测量，测量范围有限。
此时的光栅精密位移测量技术主要应用于科学研究领域。
第二阶段：数字式光栅技术发展（20世纪80年代至90年代）在20世纪80年代至90年代，随着集成电路技术的进步，数字式光栅技术开始被广泛应用于光栅精密位移测量领域。
数字式光栅通过将光栅的周期结构映射到一系列二进制码上，实现了对位移的数字化处理。
这种技术具有高测量精度、高信号稳定性、高分辨率等优势，被广泛应用于工业自动化等领域。
第三阶段：干涉式光栅技术发展（20世纪90年代至今）在20世纪90年代以后，干涉式光栅技术开始逐渐替代数字式光栅技术，成为光栅精密位移测量技术的主流。
干涉式光栅通过利用光的干涉现象，实现对位移的精密测量。
与数字式光栅相比，干涉式光栅具有更高的分辨率、更高的测量精度和更强的环境适应能力。
随着光学材料和检测技术的不断发展，光栅精密位移测量技术不断改进和创新。
例如，基于光纤传感技术的光栅位移传感系统实现了长距离测量和多点测量的应用；利用光学存储介质制作的光栅具有更高的光学品质和更低的测量误差。
总的来说，光栅精密位移测量技术经过几十年的发展，从初期的粗略测量到数字化处理再到干涉式测量，实现了从低精度到高精度的迅速提升。
随着科学技术的不断进步，相信光栅精密位移测量技术在未来会有更广阔的应用前景。
光栅及位移测量
一、 光栅式传感器
--- 等节距的透光和不透光的刻线均匀相间排列构成的光学元件
物理光栅：利用光的衍射现象分析光谱、测定波长
计量光栅： 利用光的莫尔条纹现象测量精密位移
长光栅 --- 直线位移；圆光栅 --- 角位移 构成：主光栅 --- 标尺光栅，定光栅；指示光栅 --- 动光栅 长度 --- 测量范围；刻线密度 --- 测量精度 ( 10、25、50、100、125线/mm )
(4) 光栅传感器特点 ①精度高：测长±(0.2+2×10-6L)μm，测角±0.1″ ②量程大：透射式---光栅尺长（米），反射式---几十米 ③响应快：可用于动态测量 ④增量式：增量码测量 → 计数 断电→数据消失 ⑤要求高：对环境要求高→温度、湿度、灰尘、振动、移动精度 ⑥成本高：电路复杂
3）激光三角法
原理：
y = f (x)
x
y
激光测距产品
Keyence 激光测距传感器
特点： 非接触、不易划伤表面、结构简单、测量距离大、 抗干扰、测量点小（几十微米）、测量准确度高 精度：光学元件本身的精度、环境温度、激光束的光强和直 径大小以及被测物体的表面特征
应用：
厚度测量：
莫尔条纹特性： 方向性：垂直于角平分线，当夹角很小时 → 与光栅移动方向垂直 同步性：光栅移动一个栅距 → 莫尔条纹移动一个间距一方向对应 放大性：夹角θ很小 → B>>W → 光学放大 → 提高灵敏度 可调性：夹角θ↓→ 条纹间距B↑ → 灵活 准确性：大量刻线 → 误差平均效应 → 克服个别/局部误差 → 提高精度
莫尔条纹 --- 圆弧形、 环形、辐射形 ① 径向光栅的圆弧形莫尔条纹 两块径向光栅 --- 栅距角相同/不大偏心量
光栅位移传感器工作原理
光栅位移传感器工作原理
光栅位移传感器通常使用光栅腔体结构，并根据物体的位移改变光栅干涉图案的特征，从而实现位移测量。
其工作原理可以分为以下几个步骤：
1. 激光发射：传感器通过激光器发射出一束单色、相干的激光光束。
2. 光栅结构：光栅位移传感器的关键部分是光栅，其由许多狭缝或光栅条组成。
光栅的条间距和条宽度具有精确的设计。
3. 干涉：被测物体与光栅之间形成干涉。
当激光光束经过光栅和被测物体后，光束被分成两个或多个光路，这些光路在后续的光程中会发生相位差。
4. 探测器：干涉光束进入光栅位移传感器的光电检测器中，检测器将干涉图案转化为电信号。
5. 信号处理：信号处理电路对传感器输出的电信号进行处理，如放大、滤波和分析。
通过测量干涉光的相对强度和相位差，可以计算出被测物体的位移。
总的来说，光栅位移传感器通过干涉效应实现位移测量，光栅的特殊结构和光栅与被测物体之间的相互作用使得光的干涉图案与物体位移相关联，从而实现对位移的测量。
