晶体生长第五章 成核(晶体生长热力学)
第5章晶体生长动力学

邻位面、光滑界面、粗糙界面的生长机制以 及界面动力学规律;
再应用所得结果说明几个有关晶体形态学的 问题
§5.1 邻位面的生长 ——台阶动力学与运动学
邻位面的生长 即台阶在光滑面上的移动问题
一、界面上分子的位能
1.位能的分析
研究对象:简立方 {100}面 假设: 最近邻键交互作用能 21
= nso/s-ns /s
= nso/s- snso /s
= (- s)nso/s
= nso/s
(8)
稳定态下:
dns 0 实际面吸附浓度不随时间而变 dt
dns dt
jv
djs dy
0
(9) 连续性方程
(7) 、(8)代入(9),并考虑到: Xs2 = s·Ds 可得:
X
2 s
d 2
dy 2
(10)
面扩散方程
它的通解为:
Ae y / xs Be y / xs
(11)
它决定了稳定态下面吸附分子的浓度分布。
设:Xs>>X0, 每个分子的在再次蒸发前,达到扭折的 几率很高,靠近台阶附近有s =0,而远离台阶处s = ,边条件为:
41+122
61+122 lsf = W4
相变潜热lef
W4 = lsf
界面上不同位置的分子位能如右示意图5.1.2
单个分子的相变潜热lef与Ws、Wk 之间满足如下关系:
lsf = Ws + Wk
(1)
图5.1.2 界面上不同位置的势能曲线
图5.1.1
动力学(Δg)角度看,扭折位置上的分子有下列三 种情况:
由爱因斯坦公式:Xs2=sDs
v1 vo, 可得:
晶体的生长机理和控制方法

晶体的生长机理和控制方法晶体是由原子或分子有序排列而形成的有规律的固体结构,广泛应用于化学、生物、材料、电子等领域。
晶体的生长是指通过物质的凝聚和有序排列形成完整晶体过程,其机理和控制方法也是学术和实践上重要的问题。
一、晶体的生长机理晶体的生长机理涉及到热力学、动力学、热传导、质量传输、界面化学等多个方面。
其中主要包括以下几个方面的内容:1.核化与成核:在过饱和度条件下,原料分子集聚形成的不稳定凝聚体称为临界核(nucleus),成核的速度与临界尺寸大小有关。
过大的临界尺寸会影响成核速度,过小则会限制晶体成长速率。
2.晶面生长与形核模式选择:晶体在生长过程中受到的外界环境和晶面热力势能的作用,会直接影响晶面造型和选择。
这也是研究晶体形貌和遗传的主要内容之一。
3.晶体成长速率:晶体生长速度受到物理、化学作用力和传质速率等影响,是一种非平稳过程。
晶面生长速率与色散系数、溶解度、传质系数等有关。
二、晶体的控制方法晶体的生长速率和生长状态的控制及调控,是晶体工艺和材料战略发展的主要研究方向之一。
以下是几种晶体生长控制方法的介绍:1.温度差控制法:是利用温度差异控制晶体生长速率和生长方向的一种方法。
在对称的两侧,控制温差形成温差层,从而调控晶体生长位置和速率。
2.流速控制法:流体在晶体表面的流动速度对晶体生长状态有明显影响。
通过调节流体流速来控制晶体生长速率和晶体形态。
3.添加控制剂:控制剂可以影响过饱和度和晶体成核速度。
通过添加控制剂来调节晶体的生长速率和生长方向。
4.电化学控制法:利用电场、电位或电流等电学性质,在晶体生长过程中对物质传输和物种吸附等过程进行有针对性的调节。
以上方法仅是晶体生长控制的概述,实际上还有其他方法,如冷却速率、溶液浓度、晶体取向控制等,具体选择方法还要根据晶体特性和工艺需求。
三、晶体的应用前景晶体作为一种重要的结晶材料,其应用领域广泛,包括但不限于以下几个方面:1.半导体电子学:从硅基结晶到磷化镓、硅锗合金、氧化锌等,晶体在电子学领域的应用尤为广泛,几乎所有电子器件都将其诞生地定义为晶体管!2.磁性材料:铁、钴、镍等金属的磁性,体现在固体晶体中体现出来。
