集成电路晶圆试基础
半导体晶圆 检测精度要求标准
半导体晶圆检测精度要求标准半导体晶圆是制造集成电路（IC）的基础材料，其质量和精度直接影响到IC产品的性能和可靠性。
由于半导体晶圆的尺寸很小，一般为8英寸或12英寸，因此需要进行精确的检测和测试，以确保其性能达到要求。
在半导体晶圆制造过程中，有一系列检测精度要求标准应用于晶圆表面缺陷、结构和电学参数等方面的测试。
首先，晶圆的表面缺陷检测精度要求非常高。
由于晶圆用于制造芯片，因此表面的缺陷很容易导致芯片的故障。
常见的表面缺陷包括划痕、污染、氧化和颗粒等。
在检测过程中，需要使用高分辨率的显微镜或其他表面检测设备，对晶圆进行全面的检查。
检测标准要求能够清楚地识别和定位缺陷，并准确计量其尺寸和形状特征。
其次，晶圆的结构检测精度要求也很高。
晶圆的结构包括晶体取向、晶体结构和晶格常数等方面。
其中，晶体取向是指晶圆表面晶体方向组成的规律排列，晶体结构是指晶圆内部的晶粒排列和连接方式，晶格常数是指晶体中原子之间的距离。
这些结构参数对于晶圆的电学性能和工艺制程都有重要影响。
因此，结构检测需要使用高精度的显微镜、电子显微镜及X射线衍射等设备，来测量和分析晶圆的结构特征。
最后，晶圆的电学参数检测精度也是非常重要的。
半导体晶圆作为电子元件材料，其电学参数如电阻、电容和电压等十分重要。
在生产过程中，需要对晶圆进行电学参数测试，以保证其与IC设计要求一致。
电学参数测试需要使用高精度的测试设备，如测量电路、信号发生器等，并对测试结果进行精确的分析和验证。
除了上述提到的检测精度要求标准，还有其他一些检测要求需要注意。
首先，检测精度应该能够满足不同工艺要求。
由于不同的产品和工艺制程对晶圆的要求不同，因此检测标准应该具备一定的灵活性和可调整性，以适应不同产品和工艺的需求。
其次，检测精度还应具备一定的可重复性和一致性。
由于晶圆制造过程中涉及到多个工序和多个检测点，每个检测点的结果应该能够保持一致，且能够重复多次得到相同的结果。
这可以通过确保检测设备的准确度和稳定性，以及制定严格的检测流程和规范来实现。
硅集成电路工艺基础
硅集成电路（Silicon Integrated Circuit，简称Si IC）工艺是制造集成电路的关键技术。
下面是硅集成电路工艺的基础知识：
半导体材料：硅是最常用的半导体材料，因其丰富、稳定、可控制的电子特性而被广泛应用于集成电路制造。
显示基片：硅晶圆（Silicon Wafer）是制造硅集成电路的基础材料。
晶圆要求高纯度和平整度，并通过特定的杂质掺入工艺形成P型或N型半导体。
清洁和沉积：在制造过程中，晶圆需要经过清洁工艺以去除杂质和污染物。
然后，在晶圆上进行化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）等薄膜沉积工艺，将各种功能层沉积在晶圆表面。
光刻：光刻是通过光刻胶（Photoresist）层和光刻机将设计好的图形传输到晶圆上。
光刻胶在曝光后通过显影工艺形成光刻图形，可以作为掩模来制备电路中的电子器件。
电子器件制造：通过沉积、蚀刻、掺杂等工艺步骤，在晶圆上制造各种类型的电子器件，如晶体管、电容器和电阻器等。
这些器件通常由不同的半导体材料和各种金属、氧化物和多层薄膜组成。
金属互连：通过沉积导电金属（如铜、铝等），并通过光刻、蚀刻等工艺形成金属线、连线和接触以连接各个电子器件。
金属互连提供了电子信号和电能传输的路径。
封装测试：晶圆完成器件制造后，它们被切割成单个芯片，然后通过封装工艺将芯片封装在塑料或陶瓷封装中。
最后，通过功能测试和可靠性测试来验证芯片的工作状态和性能。
这些是硅集成电路工艺的基础知识，基于这些基础，可以制造各种类型和规模的集成电路。
还有许多先进的工艺技术和制造方法，如多晶硅、离子注入、深紫外光刻等，用于制造更复杂、更高性能的集成电路。
集成电路晶圆测试基础
载流子——可以自由移动的带电粒子。
电导率——与材料单位体积中所含载流子数 有关，载流子浓度越高，电导率越高。
电子空穴对
当T=0K和无外界激发时，导体中没有栽流子，不导电。当 温度升高或受到光的照射时，价电子能量增高，有的价电子 可以挣脱原子核的束缚，而参与导电，成为自由电子——本 证激发。