光栅位移传感器测距离的原理
光栅位移传感器测距离的原理光栅位移传感器是一种常用于测量物体距离的传感器。
它通过利用光栅的原理来实现测距的功能。
光栅位移传感器主要由光源、光栅、接收器和信号处理器等组成。
在光栅位移传感器中，光源发出的光经过光栅后，会形成一系列光斑。
光栅是由一条条等距分布的透明线条组成的，这些线条可以是平行的也可以是交叉的。
当光斑照射到被测物体上时，会产生光的衍射现象。
光栅位移传感器通过检测衍射光的强度来测量物体的距离。
光栅位移传感器中的接收器会接收到经光栅衍射后的光斑，并将其转化为电信号。
接收器通常采用光电二极管或光敏电阻等器件来实现。
当物体距离传感器较远时，接收到的衍射光斑会比较弱，电信号的强度也会较小；当物体距离传感器较近时，衍射光斑会比较强，电信号的强度也会较大。
因此，通过检测电信号的强度变化，可以间接地推导出物体与传感器的距离。
光栅位移传感器中的信号处理器会对接收到的电信号进行处理和分析。
它可以对信号进行放大、滤波和数字化等处理，以便更精确地测量物体的距离。
信号处理器通常由微处理器或专用的数字信号处理器实现。
光栅位移传感器具有很高的测量精度和稳定性。
它可以测量的距离范围很大，通常可以达到几十微米到数米。
此外，光栅位移传感器还可以实现非接触式测量，无需与被测物体直接接触，因此适用于各种工业和科学应用中。
光栅位移传感器在工业自动化、机器人、测量仪器等领域都有广泛的应用。
比如在机器人的定位和导航中，可以利用光栅位移传感器实现对机器人位置的准确测量；在工业生产线上，可以利用光栅位移传感器实现对产品尺寸的测量和质量控制。
光栅位移传感器通过利用光栅的原理，实现对物体距离的测量。
它具有高精度、稳定性好和非接触式测量等优点，在工业和科学领域中发挥着重要的作用。
随着技术的不断发展，光栅位移传感器的性能将进一步提升，为各种应用场景提供更加可靠的测量解决方案。
光栅尺的种类及工作原理
光栅尺的种类及工作原理光栅尺是一种常见的测量仪器，它利用光学原理来测量物体的位置和移动距离。
光栅尺广泛应用于机械设备、数控机床、精密测量仪器等领域。
本文将介绍光栅尺的种类以及它们的工作原理。
一、光栅尺的种类1. 增量式光栅尺：增量式光栅尺是最常见的一种光栅尺。
它通过将光栅刻划在透明玻璃或光学膜上，然后通过读头接收反射或透射的光信号，测量物体的位置和位移。
增量式光栅尺通常具有高分辨率和较低的成本，适用于一般的测量应用。
2. 绝对式光栅尺：绝对式光栅尺是一种具有独特编码结构的光栅尺。
它可以直接测量物体的位置，无需参考点或回零操作。
绝对式光栅尺通常具有高精度和高分辨率，适用于要求较高的测量应用。
3. 波前式光栅尺：波前式光栅尺是一种基于波前干涉原理的光栅尺。
它利用物体表面反射的光波前差来测量物体的形状和表面变形。
波前式光栅尺通常具有高精度和高灵敏度，适用于形状测量和表面缺陷检测。
二、光栅尺的工作原理光栅尺的工作原理基于光学干涉现象。
光栅是一种具有周期性刻线的光学元件，可以将入射的平行光束分成多个等间距的光斑。
光栅尺通常包括光栅和读头两个部分。
当光线照射到光栅上时，光栅上的刻线会将光线分散成多个光斑。
这些光斑会经过物体反射或透射后，再次通过光栅，最后被读头接收。
读头中的光电二极管会将接收到的光信号转换为电信号。
对于增量式光栅尺，读头会将接收到的光信号转换为脉冲信号。
脉冲的数量和频率与物体的位置和位移成正比。
通过计数和计时脉冲信号，可以确定物体的位置和位移。
对于绝对式光栅尺，光栅上的刻线会形成一种特殊的编码结构。
读头会将接收到的光信号转换为二进制码或格雷码。
通过解码和识别编码，可以直接确定物体的位置，无需参考点或回零操作。
对于波前式光栅尺，光栅上的刻线会形成一种波前干涉的结构。
读头会将接收到的光信号转换为干涉条纹图像。
通过分析条纹图像的变化，可以测量物体的形状和表面变形。
