化学电镀铜工艺介绍

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电镀铜-应用领域
在装饰上的应用 镀镍的中间层 印刷线路板 电铸 阻止钢铁表面硬化 印刷滚轮和印刷板 拔丝润滑剂 减小电阻 修理和抢救
电镀铜-体系
酸性镀铜 硫酸盐镀铜 氟硼酸盐镀铜
碱性镀铜 氰化物镀铜 焦磷酸盐镀铜
硫酸盐镀铜体系
优点 杂质容忍能力 最简单的化学反应 较宽的操作范围 成本低 良好的微观分散能力

焦磷酸盐镀铜
碱性镀液
对于钢材和ZBDC需要预镀铜 分散能力非常好
操作成本高
没有氰化物的环境污染问题 不需要特殊的阳极 空气搅拌要求严格
焦磷酸盐镀铜
镀液组成和操作条件:
焦磷酸铜 (Cu2P2O7) 焦磷酸钾 (K4P2O7) 氢氧化铵 添加剂 pH值 温度 阴极电流密度 (安培/分米2) 搅拌 阴极电流效率 75 g/L 250 g/L 3.5 ml/L 选择性 8.6-9.2 50-55°C 3.5-4 强力空气搅拌 100%
焦磷酸盐镀铜-各成分作用
焦磷酸铜
提供铜离子 42%的铜为金属形式
焦磷酸钾
提高镀液电导率 协助阳极腐蚀 辅助形成致密的镀层
氢氧化铵
调节镀液pH值 帮助添加剂起作用
焦磷酸盐镀铜-问题解决
光亮性差 - 氨水浓度低 - 氰化物污染 – 用H2O2除去 - 光亮剂少
低电流密度区域镀层发暗 - 温度过高 - 氨水过量 – 升高温度 高电流密度区域烧焦 搅拌不足 温度太低 电流密度太高 焦磷酸盐浓度低 铜离子浓度低
氰化镀铜-镀液污染
有机物 碳酸盐 铬 - 油, 油脂, 抛光物等 - 采用活性炭处理除去 - 能降低阴极电流效率并造成镀层粗糙 - 冷却除去 - 造成针孔、烧焦或部分镀不上 - 采用添加剂络合
氰化铁
- 和没有包覆的铁槽的铁反应得到 - 会导致阳极极化和镀层粗糙 - 冷却除去
- 从铸造模具脱落的锌 - 会导致镀层不连续 - 以0.5安培/分米2电镀除去
镀层不连续 镀层发暗,发脆
- 光亮剂浓度高 - 有机物污染 –活性炭处理
有暗点
- 有六价铬 – 以1安培/分米2电介镀出
CUPRALYTE 1545
氰化镀铜工艺 主要应用在铜锌铝合金(zamac)工件 含钾体系 可以负担更高的电流密度 镀层纹理细密 镀层光亮
CUPRALYTE 1545
预镀 10 10 0.5-1.0 50
50-70
普通 20 15 30 10 0.5-2.5 55
50-70
高效率 25-30 40 50 10 2-3 60
75-80
滚镀 40 25-30 0.1-0.4 55
变化
温和空气搅拌或移动阴极搅拌
氰化物镀铜
各组分作用
氰化铜 自由氰根 提供铜离子 可能是氰化钾或氰化纳 形成可溶的铜的络合物 防止铜的过分沉积 腐蚀阳极 提高镀液电导率
乐思化学电镀铜工艺介绍

元素符号 原子量 化合价: Cu 63.54
+1, +2
较软,易延展的红色金属 良好的传导性 (导电和导热) 铜是最常用的电镀金属之一
电镀铜-特点
覆盖能力强,是极好的打底镀层 镀液电流效率高,且具有相当惰性 铜镀层导电性好,用在印刷线路板尤其合适 铜镀层可以吸收热应力,作为热胀阻挡层,对 塑料基材特别有效
缺点 温度要求严格 对于许多基础金属要求 预镀沉积底层 镀液有腐蚀性 需要使用含磷的阳极
电镀液组成和操作条件
范围
硫酸铜 (g/L) 硫酸 (g/L) 氯化物 (ppm) 添加剂 阳极电流密度 (A/dm2) 200-220 75-80 80 有 2-8
温度
阳极 搅拌
15-40°C
磷铜 空气
CUPROSTAR 1525
酸性镀铜 应用在塑料镀POP上 整平性好 光亮性好 走位能力好 延展性好
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Thank You!
表现卓越的专业化学品公司
阴极电流效率
98-100%
硫酸盐镀铜各成分的作用
硫酸铜
提供铜离子
硫酸
提高镀液电导率, 溶解阳极
氯离子
保证有机添加剂起作用
添加剂
装饰性的 轮转影印 印刷电路
得到光亮、平整、易延展、低内应力的镀层。 得到平整、硬度均一的低内应力镀层。 得到无内应力的镀层,提高分散能力以便在 孔内也能得到平整镀层,同时镀层必需耐热。
酸性硫酸盐镀铜-问题解决
烧焦 金属离子少 温度低 酸度低 有机污染 氯离子浓度 低(低于 60 ppm) 氯离子浓度高 (高于 130 ppm) 铁离子污染 温度低 阳极不合适 缺少光亮剂
针孔
条纹
阳极极化
镀层发暗
氰化物镀铜
镀液组成和操作条件:
挂镀
金属铜 (g/L) 自由氰化钠 自由氰化钾 酒石酸钾 氢氧化纳或氢氧化钾 阴极电流密度 (A/dm2) 温度(°C) 搅拌 电流效率 (%)
铜浓度低 ► 废水处理成本低 操作温度低 ► 能耗低 维护仅需两种添加剂 ► 控制简单
ຫໍສະໝຸດ Baidu
CUPROSTAR 1560
酸性镀铜 用在POP塑料镀,锌压铸件,铜基材 整平性高 光亮性好 走位能力佳
CUPROSTAR 1560
可以在较高温度操作 消耗率低 可以通过赫尔槽打片,来控制槽液 在镀镍前,该铜镀层可以很容易活化


酒石酸钾
氢氧化纳或氢氧化钾
辅助腐蚀阳极 辅助形成细密的镀层
提高分散能力 提高镀层光亮度 提高镀液电导率 减小阳极极化 氢氧化钾提高阴极电流效率
氰化镀铜-问题解决
蓝色或蓝绿色镀液
缺少自由氰根
一般琥珀色但有极化
缺少腐蚀性盐或酒石酸钾
产生气体过多
“自由”氰根浓度过高 铜离子浓度低 温度低
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