电镀铜工艺
电镀铜工艺-专业介绍
02 电镀铜工艺流程
前处理
01
02
03
表面清洁
去除工件表面的油污、锈 迹和杂质，确保工件表面 干净。
表面粗化
通过物理或化学方法对工 件表面进行粗化处理，增 加表面能，提高镀层附着 力。
敏化处理
在工件表面形成一层敏化 膜，提高工件与镀层的结 合力。
电镀铜
电解铜沉积
在电场作用下，铜离子在 工件表面还原成金属铜， 形成电镀层。
研究电镀铜层的微观结构和性能，以优化电镀铜工艺，提高镀层质量。
环保型电镀铜技术的推广与应用
推广无氰、低氰、低毒的电镀铜工艺，减少对环 境的污染和危害。
研发可回收再利用的电镀铜技术，降低资源消耗 和生产成本。
探索生物可降解的电镀铜添加剂，实现绿色环保 的生产方式。
电镀铜与其他表面处理技术的结合与创新
氰化电镀铜溶液含有剧毒的氰化物，需要严格的安全措施和废水处理。
焦磷酸盐电镀铜
焦磷酸盐电镀铜具有镀层均匀、 整平性好、结晶细致等特点，适
用于装饰性和功能性电镀。
适用于钢铁、锌合金、铝合金等 基材的电镀，具有良好的结合力
和耐腐蚀性。
焦磷酸盐电镀铜溶液稳定性较好， 但溶液成分复杂，维护成本较高。
预镀镍-铜-镍三层电镀
电镀铜工艺-专业介绍
目 录
• 电镀铜工艺简介 • 电镀铜工艺流程 • 电镀铜的种类与特性 • 电镀铜的环保问题与对策 • 电镀铜的发展趋势与未来展望
01 电镀铜工艺简介
电镀铜的定义
电镀铜是一种通过电解方法在金 属表面沉积一层铜的工艺过程。
电镀铜工艺利用电解池原理，通 过铜离子在阴极上还原成铜，形
成致密的铜镀层。
电镀铜层具有良好的导电性、耐 腐蚀性和装饰性，广泛应用于电 子、通讯、航空航天电子产品制造
《电镀铜技术》课件
目录
CONTENTS
• 电镀铜技术概述 • 电镀铜的工艺流程 • 电镀铜的设备与材料 • 电镀铜的环保与安全 • 电镀铜的发展趋势与未来展望
01 电镀铜技术概述
CHAPTER
电镀铜的定义
电镀铜是一种通过电解方法在金属表面沉积一层铜的过程。
电镀铜技术广泛应用于电子、航空航天、汽车、建筑等领域 。
分类处理
电镀铜废弃物应按照危险废物和一般废物的分类原则进行 分类处理。危险废物应交由有资质的单位进行处置，一般 废物可按照当地有关规定进行处置。
合理利用
对于可回收利用的电镀铜废弃物，应进行合理利用，减少 资源浪费。
规范处置
对于不能回收利用的电镀铜废弃物，应按照国家和地方有 关规定进行规范处置，防止对环境造成二次污染。 Nhomakorabea调整pH值
通过加入酸或碱调整溶液 的pH值，保持电镀液的稳 定性。
电镀铜的操作步骤
挂具准备
根据工件形状和大小，选择合适 的挂具，确保工件在电镀过程中 稳定悬挂。
电镀液的加热
将电镀液加热至适宜的温度，以 提高电镀效率和镀层质量。
通电电镀
将工件浸入电镀液中，通过直流 电源通电进行电镀。控制电流密 度、电镀时间和温度等参数，以 获得良好的镀层质量。
03
汽车行业
电镀铜被用于汽车零部件的制造 ，以提高耐腐蚀性和外观质量。
02
航空航天
电镀铜被用于制造高性能的航空 航天材料，以提高耐腐蚀性和导
电性。
04
建筑行业
电镀铜被用于建筑装饰和结构件 的制造，以提高耐腐蚀性和美观
度。
02 电镀铜的工艺流程
CHAPTER
前处理
表面清洁
镀铜工艺流程说明