晶体生长过程中的热力学规律

晶体生长过程中的热力学规律晶体是一种固态物质,在自然界中广泛存在,对于人类生产和生活具有重要的意义。
晶体生长是晶体学研究中的重要问题,具有广泛的应用前景和研究价值。
在晶体生长过程中,热力学规律起着重要的作用。
本文将以晶体生长过程中的热力学规律为主题,从热力学基本概念、化学平衡、热力学驱动力、扩散速率和生长形态等多个方面进行探讨。
一、热力学基本概念热力学基本概念是理解晶体生长过程中热力学规律的基础,深刻理解热力学基本概念对于晶体生长的研究具有重要的意义,下面将介绍几个重要的概念。
熵:熵是描述热力学体系混乱程度的物理量。
在晶体生长过程中,熵的增加主要来自于无规则的热运动和无序的生长过程。
化学势:化学势是描述热力学体系中某一组分在单位温度下单位物质量的自由能变化量。
在晶体生长过程中,化学势差是生长的驱动力。
活度:活度是描述体系中某一组分的化学活跃性的物理量。
在晶体生长过程中,活度差是晶体在不同场合下生长的驱动力。
扩散系数:扩散系数是描述物质在单位时间内通过单位面积的浓度变化量。
扩散系数的大小对于晶体生长速率有着重要的影响。
二、化学平衡晶体生长过程中的化学平衡是热力学规律的重要体现,如何保持体系处于化学平衡状态是晶体生长的关键问题。
晶体生长过程中,体系中存在多种物质,这些物质之间的相互反应会导致化学平衡状态的变化,下面将介绍几种影响晶体生长过程中化学平衡的因素。
浓度梯度:当体系中存在浓度梯度时,物质会自发地从高浓度区向低浓度区扩散,当浓度梯度达到一定程度时,体系将达到化学平衡状态。
局部平衡:当体系中存在几个局部性质不同的区域时,这些区域之间的物质传输会导致局部化学平衡状态的破坏,导致整个体系处于不稳定状态。
表面电荷:表面电荷的变化会影响体系的电位,进而影响化学平衡状态的变化。
三、热力学驱动力热力学驱动力是晶体生长过程中的核心问题,热力学驱动力大小直接决定了晶体生长的速率和方向。
下面将介绍几种影响热力学驱动力的因素。
晶体生长的机理

第五章一、什么是成核相变、基本条件成核相变:在亚稳相中形成小体积新相的相变过程。
条件:1、热力学条件:△ G=G S-G L V O;△ T>0。
2、结构条件:能量起伏、结构起伏、浓度起伏、扩散-短程规则排列(大小不等,存在时间短,时聚时散,与固相有相似结构,之间有共享原子)-晶坯一晶胞。
相变驱动力:f=- △ g/ Q S;△ g每个原子由流体相转变成晶体相所引起的自由能降低;Q S单个原子的体积。
气相生长体系:(T O P O)—(Top),△ g=-kT 0c, c = a -1= P i/ P O;溶液生长体系:(C O T O P O)—(C i T O P O),△ g=-kT o c,c = a -1= C i/ C O;熔体生长体系:△g=-l m △ T/T m,l m单个原子的相变潜热。
二、均匀成核、非均匀成核不含结晶物质时的成核为一次成核,包括均匀成核(自发产生,不是靠外来的质点或基底诱发)和非均匀成核。
三、均匀成核的临界晶核半径与临界晶核型成功临界晶核:成核过程中,能稳定存在并继续长大的最小尺寸晶核。
△G= △ G V+△ G S,球形核△ G=- 4 n ¥△ g/ Q s+4 n r2丫SL—r c=2 丫SL Q S/△ g,r<r c时,△ G>0,且随着r的增加,△ G不断增大,r>r c时,△ G<0,且随着r的增加,△ G减小,r=r c时,往两边都有△ G<0,称r c为临界半径。
临界晶核型成功:△ G c(r c)=A c 丫SL/3由能量起伏提供。
