磁控溅射技术及其发展
磁控溅射的原理及应用
磁控溅射的原理及应用1. 什么是磁控溅射磁控溅射是一种常用的薄膜沉积技术，通过利用磁场将材料原子或离子从靶材表面释放出来，形成一个薄膜层，沉积在基底表面上的一种方法。
这种方法可以在真空环境中进行，可以用于各种材料包括金属、合金、氧化物等。
2. 磁控溅射的原理磁控溅射的原理基于带电粒子在磁场中的运动规律。
溅射系统通常由一个靶材和一个基底组成，它们被放置在真空室中。
磁控溅射的过程包括以下几个步骤：1.靶材表面被离子轰击，其中的原子或离子被释放出来。
2.磁场控制离子在真空室中的运动轨迹。
3.基底表面上的原子或离子吸附并形成一个薄膜层。
这个过程中，磁场是十分重要的。
磁场会引导离子沿着特定的轨迹运动，使得离子沉积在基底的特定位置上。
磁场还可以控制离子的能量和方向，从而影响薄膜的性质和微结构。
3. 磁控溅射的应用磁控溅射是一种多功能的薄膜沉积技术，广泛应用于各种领域。
3.1 表面涂层磁控溅射可以用于向基底表面沉积各种薄膜层。
这些薄膜层可以具有不同的功能，如防腐、耐磨、导电等。
它们可以用于改善材料的性能和外观。
3.2 光学薄膜磁控溅射可以制备高质量的光学薄膜。
这些薄膜可以应用于光学器件，如镜片、滤光片、反射镜等。
因为磁控溅射是在真空环境中进行的，所以这些光学薄膜可以具有良好的光学性能。
3.3 金属薄膜磁控溅射可以制备金属薄膜。
这些薄膜可以具有高导电性和优良的机械性能，可用于电子器件、导电材料等领域。
3.4 磁性材料磁控溅射还可以制备磁性材料薄膜。
这些薄膜可以具有特定的磁性性能，如高矫顽力、高饱和磁感应强度等。
它们可以应用于磁存储器件、传感器等领域。
4. 总结磁控溅射是一种重要的薄膜沉积技术，通过利用磁场控制离子运动和沉积位置，可以制备各种功能薄膜。
它在表面涂层、光学薄膜、金属薄膜和磁性材料等领域有着广泛的应用。
磁控溅射技术的发展，为材料科学和工程领域提供了新的可能性，为各种应用提供了高性能的薄膜材料。
磁控溅射镀膜
磁控溅射镀膜磁控溅射镀膜是一种应用于材料表面改性的先进技术。
它利用准分子束磁控溅射设备，通过电弧、离子束或电子束的能量作用于目标材料，使其产生高温、高压等物理、化学效应，从而实现材料表面镀膜的目的。
本文将从磁控溅射镀膜的基本原理、应用领域、优势和不足以及发展前景等方面进行详细介绍，旨在全面了解磁控溅射镀膜技术的特点及其在现代工业中的应用。
1. 磁控溅射镀膜的基本原理磁控溅射镀膜技术是将所需镀层物质以固体靶材的形式放在装备中的靶极，利用外加的电场、磁场或离子束等等，使得靶材产生某种运动状态，随后可以将靶面上的物质溅射出来，沉积在基材表面，形成薄膜。
其中磁场的作用是将靶材中被离子轰击的金属离子引导回到靶材中心，以增加溅射效率。
2. 磁控溅射镀膜的应用领域磁控溅射镀膜技术广泛应用于许多工业领域，如电子、光学、太阳能电池、柔性电子器件、集成电路、玻璃制造等。
在电子领域，磁控溅射镀膜技术可用于制备薄膜晶体管，提高电子器件的性能和稳定性。
在光学领域，磁控溅射镀膜技术可制备高反射率、低反射率和色分离膜等光学薄膜。
在太阳能电池领域，磁控溅射镀膜技术可用于制备光学膜和透明导电膜。
在柔性电子器件领域，磁控溅射镀膜技术可用于制备导电薄膜和保护膜。
3. 磁控溅射镀膜的优势和不足磁控溅射镀膜技术具有许多优势。
首先，其产生的薄膜具有高质量、高致密性和良好的附着力。
其次，磁控溅射镀膜过程中无需加热基材，可避免基材变形和热损伤。
此外，磁控溅射镀膜技术具有膜层成分可调、薄膜复杂结构可控等特点。
然而，磁控溅射镀膜技术也存在不足之处。
一方面，磁控溅射镀膜设备体积较大、成本较高，且对真空度要求较高。
另一方面，由于目前磁控溅射镀膜技术仍处于发展阶段，其在大尺寸薄膜制备和高速镀膜方面还存在一定限制。
4. 磁控溅射镀膜的未来发展随着科学技术的不断进步，磁控溅射镀膜技术将进一步得到发展和完善。
一方面，磁控溅射镀膜技术将在薄膜成分调控和复杂结构薄膜制备方面取得更大突破，以满足不同行业对薄膜材料的需求。