锰离子是重金属离子，它旳存在会引起“钯中毒”，使钯离子或原子失去活化活 性，从而造成孔金属化旳失败。 所以，化学沉铜前必须清除锰旳存在。 在酸性介质中： 3MnO42-+4H+ = 2MnO4-+MnO2(↓)+2H2O 2MnO4- +5C2O42-+16H+ = 2Mn2++10CO2(↑)+8H2O C2O42-+MnO2+4H+ = Mn2++2CO2 (↑) +2H2O
Cu2+
・以Pd为媒介在基板銅表面和孔内进行还原反应，进行化学镀铜
Beijing
化学镀铜
基本构成
基板旳孔壁上形成Pd旳活化中心，这是化学沉 铜旳先决条件
(1) CuSO4 ・5H2O 主要反应物
(2) HCHO
主要反应物
(3) NaOH
氧化还原速度旳控制
络合剂 EDTA： 乙二胺四醋酸 罗谢尔盐 ：酒石酸钾钠
PNP2#线
电镀铜工程
Cleaner 酸浸渍 电镀铜
化学铜后
电镀铜后
Beijing 溶胀
目旳：溶胀环氧树脂，使其软化，为高锰酸钾去钻污作准备。
药液：溶胀液、NaOH
反应：
环氧树脂是高聚形化合物，具有优良旳耐蚀性。 其腐蚀形式主要有溶解、溶胀和化学裂解。 根据“相同相溶”旳经验规律，醚类有机物一般极性较弱，且有与环氧树脂有相同旳分子构造（R-O-R‘ ），所以对环氧树脂有一定旳溶解性。 因为醚能与水发生氢键缔合，所以在水中有一定旳溶解性。 所以，常用水溶性旳醚类有机物作为去钻污旳溶胀剂。
1、清除铜表面有机薄膜。假如不加 以处理，这层薄膜将使铜表面在活 化溶液中吸附大量旳钯离子，造成 钯离子旳大量挥霍； 2、因为薄膜旳存在，将降低基体铜 层与化学镀铜层旳结合力。经粗化 处理后，基体铜层形成微观粗糙表 面，增长结合力。 主要反应： Cu+Na2S2O8→CuSO4+Na2SO4
银铜合金电镀工艺
银铜合金电镀工艺
一、前处理
在开始电镀银铜合金之前，需要对基材进行彻底的前处理。
这包括清洁和预处理两个步骤。
清洁主要是去除基材表面的油脂、污垢和其他杂质，以确保基材表面的清洁度和良好的电接触。
预处理则包括对基材进行研磨和抛光，以增强其表面的粗糙度和附着力，从而更好地固定电镀层。
二、电镀铜
在完成前处理后，接下来是电镀铜的步骤。
这一步骤的目的是在基材表面形成一层均匀、光滑的铜层。
这一层铜层将作为后续电镀银层的基底，对于保证银铜合金的整体性能至关重要。
三、电镀银
在铜层形成后，下一步是电镀银。
在这一步骤中，需要在铜层表面形成一层均匀、光亮的银层。
这一过程需要精确控制电流密度、镀液温度和浓度等参数，以确保银层的厚度、硬度和耐腐蚀性等性能达到要求。
四、后处理
电镀银完成后，需要进行后处理以增强银铜合金的耐腐蚀性和提高其使用寿命。
后处理通常包括钝化、热处理和涂层等步骤。
钝化可以增强银铜合金的耐腐蚀性，而热处理则可以改善其物理性能。
根据需要，还可以在银铜合金表面涂覆保护层，以进一步增强其耐腐蚀性和耐磨性。
五、品质检测
最后一步是品质检测，这一步骤对于保证银铜合金电镀工艺的质量至关重要。
品质检测应包括对银铜合金的外观、附着力、厚度、耐腐蚀性和其他相关性能进行全面检测。
如果发现任何问题，应立即采取相应的措施进行修复或调整工艺参数。
通过持续改进和优化工艺参数，可以不断提高银铜合金电镀工艺的质量和效率。
电镀铜工艺流程及原理
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黄铜电镀工艺技术
黄铜电镀工艺技术黄铜电镀是一种常见的表面处理工艺，可以使黄铜制品具有更好的外观和耐腐蚀性。
下面将介绍黄铜电镀工艺技术的基本流程和注意事项。
首先，黄铜电镀的基本原理是利用电流将金属离子沉积在黄铜制品表面，形成一层金属镀层。