熔体生长体系:r c=2 丫SL Q S T m/l m △ T;△ G c(r c)=16 冗丫3SL Q 2s T2m/3l2m( △T)2四、非均匀成核(体系中各处成核几率不相等的成核过程)表面张力与接触角的关系: C LB = c SB + c LS COS B△G*(r)= (-4 n 3△g/ Q S+4 nr2c SL) f( 0 ) ;r*c=2 丫SL Q S/△g ;△G*c(r*c)= △G c(r c) •( 0 )f( 9 )=(2+cos 9 )(1-cos B )2/4 G*c(r*c) <A G c(r c); △G*c(r*c) = △ © *C五、点阵匹配原理( “结构相似,尺寸相应”原理) 两个相互接触的晶面结构(点阵类型,晶格常数、原子大小)越近似,它们之间的表面能越小,即使只在接触面的某一方向上结构排列配合得比较好,也会使表面能有所降低。
《晶体生长理论》ppt课件

多次区熔的过程
○ 在凝固界面,对于k<1的杂质,由于分凝作用将部分被
排斥到熔区,并向后携带
○ 在熔化界面,锭料的熔化带入新的杂质,并从熔化界面向凝
固界面运动〔杂质倒流〕,其结果是使整个熔区杂质浓度添加
○ 随着区熔次数的添加,尾部杂质越来越多,浓度梯度越来越
陡,杂质倒流越严重
极限分布
○ 经过多次区熔提纯后,杂质分布形状到达一个
如Cu-Ni相图 :
相图分析:2个点、2条线、3个区。
测定方法:热分析法〔最常用〕。
③二元合金相图的建立——热分析法建立相图的过程
▲配制系列成分的铜镍合金
▲测出它们的冷却曲线,得到临
界点
▲把这些点标在T—成分坐标上
▲将具有一样意义的点衔接成线,
标明各区域内所存在的相, 即得到
Cu-Ni合金相图
2、分凝景象与分凝系数
④ l →大,Cs→小,提纯效果好⇒l越大越好
⑤ 极限分布时(K一定):
⑥ l →大,B →小, A →大,Cs(x)→大, 提纯效果差
⑦
⇒l越小越好
⑧ 运用:前几次用宽熔区,后几次用窄熔区。
②熔区的挪动速度
BPS公式:
Keff
K0
f
D
1K0e
K0
f越小,keff越接近k0,提纯效果好, 区熔次数少, 但是过低速
〔资料中的杂质量本来很少〕
由于存在分凝景象,正常凝固后锭条中的杂质分布不再是均匀的,
会出现三种情况:
K<1的杂质,杂质向尾部集中;
K>1的杂质,杂质向头部集中;
K≈1的杂质,根本上坚持原有的均匀分布的方式
正常凝固过程中,Cs沿锭长的分布
1
晶体生长中的热力学

晶体生长中的热力学晶体生长是指在合适的条件下,由溶液中的原子、分子或离子沉积在固体表面形成结晶体的过程。
在晶体生长中,热力学是一个非常重要的因素,它决定了晶体的生长速率、结晶度和晶体形态等方面的特征。
本文将探讨如何理解晶体生长中的热力学问题。
1. 温度对晶体生长的影响晶体生长是一个高度有序的过程,它需要克服表面能的阻力和增加晶体内部的势能,以形成晶体结构。
温度是晶体生长中最重要的参数之一,因为它可以影响晶体生长过程中的化学反应和扩散动力学。
在低温下,晶体生长速率通常较慢,因为在这些温度下,化学反应和扩散速率较低,形成晶体的速率也相应变慢。
在一定条件下,较低的温度可能会导致更好的晶体质量,因为较低的温度可以减少杂质的参与,从而产生更高纯度的晶体。
高温下晶体生长速度较快,但会面临更多的问题。
高温下后效资料可能会更容易被激活,导致杂质的加入;另一方面,高温下溶液的极性可能减少,导致方向性生长速率降低,从而形成多晶体系。
此外,在极端条件下,如高浓度的溶液和低温度的溶液中,晶体生长可能会面临其他问题,例如聚集和成核卡迪奥波特效应等。
总体而言,晶体生长的温度应该在一定范围内,以保证较高的生长速率和良好的晶体结构。
在这些温度范围内,热力学因素可以被优化,从而实现最佳生长条件。