热处理中的磁控溅射热处理技术
热处理中的磁控溅射热处理技术热处理是金属材料加工过程中不可或缺的工艺之一，是通过对金属材料进行加热、保温和冷却等一系列处理工艺，以调整其组织结构、提高其性能和延长其使用寿命的过程。
磁控溅射热处理技术则是热处理中的一种新兴技术，它通过特殊的溅射工艺，使金属材料表面形成一层具有特殊性能的薄膜，以改善其表面性能和克服其表面缺陷，从而提高工件的整体品质和使用寿命。
一、磁控溅射热处理技术的基本原理磁控溅射热处理技术是一种利用磁控溅射物质在真空中沉积在基底上形成薄膜的技术。
它的基本原理是通过在真空环境中，将高能量的离子束轰击靶材表面，使其离子化并沉积在基底上，从而形成一层均匀、致密的薄膜。
在磁控溅射热处理中，靶材是通过磁控溅射源（也叫做离子源）中的电子束或离子束进行溅射的。
一旦这些束照射到靶材上，就会产生大量的离子和原子，这些离子和原子通过真空被轰击到工件的表面上，形成一层具有特殊性能的薄膜。
二、磁控溅射热处理技术在金属材料中的应用磁控溅射热处理技术在金属材料中的应用非常广泛，主要体现在以下几个方面：1、表面强化处理：由于磁控溅射薄膜具有非常高的耐腐蚀性、耐磨性和耐热性等特点，在金属材料表面形成一层磁控溅射薄膜能够有效的提高其表面硬度和耐腐蚀性，从而延长金属材料的使用寿命。
2、强化焊接接头：磁控溅射技术还可以用于强化焊接接头，主要是通过在接头表面形成一层磁控溅射薄膜，从而改善焊接接头的力学性能和耐久性能。
在新能源汽车、航空航天、冶金等领域中的部分关键零部件都采用磁控溅射技术进行强化处理。
3、周期性复合薄膜：磁控溅射薄膜具有非常高的复合性能，能够形成优异的界面结构和相互补偿的性能，因此，在制备具有周期性复合结构薄膜方面有着卓越的应用前途。
例如，刀具表面复合结构膜制备、切削刃合金粉末材料复合表面膜制备等都运用到了磁控溅射技术。
三、磁控溅射热处理技术的优势与展望作为金属材料加工中的一种新兴技术，磁控溅射热处理技术拥有诸多优势，如下：1、非常适合高温材料的制备，例如Co-Ni-Cr-W-Al-Y的高温合金材料。
磁控溅射技术及其发展
度 ， 改善膜 层 的结 构 和 性 能 ， 来 但在 很 多 的情 况 下 ，
工 件材 料本 身不 能 承受 所需 的高 温 ， 就需 要 继 续 这
溅 射镀 膜 的产业 化 ， 随后 便 出现 了三 级 溅射 和磁 控
溅射。 ３ １ 平衡磁 控溅 射技 术 ．
磁控 溅射 最典 型 的特点 就是 在溅 射过 程 中基 板 温升 低 和能实 现“ 高速 ” 溅射 。溅 射产 生二 次 电子被
加速 为 高能 电子后 ， 在正 交磁 场作 用下 作摆 线运 动 ，
不断 与气 体分 子发 生碰 撞 ， 能量 传递 给气 体分 子 ， 把 本身 变 为低 能 粒 子 ， 就 不 会 使 基 板 过 热 ［ 还 有 也 １ 妇；
平 衡 磁控 溅 射 即传 统 的 磁控 溅 射 ， 在 直 流二 是 级 溅射 的基 础上 发展起 来 的 。在 阴极 靶材 背后 放置 永 磁体 或 电磁线 圈 ， 靶 材 表 面形 成 与 电场方 向垂 在
ｍ ａ ｎｅ ｒ ｎ ｓ ｕｔ ｅ ｉ ｇ ｔ ｏ ｐ ｔ ｒｎｇ
摘要 ： 控溅射技术可制备超硬膜 、 腐蚀摩擦 薄膜 、 导 薄膜 、 性 薄膜 、 学 薄膜 ， 及各种 具有 特殊功 能的薄膜 ， 磁 耐 超 磁 光 以 在 工 业 薄 膜 制 备 领 域 的应 用 非 常 广 泛 。本 文 着 重 介 绍 了磁 控 溅 射 技 术原 理 、 点 、 控 溅 射 技 术 的发 展 史 及 其 发 展 趋 势 。 特 磁 关 键 词 ： 膜 制 备 ； 控 溅 射 ； 衡 磁 控 溅 射 ； 平 衡 磁 控 溅 射 薄 磁 平 非
因Ｅ３ １ 。溅 射速 率高 是 因为二 次 电子 作 摆 线运 动 ， ２ 要 经过 上百 米 的飞行 才最 终 被 阳极 吸 收［ 而气 压 为 １ ，
