第2章 半导体器件基础概论
半导体器件基础

半导体器件基础·目录第一部分半导体基础第1章半导体概要1.1 半导体材料的特性1.1.1 材料的原子构成1.1.2 纯度1.1.3 结构1.2 晶体结构1.2.1 单胞的概念1.2.2 三维立方单胞1.2.3 半导体晶格1.2.4 密勒指数1.3 晶体的生长1.3.1 超纯硅的获取1.3.2 单晶硅的形成1.4 小结习题第2章载流子模型2.1 量子化概念2.2 半导体模型2.2.1 价键模型2.2.2 能带模型2.2.3 载流子2.2.4 带隙和材料分类2.3 载流子的特性2.3.1 电荷2.3.2 有效质量2.3.3 本征材料内的载流子数2.3.4 载流子数的控制—掺杂2.3.5 与载流子有关的术语2.4 状态和载流子分布2.4.1 态密度2.4.2 费米分布函数2.4.3 平衡载流子分布2.5 平衡载流子浓度2.5.1 n型和p型的公式2.5.2 n型和p型表达式的变换2.5.3 ni和载流子浓度乘积np2.5.4 电中性关系2.5.5 载流子浓度的计算2.5.6 费米能级EF的确定2.5.7 载流子浓度与温度的关系2.6 小结习题第3章载流子输运3.1 漂移3.1.1 漂移的定义与图像3.1.2 漂移电流3.1.3 迁移率3.1.4 电阻率3.1.5 能带弯曲3.2 扩散3.2.1 扩散的定义与图像3.2.2 热探针测量法3.2.3 扩散和总电流3.2.4 扩散系数与迁移率的关系3.3 复合-产生3.3.1 复合-产生的定义与图像3.3.2 动量分析3.3.3 R-G统计3.3.4 少子寿命3.4 状态方程3.4.1 连续性方程3.4.2 少子的扩散方程3.4.3 问题的简化和解答3.4.4 解答问题3.5 补充的概念3.5.1 扩散长度3.5.2 准费米能级3.6 小结习题第4章器件制备基础4.1 制备过程4.1.1 氧化4.1.2 扩散4.1.3 离子注入4.1.4 光刻4.1.5 薄膜淀积4.1.6 外延4.2 器件制备实例4.2.1 pn结二极管的制备4.2.2 计算机CPU的工艺流程4.3 小结第一部分补充读物和复习可选择的/补充的阅读资料列表图的出处/引用的参考文献术语复习一览表第一部分—复习题和答案第二部分A pn结二极管第5章 pn结的静电特性5.1 前言5.1.1 结的相关术语/理想杂质分布5.1.2 泊松方程5.1.3 定性解5.1.4 内建电势(Vbi)5.1.5 耗尽近似5.2 定量的静电关系式5.2.1 假设和定义5.2.2 V Ac=c0条件下的突变结5.2.3 V A≠0条件下的突变结5.2.4 结果分析5.2.5 线性缓变结5.3 小结习题第6章 pn结二极管:I-V特性6.1 理想二极管方程6.1.1 定性推导6.1.2 定量求解方案6.1.3 严格推导6.1.4 结果分析6.2 与理想情况的偏差6.2.1 理想理论与实验的比较6.2.2 反向偏置的击穿6.2.3 复合-产生电流6.2.4 V A→Vbi时的大电流现象6.3 一些需要特别考虑的因素6.3.1 电荷控制方法6.3.2 窄基区二极管6.4c 小结习题第7章 pn结二极管:小信号导纳7.1 引言7.2 反向偏置结电容7.2.1 基本信息7.2.2 C-V关系7.2.3 参数提取和杂质分布7.2.4 反向偏置电导7.3 正向偏置扩散导纳7.3.1 基本信息7.3.2 导纳关系式7.4 小结习题第8章 pn结二极管:瞬态响应8.1 瞬态关断特性8.1.1 引言8.1.2 定性分析8.1.3 存贮延迟时间8.1.4 总结8.2 瞬态开启特性8.3 小结习题第9章光电二极管9.1 引言9.2 光电探测器9.2.1 pn结光电二极管9.2.2 p-i-n和雪崩光电二极管9.3 太阳能电池9.3.1 太阳能电池基础9.3.2 效率研究9.3.3 