2. 热力学的控制晶体生长的热力学可以通过溶液浓度、温度和pH等参数进行调节。
这些参数可以影响化学反应和扩散动力学,从而影响晶体生长过程。
溶液浓度对晶体生长有重要影响。
在某些情况下,较高的浓度可能会适当加速晶体生长,因为它有助于增加溶液之间的反应速率。
同样,较低的浓度可能会促进方向性生长,从而形成更规则的晶体结构。
pH值对晶体生长有很大的影响,主要是因为它可以影响晶体生长过程中的化学反应。
在一些条件下,例如金属腐蚀中,改变pH值可以使晶体中的氧化性离子或还原性离子被激活,并且促进晶体在水中的形成。
此外,酸碱度对化学反应的选择性也可能产生影响,从而形成不同的晶体形态或组分。
成核与晶体生长动力学理论推导

成核与晶体生长动力学理论推导成核与晶体生长是固态相变中的基本过程,涉及到物质的从液相到晶体相的转变。
成核是指由溶液中的原子或分子聚集形成小晶核的过程,而晶体生长是指晶核沉淀后,沿着特定晶格方向逐渐增长形成大晶体的过程。
对于成核与晶体生长动力学的研究,可以帮助我们理解和控制晶体的形态与尺寸,在材料科学、地质学、生物学和化学等领域都具有重要的应用价值。
成核理论是研究成核过程的理论模型,其中最经典的理论是由沃尔福(Volmer)和韦伯(Weber)于1926年提出的沃尔福韦伯(Volmer-Weber)成核理论。
该理论认为,成核过程是一个两步反应,首先是原子或分子在溶液中聚集形成临界尺寸的核,然后通过核的扩张与生长而形成大晶体。
成核的速率决定于原子或分子在溶液中跨过能垒形成核的速率,即形成临界尺寸核的速率。
而晶体生长速率与成核速率成反比,因为生长速率取决于晶体表面的扩散过程。
在沃尔福韦伯成核理论的基础上,进一步发展了凯尔策(Kashchiev)成核理论。
凯尔策成核理论考虑了聚集形成临界尺寸核的自由能变化,通过计算原子或分子在溶液中的自由能变化,可以得到形成核的稳定性和临界尺寸。
该理论引入了过饱和度的概念,过饱和度是溶液中溶质浓度与平衡浓度之比,它反映了溶液中存在多余的溶质。
过饱和度越高,成核速率越快,晶体生长越快。
另一个重要的理论是傅立叶(Fick)理论和奥斯特瓦尔德(Ostwald)熔体理论。
傅立叶理论基于质量守恒和扩散的出发点,通过考虑溶质浓度梯度驱动晶体生长。
奥斯特瓦尔德熔体理论则认为熔体中先形成少数的最稳定晶相,随着时间的推移会发生相变形成最稳定的晶相。
这两个理论共同揭示了晶体生长的动力学过程。
可以通过碳酸钙晶体的生长过程来进一步了解成核与晶体生长的动力学过程。
例如,在洞穴中形成钟乳石,需要溶解的碳酸钙在溶液中被饱和,并通过成核与晶体生长形成钟乳石。
实验证明,成核速率与温度、溶液组分、溶液饱和度等因素有关。
晶体生长中的热力学分析

晶体生长中的热力学分析晶体生长是一个具有很高科学研究价值和实际应用前景的研究领域。
在过去的几十年中,科学家和研究人员对晶体生长进行了大量的研究,建立了一套完整的理论和实验技术体系。
其中,热力学是晶体生长中不可或缺的一部分,既可以用来解释晶体生长中的各种现象,也可以指导晶体生长的实验过程。
晶体生长中的热力学分析主要涉及晶体生长物质的化学势、热力学参数和晶体生长过程中的热力学平衡等方面。
下面我们将从这三个方面入手进行讲述。
一、晶体生长物质的化学势晶体生长物质的化学势是指晶体生长中各组分在溶液中的活度和相平衡条件下的摩尔自由能。
在晶体生长过程中,物质的化学势决定了晶体生长的驱动力和动力学控制因素。
因此,对于晶体生长的研究和控制来说,深入了解和正确预测晶体生长物质的化学势是非常重要的。
晶体生长物质的化学势主要受到晶体生长条件、物质组成、物质状态和溶液中其他离子的影响。
在晶体生长过程中,物质从溶液中向晶体表面扩散,使晶体表面饱和度降低,从而导致晶体生长。