磁控溅射技术研究进展
磁控溅射技术研究进展薄膜技术不仅可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，还能满足特殊使用条件和功能对新材料的要求。
磁控溅射技术具有溅射率高、基片温升低、膜基结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点，因此，被认为是镀膜技术中最具发展前景的一项新技术，同时也成为镀膜工业应用领域（特别是建筑镀膜玻璃、透明导电膜玻璃、柔性基材卷绕镀等对大面积的均匀性有特别苛刻要求的连续镀膜场合）的首选方案[1-8]。
1 磁控溅射技术原理溅射是指具有一定能量的粒子轰击固体表面，使得固体分子或原子离开固体从表面射出的现象。
溅射镀膜是指利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。
磁控溅射是在辉光放电的两极之间引入磁场，电子受电场加速作用的同时受到磁场的束缚作用，运动轨迹成摆线增加了电子和带电粒子以及气体分子相碰撞的几率，提高了气体的离化率，降低了工作气压。
而Ar＋离子在高压电场加速作用下与靶材撞击，并释放能量使靶材表面的靶原子逸出靶材，飞向基板并沉积在基板上形成薄膜。
图1所示为平面圆形靶磁控溅射原理。
磁控溅射技术得以广泛的应用是由该技术的特点所决定的。
可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料，包括各种金属、半导体、铁磁材料、以及绝缘的氧化物陶瓷、聚合物等物质。
磁控溅射可制备多种薄膜不同功能的薄膜，还可沉积组分混合的混合物化合物薄膜。
在溅射过程中基板温升低和能实现高速溅射，溅射产生二次电子被加速为高能电子后，在正交磁场作用下作摆线运动，不断与气体分子发生碰撞，把能量传递给气体分子本身变为低能粒子也就不会使基板过热。
随着磁控溅射技术的发展，发展起了反应磁控溅射，非平衡磁控溅射，高功率脉冲磁控溅射等新技术，下面将一一介绍。
2 磁控溅射技术发展2.1 反应磁控溅射随着表面技术的发展化合物薄膜得到了广泛的应用，反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一（沉积多元成分的化合物薄膜）。
磁控溅射技术进展及应用
摘要：近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。
随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。
本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点,阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。
关键词：磁控管溅射率非平衡磁控溅射闭合场非平衡磁控溅射自溅射引言磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法,被普遍和成功地应用于许多方面1～8,特别是在微电子、光学薄膜和材料表面处理领域中,用于薄膜沉积和表面覆盖层制备。
1852年Grove首次描述溅射这种物理现象,20世纪40年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展。
60年代后随着半导体工业的迅速崛起,这种技术在集成电路生产工艺中,用于沉积集成电路中晶体管的金属电极层,才真正得以普及和广泛的应用。
磁控溅射技术出现和发展,以及80年代用于制作CD的反射层之后,磁控溅射技术应用的领域得到极大地扩展,逐步成为制造许多产品的一种常用手段,并在最近十几年,发展出一系列新的溅射技术。
一、磁控溅射镀膜原理及其特点1.1、磁控溅射沉积镀膜机理磁控溅射系统是在基本的二极溅射系统发展而来,解决二极溅射镀膜速度比蒸镀慢很多、等离子体的离化率低和基片的热效应明显的问题。
磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入011～10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体。
在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子,产生等离子辉光放电,电子在加速飞向基片的过程中,受到垂直于电场的磁场影响,使电子产生偏转,被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,在运动过程中不断与Ar原子发生碰撞,电离出大量的Ar+离子,与没有磁控管的结构的溅射相比,离化率迅速增加10～100倍,因此该区域内等离子体密度很高。
磁控溅射技术及其应用
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三、磁控溅射镀膜技术发展
3、反应磁控溅射技术
• 靶中毒：迟滞现象使反应气体与靶材作用生成的化合物覆盖在靶材表面，积 累大量的正电荷无法中和，在靶材表面建立越来越高的正电位，阴极位降区 的电位随之降低，最终阴极位降区电位降减小到零，放电熄灭，溅射停止， 这种现象称为靶中毒。 • 打弧：当靶材表面化合物层电位足够高时，进而发生击穿，巨大的电流流过 击穿点，形成弧光放电，导致局部靶面瞬间被加热到很高的温度，发生喷射
可以制备成靶材。磁控溅射镀膜在相互垂直的磁场和电场的双重作用
下,沉积速度快,膜层致密且与基片附着性好,非常适合于大批量且高 效率的工业化生产。
二、磁控溅射镀膜技术原理
2、磁控溅射技术
• 磁控溅射的工作原理是在辉光放电 的两极之间引入磁场，电子受电场 加速作用的同时受到磁场的束缚作 用，运动轨迹成摆线，增加了电子
三、磁控溅射镀膜技术发展
5、脉冲磁控溅射技术
• 脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源
代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲
磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而 消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅 射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优
点。
• 脉冲可分为双向脉冲和单向脉冲。双向脉冲 在一个周期内存在正电压和负电压两个阶段 ，在负电压段，电源工作于靶材的溅射，正
射的同时，阳极靶完成表面清洁，
如此周期性地变换磁控靶极性，就 产生了“自清洁”效应。
四、磁控溅射镀膜技术的发展
6、磁控溅射新发展
•
高速溅射：高速溅射能够实现高速率沉积，可以缩短溅射镀膜的时间，提高 工业生产的效率；有可能替代目前对环境有污染的电镀工艺。
•
自溅射：当溅射率非常高，以至于在完全没有惰性气体的情况下也能维持放 电，即是仅用离化的被溅射材料的蒸汽来维持放电，这种磁控溅射被称为自 溅射。被溅射材料的离子化以及减少甚至取消惰性气体，会明显地影响薄膜 形成的机制，加强沉积薄膜过程中合金化和化合物形成中的化学反应。由此 可能制备出新的薄膜材料，发展新的溅射技术，例如在深孔底部自溅射沉积 薄膜。
磁控溅射镀膜技术的研究进展
磁控溅射镀膜技术的研究进展磁控溅射镀膜技术是一种常见的表面处理技术，它可以在各种基材表面制备出具有特殊性能的薄膜层。
随着技术的不断发展，在材料的选择、制备工艺、表面状态分析等方面都有所进步，使得磁控溅射镀膜技术在科学研究和实际应用中发挥着重要作用。
一、磁控溅射镀膜技术的基本原理磁控溅射镀膜技术基于靶材发射金属离子的原理，通过高能离子轰击固体靶材表面，使得金属离子从靶材表面脱离并沉积在基材表面上，从而形成具有一定厚度和化学组成的功能性膜层。