太阳能电池工艺9.4 LED9.4.1 概述9.4.2 商用LED9.4.3 LED封装和光输出第二部分B BJT和其他结型器件第10章 BJT 基础知识10.1 基本概念10.2 制备工艺10.3 静电特性10.4 工作原理简介10.5 特性参数10.6 小结习题第11章 BJT静态特性11.1 理想晶体管模型11.1.1 求解方法11.1.2 通用解(W为任意值)11.1.3 简化关系式(WccLB)11.1.4 埃伯斯-莫尔方程和模型11.2 理论和实验的偏差11.2.1 理想特性与实验的比较11.2.2 基区宽度调制11.2.3 穿通11.2.4 雪崩倍增和击穿11.2.5 几何效应11.2.6 复合-产生电流11.2.7 缓变基区11.2.8 品质因素11.3 现代BJT结构11.3.1 多晶硅发射极BJT11.3.2 异质结双极晶体管(HBT)11.4 小结习题第12章 BJT动态响应模型12.1 小信号等效电路12.1.1 普遍的四端模型12.1.2 混合p模型12.2 瞬态(开关)响应12.2.1 定性研究12.2.2 电荷控制关系式12.2.3 定量分析12.2.4 实际的瞬态过程12.3 小结习题第13章 PNPN器件13.1 可控硅整流器(SCR)13.2 SCR工作原理13.3 实际的开/关研究13.3.1 电路工作13.3.2 附加触发机制13.3.3 短路阴极结构13.3.4 di/dt和duc/dt效应13.3.5 触发时间13.3.6 开关的优点/缺点13.4 其他的PNPN器件第14章 MS接触和肖特基二极管14.1 理想的MS接触14.2 肖特基二极管14.2.1 静电特性14.2.2 I-V特性14.2.3 交流响应14.2.4 瞬态响应14.3 实际的MS接触14.3.1 整流接触14.3.2 欧姆接触14.4 小结习题第二部分补充读物和复习可选择的/补充的阅读资料列表图的出处c/c引用的参考文献术语复习一览表第二部分—复习题和答案第三部分场效应器件第15章场效应导言—J-FET和MESFET 15.1 引言15.2 J-FET15.2.1 简介15.2.2 器件工作的定性理论15.2.3 定量的ID-VD关系15.2.4 交流响应15.3 MESFET15.3.1 基础知识15.3.2 短沟效应15.4 小结习题第16章 MOS结构基础16.1 理想MOS结构的定义16.2 静电特性—定性描述16.2.1 图示化辅助描述16.2.2 外加偏置的影响16.3 静电特性—定量公式16.3.1 半导体静电特性的定量描述16.3.2 栅电压关系16.4 电容-电压特性16.4.1 理论和分析16.4.2 计算和测试16.5 小结习题第17章 MOSFET器件基础17.1 工作机理的定性分析17.2 ID-VD特性的定量分析17.2.1 预备知识17.2.2 平方律理论17.2.3 体电荷理论17.2.4 薄层电荷和精确电荷理论17.3 交流响应17.3.1 小信号等效电路17.3.2 截止频率17.3.3 小信号特性17.4 小结习题第18章非理想MOS18.1 金属-半导体功函数差18.2 氧化层电荷18.2.1 引言18.2.2 可动离子18.2.3 固定电荷18.2.4 界面陷阱18.2.5 诱导的电荷18.2.6 芕G总结18.3 MOSFET的阈值设计18.3.1 VT表达式18.3.2 阈值术语和工艺18.3.3 阈值调整18.3.4 背偏置效应18.3.5 阈值总结习题第19章现代场效应管结构19.1 小尺寸效应19.1.1 引言19.1.2 阈值电压改变19.1.3 寄生双极晶体管效应19.1.4 热载流子效应19.2 精选的器件结构概况19.2.1 MOSFET结构19.2.2 MODFET(HEMT)习题第三部分补充读物和复习图的出处/引用的参考文献术语复习一览表第三部分—复习题和答案附录A 量子力学基础附录B 半导体静电特性—精确解附录C MOS C-V补充附录D MOS I-V补充附录E 符号表附录F MATLAB程序源代码。