总结起来，光栅尺利用光学原理通过光栅和读头的组合，将光信号转换为电信号，并通过信号处理和解码来测量物体的位置和位移。
光栅位移传感器原理
光栅位移传感器原理
光栅位移传感器是一种可以测量物体位移的传感器。
它的原理基于光栅的干涉效应。
该传感器由一个光源和一个光栅组成。
光源发出的光线会经过光栅表面的一系列的凹槽和凸起，然后形成一系列的亮暗条纹。
当物体靠近光栅时，这些条纹会产生位移。
光栅位移传感器利用干涉效应来测量位移。
当光线经过光栅时，会在物体表面产生一个被称为衍射光栅的衍射效应。
这个衍射光栅会和原始光栅产生干涉，导致光栅图案发生变化。
通过测量这种变化，可以确定物体的位移大小。
具体测量原理是通过记录光栅光束的强度变化来计算位移。
当物体位移时，干涉效应会导致光束的强度发生变化。
通过测量这种变化，可以确定物体的位移大小。
光栅位移传感器有广泛的应用领域，包括精密测量、机械工程、自动化控制等。
它的优点是测量准确度高、稳定性好。
缺点是对环境光的干扰较大，需要对测量环境进行较好的控制。
总的来说，光栅位移传感器利用干涉效应测量物体的位移。
通过测量光栅光束的强度变化，可以确定物体的位移大小，具有高精度和稳定性的特点。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
光栅式位移测量欣欣机械学院摘要光栅是高精度位移测量元件，它与数字信号处理仪表配套，组成位移测量系统，被广泛地应用于数控机床等自动化设备当中。
光栅测量位移的原理主要是利用光栅莫尔条纹原理来实现的.本文主要介绍了光栅的测量位移原理以及几种干涉的测量方法，有助于简单了解光栅式位移测量。
关键词光栅莫尔条纹辨向光栅干涉1 引言随着人们对大量程、高分辨力和高精度的测量要求的不断深化，光栅位移测量技术正在受到越来越广泛的重视。
相比于其它高精度位移测量方法，光栅位移测量在结构、光路、电路和数据处理方面都比较简单、紧凑，整个系统体积小、成本低、易于仪器化、适合于推广应用；同时，它以实物形式提供测量基准，既可以采用低热膨胀系数的石英或零膨胀玻璃等材料作为基体，也可以采用具有和钢等材料非常接近的热膨胀系数的玻璃或金属材料作为基体，稳定可靠，零点漂移极小，对环境条件的要求低，对实验研究及工程应用都非常方便，在位移测量领域具有广阔的发展前景。
传统的光栅测量系统一般是采用接受光栅副的莫尔条纹信号，然后进行电子细分和处理来实现位移量的测量。
但此类基于光强幅度调制的测量系统，为达到信噪比很大的稳定输出，必须使得经莫尔条纹产生的光电输出电压的交变成分幅值尽可能大。
这就要求标光栅和指示光栅之间的距离必须很小且稳定。
中间不能有异物而生产现场环境恶劣，常常会因为污染而使传感器信号变坏，甚至不能工作。
粗光栅位移测量系统继承了传统光栅测量的优点，同时又改进了它的不足。
它采用栅距为0.635mm的反射式粗线纹光栅尺光学系统设计成物方远心光路，取消了指示光栅这种系统中光栅尺不用密封。
传感头与光栅尺之间工作间隙为15mm左右，表面不怕沾有油或水。
同时由于其具有自对准特性加之线纹间距大，因而具有接长方便的特点。
特别适用于需要进行大范围测量和定位的各种大中型数控机床。
2 光栅式位移测量分析2．1光栅测量原理2．1．1光栅的分类和结构光栅种类很多，可分为物理光栅和计量光栅。
物理光栅主要是利用光的衍射现象，常用于光谱分析和光波波长测定，而在检测技术中常用的是计量光栅。
计量光栅主要是利用光的透射和反射现象，常用于位移测量，有很高的分辨力。
计量光栅可分为透射式光栅和反射式光栅两大类，均由光源、主光栅、指示光栅、光电元件三大部分组成。
光电元件可以是光敏二极管，也可以是光电池。
透射式光栅一般是用光学玻璃或不锈钢做基体，在其上均匀地刻划出间距、宽度相等的条纹，形成连续的透光区和不透光区。
计量光栅的结构图如图2．1所示。
2．1．2莫尔条纹下面以透射式黑白光栅为例来分析光栅测量位移的工作原理。