本征激发
半导体的基本知识
根据物体导电能力(电阻率)的不同，划分为导体、绝缘 体和半导体。 半导体的电阻率为10-3～109 cm。典型的半导体有硅 Si和锗Ge以及砷化镓GaAs等。 半导体的特点： 1）导电能力不同于导体、绝缘体； 2）受外界光和热刺激时电导率发生很大变化——光敏元件、 热敏元件； 3）掺进微量杂质，导电能力显著增加——半导体。
引言
集成电路按生产过程分类可归纳为前道测 试和后到测试；集成电路测试技术员必须 了解并熟悉测试对象—硅晶圆。 测试技术员应该了解硅片的几何尺寸形状、 加工工艺流程、主要质量指标和基本检测 方法；
硅片，是晶体材料的 重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要 用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、 供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸 多优势，在地壳中含量达27%的硅元素，为单晶 硅的生产提供了取之不尽的源泉。 非晶硅是一种直接能带半导体，也就是没有和周 围的硅原子成键的电子，这些电子在电场作用下 就可以产生电流，因而非晶硅可以做得很薄，还 有制作成本低的优点．
二极管按结构分有点接触型、面接触型二大类。 PN结面积小，结电容小， (1) 点接触型二极管
用于检波和变频等高频电路。
(2) 面接触型二极管
PN结面积大，用 于大电流整流电路。
2.2 晶圆
通过芯片制造工艺，在圆硅片上已经形成 了芯片阵列的硅圆片，被称为“晶圆”。 “晶圆”有别于硅片，通常把还没有经过 芯片制造工艺的原始圆硅片简称为“硅 片”。
集成电路基础知识概述
集成电路基础知识概述集成电路（Integrated Circuit，简称IC）是指将多个电子元件（如晶体管、电阻、电容等）以一种特定的方式集成在单一的半导体芯片上的电路。
IC的出现和发展对现代电子技术的发展起到了重要的推动作用。
本文将对集成电路的基础知识进行概述，介绍其定义、分类、制造工艺和应用领域。
一、集成电路的定义集成电路是指将多个电子元件集成在单一芯片上，实现特定功能的电路。
它可以分为模拟集成电路和数字集成电路两大类。
模拟集成电路处理连续信号，数字集成电路处理离散信号。
集成电路的核心是晶体管，其作为开关元件存在于集成电路中，通过控制晶体管的导通与截止实现电路的功能。
二、集成电路的分类1. 按集成度分类根据集成度的不同，集成电路可以分为小规模集成电路（Small Scale Integration，SSI）、中规模集成电路（Medium Scale Integration，MSI）、大规模集成电路（Large Scale Integration，LSI）和超大规模集成电路（Very Large Scale Integration，VLSI）等几种。
随着技术的发展，集成度不断提高，芯片上可容纳的元件数量也不断增加。
2. 按构成元件分类按照集成电路中所使用的主要元件类型，可以将集成电路分为晶体管-电阻-电容（Transistor-Resistor-Capacitor，TRC）型集成电路、金属-氧化物-半导体 (Metal-Oxide-Semiconductor，MOS)型集成电路、双极性晶体管 (Bipolar Junction Transistor，BJT)型集成电路等。
不同类型的集成电路适用于不同的应用场景。
三、集成电路的制造工艺集成电路的制造工艺主要包括晶圆制备、掩膜生成、光刻、腐蚀、离子注入、金属蒸镀、电火花、封装测试等步骤。
其中，晶圆制备过程是整个制造工艺的基础，它包括晶体生长、切片和研磨抛光等步骤。
晶圆基础知识
晶圆晶圆,多指单晶硅圆片,由普通硅沙拉制提炼而成,是最常用的半导体材料,按其直径分为4英寸、5英寸、6英寸、8英寸等规格,近来发展出12英寸甚至更大规格.晶圆越大,同一圆片上可生产的IC就多,可降低成本;但要求材料技术和生产技术更高。