第二章 半导体物理基础2

1、硅、锗原子的简化模型
• 半导体元素:均为四价元素
半导体结构的描述
• 两种理论体系
– 共价键 结构 – 能级能带 结构
共价键结构(平面图)
2、半导体中的载流子
• 载流子(Carrier) 指半导体结构中获得运动能 量的带电粒子。 • 有温度环境就有载流子。 • 绝对零度(-2730C)时晶体中无自由电子。
• 其中 Pp≈Na(受主杂质浓度)Fra bibliotek得出结论
• 杂质半导体少子浓度 – 主要由本征激发(Ni2)决定的(和温度 有关) • 杂质半导体多子浓度 – 由搀杂浓度决定(是固定的)
2.1.4 半导体中的电流
• 半导体中有 两种电流 – 漂移电流 漂移电流(Drift Current) – 扩散电流(Diffusion Current) 扩散电流(Diffusion
§2.2 PN结与半导体二极管
• PN结是构成半导体器件的 核心结构 核心结构。 • PN结是指使用半导体工艺使N型和P型半导 体 结合处所形成的 特殊结构。 特殊结构 • PN结是半导体器件的 心脏。
2.2.1 PN结的形成
• PN结形成“三步曲 三步曲” 三步曲
(1)多数载流子的 扩散运动 扩散运动。 (2)空间电荷区和少数载流子的 漂移运动 漂移运动。 (3)扩散运动与漂移运动的 动态平衡 动态平衡。
其中 CTO ------外加电压 v=0 时的CT
n ----- 系数(决定于材料的杂质分布,一般取
Vr---- --1/2~1/3)。 PN结内建电压
势垒电容CT原理(图)
(2)扩散电容 CD 扩散电容
• PN结外加正向偏置时,引起 扩散 浓度梯度变化 出现的电容(电荷) 效应。
半导体器件物理 课件 第二章

(e) 曝光后去掉扩散窗口 (f)腐蚀SiO2后的晶片 胶膜的晶片
10
引言
•采用硅平面工艺制备结的主要工艺过程
SiO2
N Si N+
P Si
N+
SiO2
N Si
(g)完成光刻后去胶的晶片
(h)通过扩散(或离子注入)形成 P-N结
金属
金属
P Si N+
SiO2
N Si
P Si
金 属
(2-2-11) (2-2-12)
在注入载流子的区域,假设电中性条件完全得到满足,则少数载流子由于 被中和,不带电,通过扩散运动在电中性区中输运。这称为扩散近似。于 是稳态载流子输运满足扩散方程
。
28
2.3 理想P-N结的直流电流-电压特性
29
2.3 理想P-N结的直流电流-电压特性
理想的P-N结的基本假设及其意义
硅表面二氧化硅薄膜的生长方法: 热氧化和化学气相沉积方法。
5
•
扩散工艺:
•由于热运动,任何物质都有一种从浓度高处向浓度低 处运动,使其趋于均匀的趋势,这种现象称为扩散。 •常用扩散工艺:液态源扩散、片状源扩散、固 -固扩散、 双温区锑扩散。
•液态源扩散工艺:使保护气体(如氮气)通过含有扩 散杂质的液态源,从而携带杂质蒸汽进入高温扩散炉中。 在高温下杂质蒸汽分解,在硅片四周形成饱和蒸汽压, 杂质原子通过硅片表面向内部扩散。 6
102
101
1.0
10
VR ,V
(a)
VR ,V
(b)
图 2-6 耗尽层宽度随外加反偏压变化的实验结果与计算结果 (a) x j
1m 和(b) x j 10 m 10 20 / cm 3
半导体器件基础要点课件

05 半导体器件应用与展望
半导体器件在电子设备中的应用
集成电路
01
半导体器件是集成电路的基础组成部分,用于实现各种逻辑功
能和电路控制。
数字逻辑门
02
半导体器件可以构成各种数字逻辑门,如与门、或门、非门等