因此,晶体生长物质的化学势直接影响晶体生长速率和形态。
在晶体生长实验中,通过调整晶体生长条件、控制物质组成和物质状态,可以有效地改善晶体生长物质的化学势,提高晶体生长的质量和效率。
二、热力学参数热力学参数是指晶体生长物质在热力学平衡状态下的参数,包括物质的热力学势、热力学活度、热力学平衡常数、反应热等。
在晶体生长中,这些热力学参数对晶体生长的控制和调节起到了至关重要的作用。
晶体生长物质的热力学势是晶体生长过程中的驱动力和动力学控制因素。
在晶体生长过程中,必须满足晶体生长物质的化学势大于等于晶体表面的化学势,并且晶体生长过程中的热力学参数必须满足平衡条件。
只有在这种情况下,晶体生长才能持续进行,形成高质量的晶体。
晶体生长物质的热力学平衡常数是另一个重要的热力学参数。
在晶体生长过程中,晶体表面和溶液中的化学势之间需要满足一定的平衡条件。
晶体生长物质的热力学平衡常数可以用来描述溶质在晶体和溶液之间的平衡状态,有效地预测晶体生长过程中的平衡状态和反应动力学。
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第五章 成核(晶体生长热力学)系统处于平衡态——系统吉布斯自由能最小单元复相系统平衡态——系统中诸相的克分子吉布斯自由能相等多元复相系统平衡态——任一组元在共存的诸相中化学势相等 亚稳态(亚稳相) ——新相能否出现,如何出现(相变动力学要回答的第一问题)——新相成核新相自发长大——系统吉布斯自由能降低,驱动力与生长速度的关系(相变动力学回答的第二个问题)亚稳相向新相转变:1. 新、旧相结构差异微小,变化程度小、空间大,转变在空间上连续,时间不连续。
2. 变化程度大、空间变化小,转变在空间不连续,时间方面连续。
系统中出现新相机率相等——均匀成核 系统中某些区域优先出现新相——非均匀成核§1. 相变驱动力过饱和溶液、过冷熔体均属亚稳相。
驱动力所作之功: G X fA ∆-=∆VGf ∆∆-= 单位体积晶体引起系统吉布斯自由能的降低(负号表示降低)单原子体积为Ωs ,吉布斯自由能降低Δg,则:s g f Ω∆-= 有时Δg 也称相变驱动力饱和比==0/p p α 饱和比==0/C C α饱和度=-=1ασ对汽相生长:s s s kT kT p p kT f Ω≈Ω=Ω=//ln /)/ln(0000σα溶液生长:s s s kTkT C C kT f Ω≈Ω=Ω=σαln )/ln(0熔体生长: ms T Tl f Ω∆=l=£0/N 0 单原子熔化潜热§2. 亚稳态系统吉布斯自由能存在几个最小值,最小的极小值为稳定态。
其他较大的极小值为亚稳态。
亚稳态在一定限度内是稳定的。
亚稳态总要过渡到稳定态 亚稳态→稳定态存在能量势垒 §3. 均匀成核1. 晶核形成能和临界尺寸sf sr g rr G γππ23434)(+∆⋅Ω=∆或sfi A g i i G γ⋅+∆⋅=∆)()(3/2)(i i A ⋅=η η形状因子i 个原子,体积为V(i)=i Ωs立方体,边长a , 则V=a 3, 面积为A=6a 2=6V 2/33/23/26)(i i A s⋅Ω=∴ s i i V Ω=)(因此,立方体: 3/26sΩ=η; 球体:3/23/1)36(sΩ=πη旋转椭球体:3/22/1222/1222/122223/13/1)])/1(1)/1(1ln()/1(2[)43(sr y r y r y r y r y Ω---+⋅-+=πη普通表达式:sfr i g i i G ⋅⋅+∆⋅=∆3/2)(ηr<r* 自动消失(胚团) r>r* 自发长大(核)r(i)Δ对ΔG(i)求极值:gr r s sf ∆Ω=2* 或:3]32[*gr i sf ∆=η对球形晶核:33332*gr i ssf∆Ω⋅=π将r*或i*代入Δg 表示式,可得:2322*3/163/*4g r r i G sfs sf ∆Ω=⋅=∆ππ2333/2*27/43/*gr i r G sfsf ∆==∆ηη晶核形成能为界面能的1/3. 