IC目录一、世界集成电路产业结构发展历程二、IC的分类常用电子元器件分类集成电路的分类：IC就是半导体元件产品的统称，包括：1.集成电路(integratedcircuit，缩写：IC)2.二，三极管。
3.特殊电子元件。
再广义些讲还涉及所有的电子元件，象电阻，电容，电路版/PCB版，等许多相关产品。
IC还包括但不限于代表经济,统计学中的国家工业能力.[编辑本段]一、世界集成电路产业结构发展历程自1958年美国德克萨斯仪器公司(TI)发明集成电路（IC）后，随着硅平面技术的发展，二十世纪六十年代先后发明了双极型和MOS型两种重要的集成电路，它标志着由电子管和晶体管制造电子整机的时代发生了量和质的飞跃，创造了一个前所未有的具有极强渗透力和旺盛生命力的新兴产业集成电路产业。
回顾集成电路的发展历程，我们可以看到，自发明集成电路至今40多年以来，"从电路集成到系统集成"这句话是对IC产品从小规模集成电路（SSI）到今天特大规模集成电路（ULSI）发展过程的最好总结，即整个集成电路产品的发展经历了从传统的板上系统（System-on-board）到片上系统（System-on-a-chip）的过程。
在这历史过程中，世界IC产业为适应技术的发展和市场的需求，其产业结构经历了三次变革。
第一次变革：以加工制造为主导的IC产业发展的初级阶段。
70年代，集成电路的主流产品是微处理器、存储器以及标准通用逻辑电路。
这一时期IC制造商（IDM）在IC市场中充当主要角色，IC设计只作为附属部门而存在。
这时的IC设计和半导体工艺密切相关。
IC设计主要以人工为主，CAD系统仅作为数据处理和图形编程之用。
集成电路制造工艺原理课程
集成电路制造工艺原理课程集成电路制造工艺原理是现代集成电路技术的基础课程之一。
在这门课程中，学生将学习到有关集成电路的制造工艺和原理。
本文将介绍一些与该课程相关的关键知识点。
首先，介绍集成电路制造工艺的基本概念。
集成电路制造工艺是指将微纳米级的材料进行加工和制造，以制造出微小而复杂的电路结构。
它涉及到多个步骤，包括晶圆制备、光刻、薄膜沉积、离子注入和金属蒸镀等。
的晶圆制备是集成电路制造的第一步，它是指将硅片加工成适合集成电路制造的形状和尺寸。
这一步骤通常包括切割、抛光和清洗等操作。
与此同时，晶圆的质量和纯度也是非常重要的，因为它们将直接影响到后续制造步骤的效果。
光刻是集成电路制造中一项非常重要的步骤。
它通过使用特殊的光刻胶和光刻机，将电路图案记录在晶圆表面上。
光刻胶是一种特殊的材料，可以在光照后形成图案，并保护晶圆表面。
光刻机则是用来控制光照的设备，它可以精确地记录电路图案。
薄膜沉积是另一个重要的制造步骤。
它通过使用特殊的化学气相沉积设备，将薄膜材料沉积在晶圆表面上。
薄膜材料可以是金属、半导体或绝缘体等。
这些薄膜将用于构建电路的不同部分，例如导线、晶体管和电容器等。
离子注入是通过将特定的离子注入晶圆表面来改变其电子结构和电学特性的过程。
这种技术被广泛应用于控制电导率和电阻等参数的调整。
通过控制离子注入的能量和浓度，可以改变晶圆的电子特性，从而实现不同的电路功能。
金属蒸镀是为了形成导线和连接器等电路元件而进行的步骤。
它通过在晶圆表面上蒸发金属材料，然后再通过化学反应固定在晶圆表面上。
这样可以形成电路连接所需的导线和连接器。
除了以上这些步骤外，还有一些其他的关键步骤，比如晶圆测试和封装等。
晶圆测试是在制造过程中对晶圆的质量进行测试和评估，以确保其符合设计参数。
而封装是将芯片封装进塑料或陶瓷外壳中，以保护芯片并方便安装。
这些步骤都是集成电路制造中不可或缺的环节。
综上所述，集成电路制造工艺原理课程涵盖了许多关键的知识点，包括晶圆制备、光刻、薄膜沉积、离子注入和金属蒸镀等。
集成电路设计基础—封装与测试
划片槽示意图
2021/4/5
《集成电路设计基础》
14
集成电路设计中的封装考虑
（2）高速芯片封装 在高频和高速系统设计时，不同封装形式的引脚的寄生参 数必须加以考虑 。
几种封装形式下引脚的寄生电容和电感的典型值
功能测试 只对在集成电路设计之初所要求的运算功能或逻辑功 能是否正确进行测试。
2021/4/5
《集成电路设计基础》
31
数字集成电路测试技术