,用于实现数字信号的处理和运算。
微处理器和存储器
03
微处理器和存储器是半导体器件的重要应用领域,用于实现计
详细描述
半导体器件可以分为分立器件和集成电路两大类。分立器件 包括二极管、晶体管等,它们主要用于信号放大、转换和控 制。集成电路是将多个器件集成到一个芯片上,实现更复杂 的功能,如运算、存储和处理等。
半导体器件的发展历程
总结词
半导体器件的发展经历了三个阶段,即晶体管的发明、集成电路的诞生和微电子技术的 飞速发展。
包括热导率、热膨胀系数等参数,影 响半导体的散热性能和可靠性。
光学性能
包括能带隙、光吸收系数、光电导率 等参数,影响半导体的光电转换性能 。
03 半导体器件工作原理
PN结的形成与特性
PN结的形成
在半导体中,通过掺杂形成P型和N型半导体,当P型和N型半导体接触时,由 于多数载流子的扩散作用,在接触面形成一个阻挡层,即PN结。
硅基MEMS器件的特点与优势
高度集成
硅基MEMS器件可以在微米尺 度上实现复杂的功能,具有极
高的集成度。
长寿命
硅基材料具有优异的机械性能 和化学稳定性,使得硅基 MEMS器件具有较长的使用寿 命。
低功耗
硅基MEMS器件的功耗较低, 适用于对能源效率要求较高的 应用场景。
可靠性高
硅基MEMS器件的结构简单, 可靠性高,不易出现故障。
半导体基础

1.稳压管的伏安特性
1.3 稳压二极管
2.稳压管的主要参数 1).稳定电压 Uz 2).稳定电流 Iz 4).动态电阻rz
5).温度系数α
3).额定功耗 PZM
1.3 稳压二极管
例: 如图所示是一个简单的并联稳压电路。 R为限流电阻,求 R 上的电压值VR和电流值。
1k + +
Vz 7V
_
Dz
热敏元件、光敏元件
1.1 半导体基础知识
3.杂质半导体 ⑴ N型半导体
在本征半导体中掺入五价 杂质(如磷),则形成N 型半导体,电子为多数载 流子,空穴为少数载流子, 主要依靠电子导电。
1.1 半导体基础知识
3.杂质半导体
⑵ P型半导体
在本征半导体中掺入 三价杂质,则形成P 型半导体,空穴为多 数载流子,电子为少 数载流子,主要依靠 空穴导电。
解:
1.2 半导体二极管
【例1-2】 电路如图所示,二极管导通电压UD~ 0.7V,分别计算开关断开和关闭时输出电压的数值
解:利用压降模型分析电路 开关断开时,输出电压为 U0=V1-UD=6-0.7=5.3V 开关闭合后,二极管外加反 向电压截止,故 输出电压为 V2=12V
1.2 半导体二极管
1.1 半导体基础知识
1.1.2 PN结 1.PN结的形成
空穴电子 浓度差
引起 载流子扩散
空间电荷区 (耗尽层)
平衡 形成PN结
内建电场E 空间电荷区:只有少数载流子,导电性很差,看作绝缘区
1.1 半导体基础知识
PN结形成的动画
1.1 半导体基础知识
2.PN结的单向导电特性 ⑴ PN结加正向电压 ⑵ PN结加反向电压
形成空穴电流
半导体器件物理_2孟庆巨 ppt课件

单晶
有周期性
非晶
无周期性
PPT课件
多晶
每个小区域有周期性
6
3、晶体的结构
1)晶体和晶格:由于构成晶体的粒子的不同性质,使 得其空间的周期性排列也不相同;为了研究晶体的结 构,将构成晶体的粒子抽象为一个点,这样得到的空 间点阵成为晶格。
2)晶体结构与原子结合的形式有关
晶体结合的基本形式:共价结合、离子结合、金属结 合、范德瓦耳斯结合
半导体的基本特性
温度效应-----负温度系数 掺杂效应-----杂质敏感性 光电效应-----光电导 电场、磁场效应
4 PPT课件
常见的半导体材料
5 PPT课件
2、固体的结构
固体从其结构来讲有规则和不规则,如玻璃的结 构则是不规则的,而硅单晶的结构是规则的:
– 按照构成固体的粒子在空间的排列情况,可以将固体分为:
当导体处于热力学温度0K时,导体中没有自 由电子。当温度升高或受到光的照射时,价电 子能量增高,有的价电子可以挣脱原子核的束 缚,而参与导电,成为自由电子。
这一现象称为本征激发,也称热激发。
自由电子产生的同时,在其原来的共价键中 就出现了一个空位,原子的电中性被破坏,呈现 出正电性,其正电量与电子的负电量相等,人们 常称呈现正电性的这个空位为空穴。
• 绝缘体的带隙很大
24 PPT课件
三、半导体中的载流子
半导体中的载流子:能够导电的自由粒子
• 电子:带负电的导电载流子,是价电子脱离原子束 缚后形成的自由电子,对应于导带中占据的电子。
• 空穴:带正电的导电载流子,是价电子脱离原子束 缚后形成的电子空位,对应于价带中的电子空位。
25 PPT课件
(1)电子空穴对
硅原子有:
第二章半导体基本器件

关闭时间 toff(几十到几百纳秒)
41
为TTL电路准备
2.2.4 共集电极电路
特点: 输入电阻很大, 而输出电阻很小 uO≈uI P54-P55
42
2.3 MOS场效应管
MOS场效应管是利用半导体表面的电场效应 来控制输出电流的,输入端不需要供给电流
P型硅片作衬底,表面制作两个N型区,引出源极 (s)和漏极(d),覆盖一层SiO2,在漏源之间绝缘层 上再制作一层金属铝,引出栅极(g),衬底也引出 一个电极B。 金属-氧化物-半导 体场效应管 (Metal-Oxide-
i B U R R b b ( u I u B ) R E b ( 5 0 . 7 ) 2 2 1 A
例:P51
37
uI 周期性矩形脉冲
假设三极管处于饱和状态 U CE U CES0.2V 5
I C U R R C ( U C U C ) R E C S ( 1 0 . 2 2 ) 1 5 1 . 2 0 m
IB 1 225 A 02 .5 mA
IC IB 条件成立 uOUCES0.2V 5
38
例:P51
39
预备知识: PN结正向导通时,P区扩散到N区的空穴,边扩 散,边复合逐渐减少,在N区内产生一定数量的 空穴积累,形成梯度分布;同理, N区的电子 扩散到P区后,也将在P区内产生一定数量的电 子积累。这些扩散到对方区域并积累的电子及 空穴称为存储电荷。
少子的漂移运动,达到动态平衡时,扩散 运动产生的扩散电流和漂移运动产生的漂 移互相抵消,PN结中总的电流为零。
16
4. PN结的单向导电性
①外加正向电压(也叫正向偏置)
外加电场与内电场方向相反,内电场削弱,扩散运 动大大超过漂移运动,N区电子不断扩散到P区,P 区空穴不断扩散到N区,形成较大的正向电流,这 时称PN结处于“导通”状态。
半导体器件基础知识

半导体器件基础知识目录一、半导体器件概述 (2)1.1 半导体的定义与特性 (3)1.2 半导体的分类 (3)1.3 半导体的应用领域 (4)二、半导体器件基础理论 (5)2.1 二极管 (6)2.1.1 二极管的分类与结构 (8)2.1.2 二极管的特性与应用 (9)2.2 晶体管 (10)2.2.1 晶体管的分类与结构 (11)2.2.2 晶体管的特性与应用 (13)2.3 集成电路 (15)2.3.1 集成电路的分类与结构 (16)2.3.2 集成电路的特性与应用 (18)三、半导体器件制造工艺 (19)3.1 晶圆制备 (20)3.2 淀积与光刻 (21)3.3 蚀刻与退火 (22)3.4 封装与测试 (23)四、半导体器件设计 (24)4.1 设计流程与方法 (24)4.2 特征尺寸与制程技术 (25)4.3 低功耗设计 (27)4.4 高性能设计与优化 (28)五、半导体器件测试与可靠性 (29)5.1 测试方法与设备 (30)5.2 可靠性评估与提升 (32)5.3 环境与寿命测试 (33)六、新兴半导体器件与发展趋势 (34)6.1 量子点半导体器件 (36)6.2 纳米半导体器件 (37)6.3 光电半导体器件 (38)6.4 三维集成与先进封装技术 (39)一、半导体器件概述半导体器件是现代电子工业中的核心组件,它们在各种电子设备中发挥着至关重要的作用。