把长短两块光栅重叠放置，但中间留有微小的间隙，并使两块光栅的刻线之间有一很小的夹角p，如图2．2所示。
当有光照时，光线就从两块光栅刻线重合处的缝隙透过，形成明亮的条纹，如图2．2中的a-a所示。
在两块光栅刻线错开的地方，光线被遮住而不能透过，于是就形成暗的条纹，如图2．2中的b-b所示。
这些明暗相间的条纹称为莫尔条纹，其方向与光栅刻线近似垂直，相邻两明亮条纹之间的距离BH称为莫尔条纹间距。
2．1．3光栅测量位移的工作原理若标尺光栅和指示光栅的刻线密度相同，即光栅栅距d相等，则莫尔条纹的间距见式(2-1)。
由于口角很小，故莫尔条纹间距粕远大于光栅栅距d，即莫尔条纹具有放大作用。
测量时，把标尺光栅与被测量对象相联结，使之随其一起运动。
当标尺光栅沿着垂至于刻线的方向相对于指示光栅移动时，莫尔条纹就沿着近似垂直于光栅移动的方向运动。
当光栅移动一个栅距d时，莫尔条纹也相应地欲动一个莫尔条纹间距粕。
因此，可以通过莫尔条纹的移动来测量光栅移动的大小和方向。
对于一个固定的观测点，其光强随莫尔条纹的移动，亦即随光栅的移动按近似余弦的规律变化，光栅每移动一个栅距，光强变化一个周期。
如果在该观测点放置一个光电元件(一般用硅光电池、光敏二极管或三极管)，就可把光强信号转变成按同一规律变化的电信号，即由公式(2．2)所示。
可以看出，在莫尔条纹间距BH的1／4，3／4处信号变化斜率最大，灵敏度最高，故通常都以这些点作为观测点。
通过整形电路，把正弦信号转变成方波脉冲信号，每经过一个周期输出一个方波脉冲，这样脉冲数Ⅳ就与光栅移动过的栅距数相对应，因而位移X=Nd。
2．2辨向电路对于一个固定的观测点，不论光栅向哪个方向运动，光照强度都只是作明暗交替变化，光敏元件总是输出同一规律的变化的电信号，因此仅依该信号是无法判别光栅移动的方向的。
为了辨别方向，通常在相距B／4的位置安放两个光敏元件l和2，如图2．3所示，从而获得相位相差为900的两个币弦信号。
然后把这两个电压信号U1和U2输入到图24所示的辨向电路进行处理。
当标尺光栅向左移动，莫尔条纹向上移动时，光敏元件l和2分别输出图2-5(a)所示的电压信号Ul和U2，经放大整形后得到相位相差90度的两个方波信号经反相后得到U”1方波。
和u”1和u’1经RC微分电路后得到两组光脉冲信号U ‘1w和U”1w，分别输入到与门YI和Y2的输入端。
对与门Y1，由于U’1w处于高电平时，u'2总是低电平，故脉冲被阻塞，YI无输出；对与门Y2，U ”1w处于高电平，u'2也正处于高电平，故允许脉冲通过，并触发加减控制触发器使之置”l”，可逆计数器对与门Y2输出的脉冲进行加法计数。
同理，当标尺光栅反向移动时，输出信号波形如图2．5(b)，与门Y2阻塞，Yl输出脉冲信号使触发器置”0”，可逆计数器对与门Y1输出的脉冲进行减法计数。
这样每当光栅移动一个栅距时，辨向电路只输出一个脉冲，计数器所计的脉冲数即代表光栅位移X3 发展现状3．1国外相关技术发展现状光栅位移测量起源于20世纪50年代，1953年英国Ferranti公司的爱丁堡实验室建立了第1个利用莫尔条纹系统测量位移的工作样机。
1954年，GUILD在其著作“The interference system of crossed diffractiongratings”中首次提出莫尔干涉的思想。
1967年，POST首次根据GUILD提出的原理，把1块粗光栅和1块细光栅组合到一起，通过合理地选择衍射光的级次，实现了条纹倍增，得到了相当于采用2001ine／mm光栅的测量灵敏度。
20世纪80年代初期，POST等人用Lloyd反射镜和光栅构造了一个简单的莫尔干涉系统，实现了相当于采用40001ine／mm光栅的灵敏度，这才使莫尔干涉位移测量真正走上了实用的阶段【1】。