数字集成电路测试技术中要解决的问题主要有：故障模型的 提取，测试矢量的生成技术，电路的可测试结构设计方法等。
（1）固定故障模型
故障模型就是将物理缺陷的影响模型化为逻辑函数的逻辑 及时延等方面的特征。目前用得最多的故障模型是单固定 型故障，即是任何时候电路中只有一条信号线固定为0 （或1）值，无论电路输入取什么值时该线取值不变。
7
集成电路封装的内容
(3) 保证自硅晶圆的减薄、划片和分片开始，直到芯片粘 接、引线键合和封盖等一系列封装所需工艺的正确实施， 达到一定的 规模化和自动化；
(4) 在原有的材料基础上，提供低介电系数、高导热、高机 械强度等性能优越的新型有机、无机和金属材料；
(5) 提供准确的检验测试数据，为提高集成电路封装的性能 和可靠性提供有力的保证。
4
§ 12.1集成电路封装技术基础
• 集成电路封装对集成电路有着极其重要 的作用，主要有以下四个方面：
2021/4/5
《集成电路设计基础》
5
集成电路封装的作用
(1)对集成电路起机械支撑和机械保护作用。 (2)对集成电路起着传输信号和分配电源的作用。 (3)对集成电路起着热耗散的作用。 (4)对集成电路起着环境保护的作用。
半导体行业专业知识-wafer知识
半导体行业专业知识 - Wafer 知识在半导体行业中，晶圆（Wafer）是一种重要的概念。
晶圆是半导体工厂生产芯片的基础，它通过光刻技术在上面刻出芯片上的电路和电子元器件。
本文将介绍一些关于晶圆的基础知识，以及与晶圆相关的工艺流程。
晶圆的基础知识晶圆又被称为衬底，它是由单晶硅材料制成，并且表面非常平整。
在制造晶圆时，首先需要采用化学气相沉积等技术将硅石及硅片中的多晶硅转化为单晶硅，然后通过超细磨片技术将硅块加工成薄而平整的圆盘，这就是晶圆。
晶圆的尺寸通常是指直径，主要有6英寸、8英寸、12英寸等几种规格，现在逐渐向更大的尺寸发展，如14英寸、18英寸等。
硅晶圆的制造工艺中还要注意晶圆表面的净化、去除有机污染物、消除缺陷等问题，以保证芯片的质量。
晶圆与半导体工艺晶圆在半导体工艺中起着至关重要的作用，通过晶圆衬底上的光阻和掩膜，施加光照、刻蚀等工艺，形成电路和元器件。
晶圆工艺的步骤如下：前处理前处理是指在晶圆上形成光阻和其他掩膜准备工作。
这个过程主要分为清洗、干燥、回流、涂敷、曝光等步骤，这些过程保证了晶圆表面的平整和光阻的黏附性，以及涂敷的厚度和误差。
离子注入离子注入通常是指将外界材料掺入晶圆内部，以改变晶圆中的电子元器件的性质。
这个过程中要注意注入能量、保证注入的均匀性等问题。
薄膜沉积薄膜沉积是指在晶圆表面上沉积一层新的材料，如金属、氧化物，以增加芯片的实用性。
这个过程包括物理气相沉积、化学气相沉积等技术。
集成电路制造集成电路的制造是指将电子器件和电路的制造过程，与晶圆上的光阻和掩膜相结合，对晶圆表面进行刻蚀、沉积等工艺，最终制成电子元器件。
本文简单介绍了晶圆在半导体工艺中的重要作用，以及晶圆的基础知识和工艺流程。
虽然前沿技术的发展迅速，但是晶圆作为半导体工厂的基础，仍然是半导体行业中至关重要的一环。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
为1022*（1/106）=1016数量级， 则掺杂后载流子浓度为1016+1010，约为1016数量级，
比掺杂前载流子增加106，即一百万倍。
3.设计模型参数
• 利用微电子结构图组技术的期间测试结构来提 取设计模型参数。建立VLSI库单元特性的一个 关键，在于是否有一个可靠的，并能正确反映 其工艺的器件模型参数。
2.2.1 晶圆的表形构成
4.焊盘
• 传统的方法是把芯片进行封装后提供给用户使 用，为此，就必须把芯片上的功能电路与外部 连接，即芯片上把焊盘作为引线的压焊点，兼 做测试点
PN结的形成及特性
PN结的形成 PN结的单向导电性
PN结的形成
在一块本征半导体 两侧通过扩散不同的杂 质,分别形成N型半导体 和P型半导体。
+ 三价的元素
+ 五价的元素
因浓度差
产生多余空穴
产生多余电子
动画
多子的扩散运动 由杂质离子形成空间电荷区
空间电荷区形成内电场