2. 界面结构对ΔG(i)的影响 粗糙界面生长: 连续生长光滑界面生长:不连续生长,核长大i 增加ΔG(i)变化不连续 3. 复核起伏和成核率 单相起伏: 单纯密度起伏复相起伏: 产生胚团的起伏(亚稳相、平衡相) 单位体积内胚团数为:]/)(exp[)(kT r G n r n ∆-≈ ]/)(exp[)(kT i G n i n ∆-≈]/ex p[)(kT G n r n **∆-≈]/ex p[)(kT G n i n **∆-≈成核率: 单位时间内能发展成为宏观晶体的晶核数(I)]/ex p[*kT G Bn I ∆-=B:核晶捕获流体中原子或分子的机率iΔG*= 0.7l sf自由能与胚团原子数的关系ΔΔG*= 0r(i)胚 团 分 布 规 律n (r )或n (i )对汽相生长:2*2/14)2(rmkT P B ππ⋅=-]]/[ln 316exp[]/ln 2(4)2(203332202/1p p T k r p p kT mkT nP I s s Ω-Ω⋅=∴-πγππ熔体生长: v 0为熔体原子的振动频率]/ex p[0kT q v B ∆-=])(316exp[)exp(222320T kTl T r kT qnv I m s ∆Ω-⋅∆-=π §4. 非均匀成核 1. 平衬底上球冠成核sfsccf r r r Cos m -==θ23)1)(2(3m m r V s -+=π)1(22m r A sf -=π )1(22m r A sc-=π)()(cf sc sc sc sf sf ssr A r A r A g V r G ⋅-⋅+⋅+∆⋅Ω=∆ 当)(sc sc sf sf cf scr A r A r A ⋅+⋅≥⋅时,成核不必克服势垒,可自发进行。
c衬底上球冠核的形成θθs f r4/)1)(2](434[)(223m m r r g r r G sf s-+⋅+∆⋅Ω=∆ππ 对r 求导,令0)(=∂∂rr G g r r s sf ∆Ω⋅=2*球冠晶核的形成能:)(3161232*m f gr G sf s ⋅∆Ω=∆π其中,4/)1)(2()(21m m m f -+=1)(01≤≤m f ,衬底具有降低晶核形成能的通性;0=θ , 0)(1=m f , 0*=∆G C180=θ ,1)(1=m f , 衬底无贡献。
成核率: 2*2/1)2(rmkT P B ππ⋅=-)](]/[ln 316exp[]/ln 2()2(1203332202/1m f p p T k r p p kT mkT nP I s s⋅Ω-Ω⋅=∴-πγππ熔体生长:)]()(316exp[)exp(1222320m f T kTl T r kT gnv I ms ⋅∆Ω-⋅∆-=π2. 凹陷成核h r V f 22π=22r rh A sc ππ+=222/)11(2m m r A sf --=π)]2(/)11([2222r h m m m r r r g h r G sf s +---⋅⋅+∆⋅Ω=∆ππ其形核能是h 的函数,当h 足够大,ΔG 可为负值; 当亚稳态时ΔG 为负值,Δg<0, 故h ↑, ΔG ↓,自发生长(籽晶生长) 当h ↑, ΔG ↓,若Δg>0, 0<∂∆∂hG, 胚团稳定条件 022<-∆Ωsf srmr g rππg m r r s sf ∆Ω</2表面凹陷的柱孔模型当ξ=90°时,gr r sf s ∆Ω=2*)(3162232*m f gr G sf s ⋅∆Ω=∆π⎰⋅---------+-+--=*2/12*)1(2/12**1*22/122122/12222}])([2)1()1()1(2)21(2)1{(4/1)(r m mr dy y r m r Sin mr m m m m Sin m m m m m m m f ππ4. 