这种技术的独特之处在于可以通过控制靶材的化学成分和溅射工艺参数来调控薄膜层的结构和性能。
其中，靶材的化学成分直接影响薄膜层的组成，而溅射工艺参数如气压、功率、溅射气体种类和气体流量等则直接影响溅射速率和膜层的质量。
二、材料选择与制备工艺磁控溅射镀膜技术广泛用于各种材料的制备，包括金属、合金、氧化物、硅类材料以及半导体材料等。
对于不同的材料，其制备工艺也有所不同。
金属材料通常采用单一金属靶材或合金靶材进行制备，而合金靶材的组成比例可以通过调整靶材的制备工艺来实现。
氧化物材料则需要先将靶材还原成金属或合金形态，然后利用气氛调节技术调节气氛中氧气含量来制备氧化物膜层。
在制备工艺方面，需要进行适当的气氛调节和工艺优化。
例如，在制备合金材料时，需要考虑合金靶材的制备过程中的变形问题，找到合适的制备参数来保证靶材的均匀溅射和膜层的均匀沉积。
三、表面状态分析磁控溅射镀膜技术制备出的膜层常常需要通过表面状态分析来控制其性能，最常用的分析方法是X射线衍射和扫描电镜技术。
X射线衍射技术可以用于分析膜层的结晶性、晶格参数和晶胞结构等信息，从而定量描述膜层的结构和性能。
而扫描电镜技术则可以提供更丰富和直观的表面形貌信息，包括表面粗糙度、形貌变化和结构特征等。
此外，还有一些其他的表面分析技术如原子力显微镜、能量散射光谱和X射线光电子能谱等，可以用于全面分析膜层的属性和性能。
四、应用前景磁控溅射镀膜技术在各种领域都得到了广泛应用，在新能源、医疗、航空航天等高科技产业中有着重要的地位。
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万方数据万方数据万方数据万方数据万方数据万方数据磁控溅射技术及其发展作者：李芬， 朱颖， 李刘合， 卢求元， 朱剑豪， LI Fen， ZHU Ying， LI Liu-he， Lu Qiu-yuan， ZHU Jian-hao作者单位：李芬,朱颖,李刘合,LI Fen,ZHU Ying,LI Liu-he(北京航空航天大学,机械工程及自动化学院,北京,100191)， 卢求元,朱剑豪,Lu Qiu-yuan,ZHU Jian-hao(香港城市大学,应用物理及材料系,香港)刊名：真空电子技术英文刊名：VACUUM ELECTRONICS年，卷(期)：2011(3)被引用次数：53次1.贾嘉溅射法制备纳米薄膜材料及进展[期刊论文]-半导体技术 2004(7)2.王银川真空镀膜技术的现状及发展[期刊论文]-现代仪器 2000(6)3.吴大维,曾昭元,刘传胜,张友珍,彭友贵,范湘军高速钢镀氮化碳超硬涂层及其应用研究[期刊论文]-核技术2003(4)4.孙银洁,马林,齐宏进磁控溅射法制备防水透湿织物[期刊论文]-高分子材料科学与工程 2003(4)5.王合英,孙文博,陈宜宝,何元金磁控溅射镀膜过程中非均匀磁场中电子的运动[期刊论文]-物理实验 2008(11)6.闫绍峰,骆红,廖国进,巴德纯,闻立时掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al2O3：Ce3+薄膜发光性能的影响[期刊论文]-真空 2009(2)7.贾芳,乔学亮,陈建国,李世涛,王国锋磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电膜的性能研究[期刊论文]-光电工程2007(12)8.方亮,彭丽萍,杨小飞,黄秋柳,周科,吴芳,刘高斌,马勇磁控溅射制备In掺杂ZnO薄膜及NO2气敏特性分析[期刊论文]-重庆大学学报（自然科学版） 2009(9)9.林东洋,赵玉涛,甘俊旗,程晓农,戴起勋钛合金表面磁控溅射制备HA/YSZ梯度涂层[期刊论文]-材料工程 2008(5)10.Brauer G;Szyszka B;Vergohl M Magnetron Sputtering-Milestones of 30 Years 201011.