内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散
(1) 正向特性
正向区分为两段：
当0＜V＜Vth时，正 向电流为零，Vth称死 区电压或开启电压。
当V ＞Vth时，开始 出现正向电流，并按 指数规律增长。
硅二极管的死区电压Vth=0.5~0.8V左右， 锗二极管的死区电压Vth=0.2~0.3 V左右。
2.2.2 晶体管基本原理和结构
2.双极型晶体管
非晶硅是一种直接能带半导体，也就是没有和周 围的硅原子成键的电子，这些电子在电场作用下 就可以产生电流，因而非晶硅可以做得很薄，还 有制作成本低的优点．
2.1.1 硅片制备与检测
1.几何尺寸形状
• 硅片的几何形状为圆形薄片，圆硅片边缘有定 位边（或称“参考面”），短的次定位边（次 参考面）。
2.2.1 晶圆的表形构成
微电ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ测试结构图
微电子测试结构图是指一种用于微电子器 件生产中，有别于芯片上所集成的核心功 能电路的特种图形结构。微电子测试结构 图组可用于评价晶圆片级集成电路的材料、 掺杂和刻蚀的均匀性，工艺装备的完好性， 工艺、结构与器件参数的一致性及工艺的 稳定性。
微电子测试结构图
• 双极型器件有电子和空穴两种载流子参与导电。 双极型NPN是由一个NP结和一个PN结，以及 两个结中间一个共享的很窄的P型区而构成的 三端有源器件。
BJT的开关特性
vI=0V时: iB0，iC0，vO＝VCE≈VCC，c、e极之间近似于开路, vI=5V时: iB0，iC0，vO＝VCE≈0.2V，c、e极之间近似于短路,
• 通常，检测硅片缺陷的方法是先对硅片进行选 择性的化学/电化学腐蚀，再利用光学显微镜观 察其表面微结构和缺陷，做缺陷性质判断和计 数评估，这是一种常用的快速、低成本检测单 晶硅片缺陷的方法。
半导体的基本知识
根据物体导电能力(电阻率)的不同，划分为导体、绝缘 体和半导体。
半导体的电阻率为10-3～109 cm。典型的半导体有硅 Si和锗Ge以及砷化镓GaAs等。 半导体的特点： 1）导电能力不同于导体、绝缘体； 2）受外界光和热刺激时电导率发生很大变化——光敏元件、 热敏元件； 3）掺进微量杂质，导电能力显著增加——半导体。
• 为了产生质量好、成本低、可靠性高的集成电 路，工艺过程必须处于“统计受控”的状态。 在集成电路生产中普遍采用统计过程控制技术 （SPC）。SPC利用数理统计分析理论，将微 电子测试结构图组连续采集的大量工艺参数数 据转换成信息，以确认、改善或纠正工艺过程 特征，保证产品质量、成品率和可靠性。
微电子测试结构图
2.1.2 半导体材料与特性
概述
Ge,只用于某些特殊器件和光电探测器，半导体级 的纯锗成本比纯硅高10倍。
Si一直是半导体工业和集成电路的主材料，其不可 替代性在于地球上Si元素及其丰富（占地壳27%）， 仅次于氧
2.1.2 半导体材料与特性
硅的基本特性
• 硅有若干特性，硅的导电性可以由掺杂来控制， 常温下导电性主要由杂志来决定；
1.工艺监控参数
• （1）在工艺参数的监测中，最典型的微电子 测试结构是范德堡（VDP）测试结构，它主要 用于测量各种掺杂区域的薄层电阻。其测试结 构有圆形VDP，圆形栅极VDP、偏移方形十字、 大希腊十字形、小希腊十字形和正十字形六种， 其中，正十字形VDP测试结构经常被使用。
2.3.2 微电子测试结构图
• 然后对硅片腐蚀，以去除硅片表面损伤层，确保硅片 具有高平整度和平行度的光滑表面，再对硅片抛光。
• 最后，把放有合格硅片的片架放入冲氮的密封传送盒 之前，需对硅片进行超净态的清洗和质量校验。
2.1.1 硅片制备与检测
3.基本检测项目
• 硅片的主要质量要求如表
2.1.1 硅片制备与检测
4.基本检测方法
微电子测试结构图
• （2）金属-半导体接触电阻测试结构。随着电 路结构尺寸越来越小。IC特征尺寸按比例因子 K减小，引线孔的面积按K2的关系缩小，则金 属-半导体接触电阻会以K2的速率增加。如何 正确的测定金属-半导体接触电阻或接触电阻率 成为了一个重要的问题。
微电子测试结构图
2.电路质控参数