半导体器件基于半导体材料,如硅(Si)和锗(Ge),这些材料的导电性介于导体和绝缘体之间。
通过控制半导体器件中掺杂离子的浓度和类型,可以实现其电学特性的精确调整,从而满足不同电子系统的需求。
半导体器件广泛应用于放大器、振荡器、开关、光电器件、传感器等多种功能模块。
集成电路(IC)是半导体器件的一种重要形式,它将成千上万的半导体器件紧密地封装在一个微小的芯片上,形成了一个高度集成化的电子系统。
集成电路在计算机、手机、汽车电子等领域的应用尤为广泛,极大地推动了信息技术的发展。
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第二章 半导体器件基础
2.1.4 P 型半导体
❖ 在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼(或 铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代, 硼原子的最外层有三个价电子,与相邻的半导体 原子形成共价键时,产生一个空穴。这个空穴可 能吸引束缚电子来填补,使得硼原子成为不能移 动的带负电的离子。由于硼原子接受电子,因此 也称为受主原子。
计算机电路基础
SSPU
第二章 半导体器件基础
第二章 半导体器件基础
学习要点
❖ PN结的形成和单向导电性 ❖ 二极管的伏安特性 ❖ 半导体三极管的基本结构、工作原理 ❖ 三极管的伏安特性 ❖ MOS场效应管的结构、工作原理和伏安特性曲线 ❖ 结型场效应管的结构、工作原理和伏安特性曲线
第二章 半导体器件基础
硅和锗的 晶体结构
第二章 半导体器件基础
共价键结构、自由电子、空穴
硅和锗的共价键结构
+4表示 除去价电 子后的原
子
+4
+4
+4
+4
共价键共 用电子对
形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,构成稳定结 构。共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。
第二章 半导体器件基础
共价键结构、自由电子、空穴
常用于检测温度的变化。 对其他工作性能有不利的影响。
2. 光敏性:在无光照时电阻率很高,但一有光照电阻率则
显著下降。 利用这个特性可以制成光敏元件。
3. 杂敏性:在纯净的半导体中加入杂质,导电能力猛增几
万倍至百万倍。
利用这个特性可以制造出具有不同性能用途的半 导体器件。
第二章 半导体器件基础
2.1.2 本征半导体 一、本征半导体的结构特点
第2章 半导体器件基础
2.1 半导体基础知识 2.2 PN结与半导体二极管 2.3 半导体三极管 2.4 场效应管 退出
第二章 半导体器件基础
2.1 半导体基础知识
2.1.1 半导体及其特点 2.1.2 本征半导体 2.1.3 N型半导体 2.1.4 P型半导体 退出
第二章 半导体器件基础
2.1.1 半导体及其特点
❖ 本征半导体中存在数量相等的两种载流子,即自 由电子和空穴。空穴带正电,运动相当于正电荷 的运动。
第二章 半导体器件基础
本征半导体的导电机理
+4
+4
+4
+4
在其它力的作用下, 空穴吸引附近的电子 来填补,这样的结果 相当于空穴的迁移, 而空穴的迁移相当于 正电荷的移动,因此 可以认为空穴是载流 子。
第二章 半导体器件基础
杂质原子提供的多 余电子
杂质原子失去一个 电子成为正离子
N型半导体的共价键结构
第二章 半导体器件基础
N 型半导体中的载流子是什么?