从20世纪70年代以来，数显量具随着微电子、激光技术、传感技术、计算机等前沿技术的迅猛发展而迅速发展起来，并逐步开始替代传统机械量具，同时由于光刻、复制技术和微电子技术的发展，使光栅测量系统生产成本大大下降，可靠性增高，测量长度和精度也得到迅速提高，因此国外在70年代光栅测量系统就用于数显和数控机床，从当初占机床测量系统的10％发展到今天占到80％17J。
目前全世界能制造光栅测量系统的国家有德国、日本、英国、西班牙、意大利、奥地利、俄国和韩国等。
在数显装置方面，国外的数显装置发展按照元件进步划分，经历了分离原件、集成电路和微机三阶段；按功能划分可分为普通型、功能型、智能型三类。
其中智能型数显装置可按人的意志编制程序并根据环境变化自动修正误差，因此国外的数显装置发展已经达到了一个很高的水平。
以德国的海德汉公司为例，其技术、品种和产量都领先于其他国家191。
其产品利用可编程器件PLC将电路集成于控制系统，具有较高的稳定性。
目前国际数显高端产品市场仍由欧美及日本企业垄断。
德国海德汉垄断高档光栅传感器及其测量系统的生产与销售，2003年销售额达7亿欧元，占全世界60％以上的光栅数显产品市场；日本三丰公司是世界最大容栅量具量仪生产厂，占世界容栅量具市场50％，2003年销售额高达8亿美元。
3．2国内相关技术发展现状中国数显量具行业起步于20世纪80年代，经过长时间的发展，我国量具行业已经初步形成产品门类比较齐全，具有一定生产规模和开发能力的产业体系，成为全球除日本外第二大量具生产国。
据不完全统计，2006年我国工量具生产企业总数为400多家，其中以生产量具为主的企业约为100多家。
2006年我国量刃具工业总产值244．89亿元，与2005年同比增长28．3％；产品销售收入230．45亿元，与2005年同比增长27．7％。
我国已迅速发展成为世界第二大的数显量具生产基地。
近两年来国内的镀膜、光刻和复制技术都有很大提高，制造和检测环境都有较大改善，主要厂家都能制造3米以内的光栅尺，准确度在正负10μm的基础上向正负5μm提高，测量速度也由48m／min提高到了60m／min，其中信和公司l μm分辨率的光栅尺能达到120m／min，并应用在三轴联动的数控铣床中。
在产品开发方面莱格公司也开发了钢带光栅尺和绝对式直线光栅尺。
国产光栅尺(玻璃透射光栅)总体指标为：栅距：40μm，20μm和10μm；分辨率：10μm，5μm，Iμm和0.5μm；最大测量长度：3m(接长可至12m)；系统准确度：正负10μm、正负5μm；测量速度：48m／min，60m／min。
在光栅数显表的硬件方面，国内的生产厂商普遍采用可编程逻辑器件(PLD)及现场可编程门阵YlJ(FPGA)。
缩短了产品开发周期，降低了制造成本，大大地压缩了电路结构，在普遍采用的表面安装技术(SMT)的基础上数显表都做成了低功耗的单板结构，电源几乎都采用输人电压为100--．240V的开关电源，机箱也采用了铸铝的轻型结构，总的说来数显表已大大地缩小了和国外产品的差距。
现在光栅测量系统的应用除了各种机床外已广泛用于投影仪、影像仪、对刀仪等。
我国数显行业初步形成了与国际一流企业竞争的基本条件，进入了良性循环的态势，加之国际数显市场良好的前景，不难预见，在未来五年，我国整个数显行业将步入发展的快行道4 几种光栅干涉测位移方法4.1 双波长单光栅干涉单光栅位移测量系统虽然测量分辨率很高，但测量精度尚未达到理想的纳米级水平。
双波长单光栅位移测量实质是将单光栅衍射理论与双频外差干涉理论相结合，利用各自的光学优点，再配合外差干涉信号处理方法，从而构造大量程纳米级精度的位移测量系统。
由光的叠加与干涉理论知道，两个同向振动但频率相近的光波合成时将形成拍，其频率之差为拍频，拍频实际上是单位观测时间内合光强强度变化的次数。
4.1.1 主要特点：（1）由于光栅位移测量量程取决于所采用光栅的长度，这里采用价格适中的低线数长光栅，可实现大量程的测量范围。
同时，系统的光学细分倍数为2m，当采用较高的衍射级次进行测量时，光学细分倍数一般可超过20 倍。
（2）由理论推导可知，双波长单光栅式干涉测量方法的测量基准是光栅栅距d，而不是光波波长λ。