戴达煌;刘敏;余志明薄膜与涂层现代表面技术 200812.赵嘉学,童洪辉磁控溅射原理的深入探讨[期刊论文]-真空 2004(4)13.郭明,王凤杰调整磁场强度分布提高靶材利用率[期刊论文]-玻璃 2003(3)14.刘翔宇,赵来,许生,范垂祯,查良镇磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计[期刊论文]-真空 2003(4)15.常天海高磁场强度的矩形平面磁控溅射靶的设计[期刊论文]-真空与低温 2003(1)16.徐万劲磁控溅射技术进展及应用（下）[期刊论文]-现代仪器 2005(6)17.李德元;赵文珍;董晓强等离子体技术在材料加工中的应用(第1版) 200518.徐万劲磁控溅射技术进展及应用（上）[期刊论文]-现代仪器 2005(5)19.Window B;Savvides N Unbalanced DC Magnetrons as Sources of High Ion Fluxes 1986(2A)20.Savvides N;Window B Unbalanced Magnetron IonAssisted Deposition and Property Modification of Thin Films 1986(2A)21.许生,侯晓波,范垂祯,赵来,周海军,吴克坚,高文波,颜远全,查良镇硅靶中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的特性研究[期刊论文]-真空 2001(5)22.W. D. Sproul High-rate reactive DC magnetron sputtering of oxide and nitride superlattice coatings[外文期刊] 1998(4)23.Heister U;Krempel-Hesse J;Szczyrbowski J TwinMag II:Improving an Advanced Sputtering Tool 200024.Belkind;Freilich A;Song G Mid-Frequency Reactive Sputtering of Dielectrics:Al《'2》O《'3》 200325.赵印中,王洁冰,邱家稳,许旻,李强勇用交流孪生靶磁控反应溅射法制备ITO薄膜[期刊论文]-真空与低温2003(1)26.P. J. Kelly;J. Hisek;Y. Zhou Advanced coatings through pulsed magnetron sputtering[外文期刊] 2004(3)27.余东海,王成勇,成晓玲,宋月贤磁控溅射镀膜技术的发展[期刊论文]-真空 2009(2)28.Boo Jin-Hyo;Jung Min Jae;Park Heon Kyu High-Rate Deposition of Copper Thin Films Using Newly Designed High-Power Magnetron Sputtering Source 200429.Musil J;Vlcek J A Perspective of Magnetron Sputtering in Surface Engineering 199930.Kouznetsov Vladimir;Macak Karol;Schneider Jochen M A Novel Pulsed Magnetron Sputter Technique Utilizing Very High Target Power Densities 199931.吴忠振,朱宗涛,巩春志,田修波,杨士勤,李希平高功率脉冲磁控溅射技术的发展与研究[期刊论文]-真空2009(3)32.Ehiasarian A P;New R;Munz W D Influence of High Power Densities on the Composition of Pulsed Magnetron Plasmas 20021.