PN结的单向导电性
(1) PN结加正向电压
外加的正向电压，方
向与PN结内电场方向相反，
削弱了内电场。于是,内
电场对多子扩散运动的阻
碍减弱，扩散电流加大。
扩散电流远大于漂移电流，
可忽略漂移电流的影响，
PN结呈现低阻性。P区的
电位高于N区的电位，称
为加正向电压，简称正偏。
动画
（2）PN结加反向电压
外加反向电压,方向与PN结内电场方向相同，加强 了内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强，扩散 电流大大减小。此时PN结区的少子在内电场的作用下 形成的漂移电流大于扩散电流，可忽略扩散电流，PN 结呈现高阻性。 P区的电位低于N区的电位，称为加反 向电压，简称反偏。
iC＝ICS≈
VCC Rc
且不随iB增加 而增加
VCE＝VCC－iCRc VCES ≈ 0.2~0.3 V
可变
很小，约为数 百欧，相当于 开关闭合
2.2.2 晶体管基本原理和结构
3.MOS晶体管
• MOS型晶体管属于场效应晶体管，是一种电压 控制的单极四端器件。场效应器件分为绝缘型 （MOSFET/MESFET）和结型（JFET）两种。
+4 空穴 +4
+4
+4
+4 +4
+4
+4
自由电子
+4
+4
+4 +4
动画1-1
自由电子产生的同时，在其原来的共价键中就出现了一个空位，
这个空位为空穴。
因热激发而出现的自由电子和空穴是同时成对出现的，称为电
子空穴对。
返回
杂质半导体
在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质，可使半导 体的导电性发生显著变化。掺入的杂质主要是三价或五价元 素。掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。
BJT的开关条件
工作状态
截止
条件
iB≈0
发射结和集 偏置情况 电结均为反
偏
工
集电极电 流
作
特
点 管压降
iC ≈ 0 VCEO ≈ VCC
很大，约为
c、e间等 数百千欧， 效内阻 相当于开关
断开
放大
0 < iB <
I CS
饱和
iB >
ICS
发射结正偏， 发射结和集 集电结反偏 电结均为正偏
ic ≈ iB
动画
半导体二极管的结构
二极管按结构分有点接触型、面PN接结触面积型小二，大结类电。容小，
(1) 点接触型二极管
用于检波和变频等高频电路。
(2) 面接触型二极管
PN结面积大，用 于大电流整流电路。
2.2 晶圆
通过芯片制造工艺，在圆硅片上已经形成 了芯片阵列的硅圆片，被称为“晶圆”。 “晶圆”有别于硅片，通常把还没有经过 芯片制造工艺的原始圆硅片简称为“硅 片”。
2.2.1 晶圆的表形构成
3.辅助测试结构
• 集成电路的辅助测试结构是对集成电路功能和 参数测试的补充，在进入大规模集成电路阶段 后，更显得必要性和重要性。
• 集成电路测试结构是为了提取集成电路的各种 参数而专门设计的，大致可以分为芯片制造过 程的工艺监控参数、过程质量控制参数、电路 设计模型参数和可靠性参数的提取。
半导体的共价键结构
硅和锗是四价元素，在原子最外层轨道上的四 个电子称为价电子。它们分别与周围的四个原子的 价电子形成共价键。
原子按一定规律整齐排列，形成晶体点阵后， 结构图为：
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
本征半导体、空穴及其导电作 用
本征半导体——完全纯净的、结构完整的半导体晶体。
2.2.2 晶体管基本原理和结构
晶体管是构成集成电路的重要有源基础器 件。要理解集成电路的原理和结构，就必 须了解晶体管的工作原理和结构。半导体 集成电路的晶体管有双极型和MOSFET型 两大类。
2.2.2 晶体管基本原理和结构
1.PN结和二极管
2.2.2 晶体管基本原理和结构
PN结具有重要的单向导电整流特性，即PN 结只允许电流沿一个方向流动。正向偏置 时，导电性很好，PN结电流随外加电压增 大而呈指数规律快速增大；反向偏置时， 导电性极差，PN结最初电流几乎为零，随 着外加反向电压增大，达到某一个临界电 压时，电流才迅速增加。