要进行黄铜电镀，首先需要准备一些黄铜制品和一些用于电镀的材料，如黄铜离子液和电镀设备。
接下来，将黄铜制品进行预处理。
预处理是非常重要的一步，它可以确保黄铜制品表面的清洁和平整度，以便更好地进行电镀。
预处理包括清洗、脱脂和酸洗等步骤。
清洗可以去除黄铜制品表面的污垢和油脂，脱脂可以去除黄铜制品表面的氧化物和其他有害物质，酸洗可以进一步清除黄铜表面的杂质，并提高电镀层的附着力。
然后，将预处理好的黄铜制品放入电镀槽中。
电镀槽中的黄铜离子液中含有黄铜离子和金属盐等物质。
黄铜离子会在电流的作用下被还原成金属离子，并沉积在黄铜制品表面形成金属镀层。
电镀过程中，要控制好电镀时间、电流和温度等参数，以确保金属镀层的质量和均匀度。
最后，经过一段时间的电镀，黄铜制品就可以取出并进行后处理。
后处理包括清洗和抛光等步骤，可以进一步提高金属镀层的亮度和平整度。
在黄铜电镀过程中，还有一些需要注意的事项。
首先，要确保电镀设备的安全和稳定性，遵守相关的操作规程和安全要求。
其次，要控制好电镀时间、电流和温度等参数，以避免产生镀层不均匀、镀层厚度不足或过厚等问题。
另外，还要注意防止黄铜离子液的污染和酸碱度的控制，以免影响电镀效果和镀层的质量。
总之，黄铜电镀是一种常见的表面处理工艺，可以提高黄铜制品的外观和耐腐蚀性。
正确的黄铜电镀工艺技术可以确保金属镀层的质量和均匀度，使黄铜制品更加美观和耐用。
电镀铜工艺原理
电镀铜工艺原理
电镀铜是一种常见的金属表面处理工艺，其主要原理是通过电解作用，在金属表面镀上一层均匀的铜膜，提高金属的质量和美观度。
在电镀铜的过程中，常用的电解液是含有铜离子的溶液。
在电极槽中，放置有被镀件作为阴极，以及被称为“铜源”的铜板或铜丝作为阳极。
在通电的情况下，铜离子从铜源中溶解出来，由电解液向阴极移动，并在阴极表面沉积下来，形成一层均匀的铜镀层。
电镀铜的质量和均匀性与电流密度、电解液浓度、温度、PH值等多个因素相关。
因此，在进行电镀铜之前，需要对电镀工艺参数进行仔细地调节和控制，以确保铜镀层的厚度和均匀性符合要求。
除了提高金属表面的美观度，电镀铜还具有很好的耐腐蚀性和导电性。
这使得电镀铜广泛应用于电子、电器、机械等行业中，尤其是在制造电子电路板、连接器、导电线路等方面发挥着重要作用。
然而电镀铜也存在一定的安全问题，如电镀液中含有有毒物质，通电时也需注意安全。
另外，电镀铜工艺也需要严格遵守环保法规，否则会对环境造成严重的污染。
综上所述，电镀铜是一种重要的金属表面处理工艺，其工艺参数调节、安全措施以及环保要求都是需要重视的。
只有加强对电镀铜工艺的研究和掌握，才能更好地发挥其作用，并在实践中不断完善和创新。
电镀铜工艺-专业介绍
电镀铜阳极表面积估算方法
圆形钛篮铜阳极表面积估算方法
— dlf /2
=3.14 d=钛篮直径 l=钛篮长度 f=系数
方形钛篮铜阳极表面积估算方法
— 1.33lwf
l=钛篮长度 w=钛篮宽度 f=系数
f与铜球直径有关:
直径=12mm f=2.2
对铜镀层的基本要求
对镀铜液的基本要求
鍍液穩定，便于維護，對雜質的容忍性高，對溫度
一致。
04
電流密度範圍寬，如在赫爾槽2A下，全板鍍層均勻
板的板厚孔徑比較大時，仍能達Ts:Th接近1：1。
03
单击此处添加正文，文字是您思想的提炼，为了演示发布的良好效果，请言简意赅地阐述您的观点。
密度下，也能得到均勻細致的鍍層，以保證在印制
為何不用電解銅或無氧銅作陽极???