王怀义.刁训刚.王聪.郝维昌.王天民.WANG Huai-yi.DIAO Xun-gang.WANG Cong.HAO Wei-chang.WANG Tian-min 一种增磁装置在磁控射频溅射制备薄膜中的应用[期刊论文]-功能材料与器件学报2011,17(3)2.林东洋.赵玉涛.张钊用磁控溅射技术制备钛合金表面HA生物涂层[期刊论文]-生物骨科材料与临床研究2004,1(5)3.钟江泉.周天勇.刘威明非平衡磁控溅射技术在刀具涂层上的应用[期刊论文]-技术与市场2011,18(5)4.丁娟.赵韦人.符史流.於元炯.DING Juan.ZHAO Wei-ren.FU Shi-liu.YU Yuan-jiong Ni52Mn26Ga22薄膜的马氏体相变和磁电阻[期刊论文]-金属功能材料2006,13(3)5.赵新民.狄国庆.朱炎外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响[期刊论文]-真空科学与技术学报2003,23(2)6.王佐平.邢建东.胡奈赛.王伟.WANG Zuoping.XING Jiandong.HU Naisai.WANG Wei金属基类石墨复合膜微观组织结构分析[期刊论文]-热加工工艺2010,39(16)7.常立红能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其性能研究[学位论文]20108.凌国伟.倪翰.萧域星磁控溅射技术的新进展[会议论文]-19981.张岿溅射制备材料的机理分析[期刊论文]-今日湖北（中旬刊） 2015(03)2.孙天乐脉冲磁控溅射电源关键技术研究[学位论文]硕士 20143.宁波磁控溅射电源控制系统的研究与设计[学位论文]硕士 20144.黄英,韩晶雪,李建军,常亮,张以忱直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响[期刊论文]-真空 2013(03)5.王德山类金刚石碳膜磁控溅射抗剥离结合强度的实验研究[期刊论文]-廊坊师范学院学报（自然科学版）2014(06)6.马景灵,任风章,孙浩亮磁控溅射镀膜技术的发展及应用[期刊论文]-中国科教创新导刊 2013(29)7.朱明海,陈广彬,冯禹,龚楠,汪剑波磁控溅射制备Ti-Zn-O复合薄膜及其光学性质研究[期刊论文]-长春理工大学学报（自然科学版） 2014(01)8.臧侃,董华军,郭方准国产氩离子枪的研发[期刊论文]-物理 2014(01)9.崔世宇,缪强,梁文萍,徐一,杨晶晶,张志刚Ti2AlNb基合金表面磁控溅射Al/Al2O3薄膜及扩散处理对其抗高温氧化性能的影响[期刊论文]-材料保护 2015(02)10.凤权,华谦,武丁胜,马坤强,苏信基于磁控溅射技术的非织造空气过滤材料的制备及性能研究[期刊论文]-产业用纺织品 2015(01)11.张锋,翟建广,梁志敏,王广卉类金刚石薄膜电极在污水处理中的应用[期刊论文]-上海工程技术大学学报2013(04)12.孙敏制备工艺对SiO2/PET复合包装膜结合强度的影响[学位论文]硕士 201313.武世祥NiFe薄膜各向异性磁电阻研究[学位论文]硕士 201414.何光宇,李应红,柴艳,张翼飞,王冠航空发动机压气机叶片砂尘冲蚀防护涂层关键问题综述[期刊论文]-航空学报 2015(06)15.陈庆明可控光流体热透镜[学位论文]硕士 201416.黄世龙基于6sigma的F公司PVD颜色稳定性改善研究[学位论文]硕士 201217.周一帆微Schwarzschild物镜的设计与MEMS制作研究[学位论文]博士 2013引用本文格式：李芬.朱颖.李刘合.卢求元.朱剑豪.LI Fen.ZHU Ying.LI Liu-he.Lu Qiu-yuan.ZHU Jian-hao磁控溅射技术及其发展[期刊论文]-真空电子技术 2011(3)。