悬浮粒子成核),(3163232*X m f gr G sf s ⋅∆Ω=∆πssf r g r r r X Ω⋅∆==2*]1[3])()(32[]1[1),(323333--+-+--+-+=gmX mX g m X g m X X g mX X m f 2/12)21(mX X g -+=不匹配对成核的影响: 界面能变化γcs弹性畸变能γcs =γ化学+γ结构γ化学=)(21s c cs Φ+Φ-Φξξ1. 共格界面, 半共格界面, 非共格界面2. 错合度引起的弹性畸变和错配位错理想错合度: 000s sc i a a a -=δ000s s c i θθθδ-='共格界面 半共格界面由弹性畸变容纳,则:00ssc i a aa e -==δ00s sci e θθθδ-='='此时单位体积的应变能为(弹性力学): 22i e C Ce G δ==∆22i e C e C G δ''=''='∆C,C ′晶体弹性模量,切变模量有关的常数.理想错合度δi错配位错 (a)刃型 (b)螺型(δI ′)部分由弹性畸变容纳.实际错合度: 00ssci a a a e -=-=δδssci e θθθδδ-='-'='a s ,θs 为弹性畸变后原子间距和原子列夹角,然后实际错合度由产生错配位错容纳. 产生刃位错: )/()(/0200s cs s a a Sin a Sin a D -==θδθ 产生螺位错:δθ'=/00c s Sin a D当δ=0.02时,则: 050s aD≈ ;δ=0.04时,则: 025s a D ≈ ; δ=0.1时,则: 010s a D ≈3. 错配位错对界面能的贡献)ln()1(4)(020s s a Rv a B G -+=⊥πμB:单位长度位错核心能; R:位错应力场所及区域线度; μ: 切变模量; υ:泊松比衬底与晶体均为立方体,晶格参数为0c a 和0s a ,在界面形成两组正交刃型错配位错.宽度为D,长度为2D,面积为D 2.δδγ⋅Λ=⋅=⋅=⊥⊥022sa G D G 结构(单位面积上错配位错对界面能的贡献))]ln()1(4)([20200ss s a Rv a B a -+=Λπμ4. 界面失配对成核行为的影响界面失配: 晶体中引起的弹性应变为e, 界面实际错合度δ=δ-e, 衬底和胚团的界面能为:δγγΛ+=化学cssfcf m γδγγ)(Λ+-=化学 能 量δi *δi能量与理想错合度的关系能 量理想错合度δi能量与理想错合度的关系(精确计算结果))]([)(2cf cf sf sf s ssA A e C g V G γδγγ-Λ+-+Ω+∆Ω=∆化学 将V s , A sf , A cf 表达式代入,令:0=∂∂rG)()(3162232*m f e C g rG s sfs ⋅Ω+∆Ω=∆π对平衬底: f(m)=f 1(m)或: f(m)=f 2(m) 或: f(m)=f 3(m,X) 讨论平衬底上球冠核的形成能:22232*)1)(2()(34m m e C g r G s s-+⋅Ω+∆Ω=∆π在通常外延系统中, θ=0°,m ≈1, 2+m ≈322232*][)(4δγγγγγπsfsf cf sf s sfs e C g rG Λ++-⋅Ω+∆Ω=∆化学增加了成核势垒.。