因为掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度, 所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。
自由电子称为多数载流子(多子) 空穴称为少数载流子(少子)。
第二章 半导体器件基础
2.2 PN结与半导体二极管
2.2.1 PN结的形成 2.2.2 PN结的单向导电性 2.2.3 PN结电容 2.2.4 二极管的基本结构 2.2.5 二极管的伏安特性 2.2.6 二极管的主要参数 2.2.7 二极管的等效电路及应用 2.2.8 特种二极管
第二章 半导体器件基础
现代电子学中用的最多的半导体是硅和锗,它 们的最外层电子(价电子)都是四个。
Ge
Si
通过一定的工艺可以将半导体制成晶体。
第二章 半导体器件基础
本征半导体
本征半导体:完全纯净的、结构完整的半导体晶体。 在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成晶体
点阵,每个原子都处在正四面体的中心,而四个其 它原子位于四面体的顶点,每个原子与其相临的原 子之间形成共价键,共用一对价电子。
❖ 载流子的漂移运动和扩散运动。 ❖ 漂移运动:
在电场力的作用下,半导体中的载流子产生 定向运动。形成的电流叫漂移电流。电场越强, 载流子漂移速度越高;载流子的浓度越大,参与 漂移运动的载流子数目越多,漂移电流就越大。 ❖ 扩散运动:
❖ 根据加入的杂质不同可以分为N型半导体和P型半 导体。
第二章 半导体器件基础
2.1.3 N 型半导体
在硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷(或 锑),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代, 磷原子的最外层有五个价电子,其中四个与相邻的 半导体原子形成共价键,必定多出一个电子,这个 电子几乎不受束缚,很容易被激发而成为自由电子, 这样磷原子就成了不能移动的带正电的离子。每个 磷原子给出一个电子,因此也称为施主原子。
共价键
共有价电子所形 成的束缚作用
由于热激发而 产生的自由电子
自由电子移走后 而留下的空穴
第二章 半导体器件基础
❖ 共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称 为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成 为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少, 所以本征半导体的导电能力很弱。
❖ 在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够 的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同 时共价键上留下一个空位,称为空穴。
第二章 半导体器件基础
❖ 本征半导体的载流子浓度受温度的影响很大,是 影响半导体导电性能的重要因素。
❖ 在本征半导体中有电子和空穴2种载流子,而金属 导体中只有电子一种载流子,但在本征半导体中 载流子的浓度远远低于后者,所以导电能力不如 金属。
第二章 半导体器件基础
❖ 杂质半导体:在纯净的半导体单晶体中有选择地 掺入微量杂质元素,并控制掺入的杂质元素 的种 类和数量。 杂质可以提高半导体的导电能力,并可以精准的 控制半导体的导电能力。
导体、半导体和绝缘体
导体:自然界中很容易导电的物质称为导体,金属 一般都是导体。
绝缘体:有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡 皮、陶瓷、塑料和石英。
半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘 体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓 和一些硫化物、氧化物等。
第二章 半导体器件基础
硅、锗等半导体材料之所以得到广泛的应用,主要 是因为它们的导电能力具有一些特殊的方面。 1. 热敏性:半导体的电阻率随温度升高而显著减小。
第二章 半导体器件基础
邻近电子只空位留 下可移动空穴 可移动的空穴 杂质原电子接受一 个电子成为负离子
P型半导体的共价键结构
第二章 半导体器件基础
P 型半导体中的载流子是什么?
P 型半导体中空穴是多子,电子是少子。 杂质型半导体多子和少子的移动都能形成电流。
但由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。 近似认为多子与杂质浓度相等。