銅粉多，陽极泥多。 鍍層易產生毛刺和粗糙。 銅离子濃度逐漸升高，難以控制。 添加劑消耗量大。 陽极利用率低。
磷銅陽极的特色
通電后磷銅表面形成一層黑色(或棕黑)的薄膜 黑色(或棕黑色)薄膜為Cu3P又稱磷銅陽极膜 磷銅陽极膜的作用 — 陽极膜本身對(Cu+--e→Cu2+)反應有催化、加速作用，從而 減少Cu+的積累。 — 陽极膜形成后能抑制Cu+的繼續產生 — 陽极膜的電導率為1.5X104 -1 cm-1具有金屬導電性 — 磷銅較純銅陽极化小(1A/dm2 P0.04-0.065%磷銅的陽极化 比無氧銅低50mv-80mv)不會導致陽极钝化。 — 陽极膜會使微小晶粒從陽級脫落的現象大大減少 — 陽极膜在一定程度上阻止了銅陽极的過快溶解
02
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电镀铜工艺n 铜的特性–铜,元素符号Cu,原子量63.5,密度8.89克/立方厘米,Cu2+的电化当量 1.186克/安时.–铜具有良好的导电性和良好的机械性能.–铜容易活化,能够与其他金属镀层形成良好的金属--金属间键合, 从而获得镀层间的良好结合力.电镀铜工艺的功能n 电镀铜工艺–在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电./厚度及防止导电电路出现热和机械缺陷性电镀铜工艺的功能n 电镀铜层的作用,5-8微米作为孔的化学沉铜层的加厚层,通过全板镀铜达到厚度–称为加厚铜.称为图形镀,其厚度可达20-25微米–作为图形电镀锡或镍的底层, .铜硫酸鹽酸性鍍銅的機理酸性鍍銅液各成分及特性簡介酸性鍍銅液成分g硫酸銅（CuSO4— .5H2O) —硫酸(H2SO4) 氯離子（Cl-) ——添加劑酸性鍍銅液各成分功能— CuSO4.5H2O ：主要作用是提供電鍍所需Cu2＋及提高導電能力— H2SO4 ：主要作用是提高鍍液導電性能，提高通孔電鍍的均勻性。
— Cl- ：主要作用是幫助陽極溶解，協助改善銅的析出，結晶。
—添加劑：主要作用是改善均鍍和深鍍性能，改善鍍層結晶細密性。
酸性鍍銅液中各成分含量對電鍍效果的影響— CuSO4.5H2O ：濃度太低，高電流區鍍層易燒焦；濃度太高，鍍液分散能力會降低。
— H2SO4 ：濃度太低，溶液導電性差，鍍液分散能力差。
濃度太高，降低Cu2+的遷移率，電流效率反而降低，並對銅鍍層的延伸率不利。
— Cl- ：濃度太低，鍍層出現台階狀的粗糙鍍層，易出現針孔和燒焦；濃度太高，導致陽極鈍化，鍍層失去光澤。
—添加劑：（後面專題介紹）操作條件對酸性鍍銅效果的影響g溫度—溫度升高，電極反應速度加快，允許電流密度提高，鍍層沉積速度加快，但加速添加劑分解會增加添加劑消耗，鍍層結晶粗糙，亮度降低。
—溫度降低，允許電流密度降低。
高電流區容易燒焦。
防止鍍液升溫過高方法：鍍液負荷不大于0.2A/L，選擇導電性能優良的挂具，減少電能損耗。
配合冷水機，控制鍍液溫度。
g電流密度—提高電流密度，可以提高鍍層沉積速率，但應注意其鍍層厚度分布變差。
g攪拌—陰極移動：陰極移動是通過陰極杆的往複運動來實現工件的移動。
移動方向與陽極成一定角度。
陰極移動振幅50－75mm，移動頻率10－15次/分—空氣攪拌無油壓縮空氣流量0.3-0.8m3 / min.m2打氣管距槽底3－8cm，氣孔直徑2 mm孔間距80－130 mm。
孔中心線與垂直方向成45o角。
g過濾PP濾芯、5－10mm過濾精度、流量2－5次循環/小時g陽極磷銅陽極、含磷0.04-0.065%操作條件對酸性鍍銅效果的影響磷銅陽极的特色g 通電后磷銅表面形成一層黑色(或棕黑)的薄膜g 黑色(或棕黑色)薄膜為Cu3P又稱磷銅陽极膜g 磷銅陽极膜的作用—陽极膜本身對(Cu+--e→Cu2+)反應有催化、加速作用，從而的積累。
減少Cu+ 的繼續產生陽极膜形成后能抑制Cu+—-1 cm-1具有金屬導電性陽极膜的電導率為— 1.5X104ê磷銅的陽极化—磷銅較純銅陽极化小(1A/dm2 P0.04-0.065% 比無氧銅低50mv-80mv)不會導致陽极钝化。
—陽极膜會使微小晶粒從陽极脫落的現象大大減少—陽极膜在一定程度上阻止了銅陽极的過快溶解电镀铜阳极表面积估算方法 g 圆形钛篮铜阳极表面积估算方法— pdlf /2 f=系数l=F p=3.14 d=钛篮直径钛篮长度 g 方形钛篮铜阳极表面积估算方法— 1.33lwf f=系数l=钛篮长度w=钛篮宽度 :g f与铜球直径有关 =12mm f=2.2直径 =25mm f=1.7直径=15mm f=2.0 直径 =28mm f=1.6 直径直径=38mm f=1.2磷铜阳极材料要求规格 g 主成份– Cu : 99.9% min – P : 0.04-0.065% g 杂质– Fe : 0.003%max – S : 0.003%max Pb : 0.002%max– Sb : 0.002%max–Ni : 0.002%max–– As : 0.001%max影響陽极溶解的因素 )之間陽极面積g (即陽极電流密度控制在0.5ASD-1.5ASD 陽极袋)(聚丙烯g陽极及陽极袋的清洗方法和頻率g添加剂对电镀铜工艺的影响 -载体g吸附到所有受镀表面, 增加从而改变分布不表面阻抗, 良情况. 抑制沉积速率整平剂-g选择性地吸附到受镀表面抑制沉积速率＊各添加剂相互制约地起作用g 光亮剂-选择性地吸附到受镀表面,,从而恶化分降低表面阻抗 .布不良情况提高沉积速率 -g 氯离子增强添加剂的吸附电镀层的光亮度 (b)的机理c载体() /光亮剂(c)快速地吸附到所有受镀表面并均一地抑制电沉积载体 .光亮剂(b)吸附于低电流密度区并提高沉积速率n的交互作用导致产生均匀的表面光亮度和光亮剂n 载体(c)(b)电镀的整平性能的机理)l(整平剂),c(载体(b),光亮剂．载体抑制沉积而光亮剂加速沉积整平剂抑制凸出区域的沉积整平剂扩展了光亮剂的控制范围电镀铜镀层厚度估算方法 (mil)电镀铜镀层厚度估算方法电镀时间(分钟) / 114电镀阴极电流密度— (ASD) Xm1 mil = 25.4 μ电镀铜溶液的分散能力(Throwing Power)电镀铜溶液–电镀铜溶液的电导率硫酸的浓度温度硫酸铜浓度–添加剂–(d)(L),–板厚度孔径）2 /（孔径inch）：（板厚L2/d inch提高电流密度: 搅拌 .表面分布也受分散能力影响的测定方法Throwing Power g(Throwing Power)电镀铜溶液的分散能力电镀铜溶液和电镀线的评价g电镀铜溶液和电镀线的评价的测定方法Throwing Power电镀铜溶液和电镀线的评价g 延展性—用不锈钢片在镀槽或延展性测试槽镀上2mil 铜片..把铜片烘2小时130oC—再以 .—用延展性测试机进行测试热冲击测试g —测试步骤 '裁板16''x18'(1) 进行钻孔；(2)经电镀前处理磨刷；(3)电镀；(4) Desmear + PTH +(5) 经电镀后处理的板清洗烘干； 100mm x 100mm测试板；(6) 每片板裁上、中、下3小片电镀铜溶液和电镀线的评价热冲击测试g4小时. —以120oC烘板秒. 把板浸入288oC铅锡炉10— .—以切片方法检查有否铜断裂电镀铜溶液的控制–硫酸铜浓度硫酸浓度–氯离子浓度––槽液温度监控添加剂含量Hull Cell用–．–镀层的物理特性(延展性/抗张强度)分析项目g并维持在最佳范围内生产上述项目须定期分析,电镀铜溶液的控制赫尔槽试验(Hull Cell Test)g电镀铜溶液的控制(Hull Cell Test)参数g 赫尔槽试验电流: 2A—: 10分钟—时间空气搅拌搅拌: —室温温度: —电镀铜溶液的控制赫尔槽试验g (Hull Cell Test)----Copper Gleam 125T-2(CH),中高电流密度区无光泽高电流密度区烧焦非常低Additive2-3ml/l Copper Gleam 125T-2(CH) Additive改正方法:添加电镀铜溶液的控制(Hull Cell Test)g 赫尔槽试验----Copper Gleam125T-2(CH),试片的其它区域仍然正常仅高电流密度区烧焦低Additive改正方法:添加1ml/l Copper Gleam 125T-2(CH) Additive电镀铜溶液的控制赫尔槽试验(Hull Cell Test)g整个试片光亮度降低高电流密度区呈不适当氯离子含量条纹沉积, 如有需要请作调整:改正方法分析氯离子含量,电镀工艺过程—酸性除油酸性除油的主要作用為除去輕度氧化及輕度污漬和手印。
流程说明 )(10%—浸酸硫酸。
,此酸通常為10%除去經過水洗后板面產生的輕微氧化电镀铜 :特性及优点Copper Gleam 125T-2(CH) 镀层有光泽而平均1. 2.特佳孔内覆盖能力 3.特佳的分布能力 4.优良的镀层物理特性易于分配及控制5.镀层特性 /厘米导电性0.59微姆欧延展性16-20% /立方厘米密度8.9克30-35Kg/mm2抗拉强度可焊性非常好结构高纯细致等轴晶粒之镀液于投Gleam 125T-2(CH)次而镀层无裂痕) 可抵受5Copper 秒热冲击(288℃ 10以确保能镀出品质促使铜阳极上能形成一均匀之阳极膜, 入生产前需作假镀处理,24) 电镀安培14~20 ASF (约0.2/公升用优良之镀层。
假镀之程序为先以假镀板,假镀板每安培小时每公升溶液。
为避免过厚镀层剥落在电镀槽液5, 小时直至达到镀液便可作生产之用。
, 小时更换。
当完成假镀程序后2~4．电镀线配线方法设备准备程序槽子的清洗并随后用硫酸溶液中和。
工艺槽及附属设备必须彻底清洁,在配槽之前, 本清洗程序更显得重要。
对于新设备或先前使用其它工艺的设备, 20-50ml/l清洁液──氢氧化钠20-50g/l 中和液──硫酸程序用清水清洗各缸及其附属设备A. 如有打气及过滤系统则开启B.各缸注满清水浸洗, )清洗(无需加滤芯排走废水C. 小时浸洗8 D.加入清洁液(NaOH 20-50g/l)到槽内, ,并开启所有打气及过滤泵。
以上 E.排走氢氧化钠清洁液 ,清洗干净。
F.注入清水 G.排走废水小时以,浸洗8 加入中和液H.(H2SO4 20-50ml/l)到槽内并开启所有打气及过滤泵。
上, 排走硫酸溶液I. ,排走废水。
再以清水清洗J. 清洗整套设备。
,各槽注满清水浸洗,开启打气及过滤泵K. 槽子已清洗完毕。
L.排走废水, 新阳极袋的清洗℃左右将阳极袋放入该溶液50g/l 用氢氧化钠溶液加热至50A.小时。
中浸泡8 取出阳极袋用清水清洗干净。
B.C. 用100ml/l 硫酸溶液浸泡8 小时以上。
D. 用纯水彻底清洗干净。
阳极篮的清洗A. 用50g/l 氢氧化钠溶液加热至50℃左右，将阳极篮放入8 小时。
该溶液中浸泡 B. 取出阳极篮用清水清洗干净。
8 小时以上C. 用100ml/l 硫酸溶液浸泡 D. 用纯水彻底清洗干净聚丙烯过滤芯的清洗 A. 以热纯水清洗 8 小时以上以100ml/l 硫酸浸泡B.C. 用纯水彻底清洗干净新铜阳极的清洗小时以上50g/l 氢氧化钠溶液浸泡8 A.用用清水冲洗干净B. 阳极呈鲜红色即可。
双氧水浸泡,硫酸C.再以50ml/l +50ml/lD.用清水清洗干净 100 ml/l 硫酸浸泡E.用F.用纯水彻底冲洗干净即可使用配槽步骤Copper Gleam 125T-2(CH)计算配槽所需的已碳处理好的硫酸铜浓缩液的a.DI 水至60%液位。